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Comme nous le savons tous,Tantalum Carbure (TAC)a un point de fusion jusqu'à 3880 ° C, résistance mécanique élevée, dureté, résistance aux chocs thermiques; Bonne inertie chimique et stabilité thermique à l'ammoniac, à l'hydrogène, à la vapeur contenant du silicium à des températures élevées.
Revêtement en carbure de tantale sur une section transversale microscopique
Revêtement CVD-TAC, dépôt chimique en phase vapeur (CVD) derevêtement en carbure de tantale (TAC), est un processus pour former un revêtement haute densité et durable sur un substrat (généralement du graphite). Cette méthode consiste à déposer du TAC à la surface du substrat à des températures élevées, ce qui entraîne un revêtement avec une excellente stabilité thermique et une résistance chimique.
Les principaux avantages des revêtements TAC CVD comprennent:
● Stabilité thermique extrêmement élevée: Le revêtement en carbure de tantale peut résister à des températures supérieures à 2200°C.
● Résistance chimique: Le revêtement CVD TaC peut résister efficacement aux produits chimiques agressifs tels que l'hydrogène, l'ammoniac et la vapeur de silicium.
● Forte adhérence: Le revêtement TaC assure une protection longue durée sans délaminage.
● Haute pureté: minimise les impuretés, ce qui le rend idéal pour les applications de semi-conducteurs.
Propriétés physiques du revêtement en carbure de tantale |
|
Densité de revêtement TAC |
14,3 (g/cm³) |
Émissivité spécifique |
0.3 |
Coefficient de dilatation thermique |
6,3*10-6/ K |
Dureté du revêtement (HK) |
2000 Hong Kong |
Résistance |
1 × 10-5Ohm * cm |
Stabilité thermique |
<2500℃ |
Modifications de la taille du graphite |
-10 ~ -20UM |
Épaisseur du revêtement |
Valeur typique ≥20um (35um±10um) |
Ces revêtements conviennent particulièrement aux environnements qui nécessitent une durabilité et une résistance élevées aux conditions extrêmes, telles que la fabrication de semi-conducteurs et les processus industriels à haute température.
Dans la production industrielle, le graphite (composite carbone-carbone) les matériaux recouverts d'un revêtement TaC sont très susceptibles de remplacer le graphite traditionnel de haute pureté, le revêtement pBN, les pièces avec revêtement SiC, etc. De plus, dans le domaine de l'aérospatiale, le TaC a un grand potentiel pour être utilisé comme anti-oxydation à haute température et un revêtement anti-ablation, et a de larges perspectives d'application. Cependant, il reste encore de nombreux défis à relever pour parvenir à la préparation d’un revêtement TaC dense, uniforme et non écaillé sur la surface du graphite et promouvoir une production industrielle de masse.
Dans ce processus, l'exploration du mécanisme de protection du revêtement, l'innovation du processus de production et la concurrence avec le haut niveau étranger sont cruciaux pour la troisième générationCroissance des cristaux semi-conducteurs et épitaxie.
Vetek Semiconductor est un fabricant chinois professionnel de produits de revêtement en carbure de Tantalum CVD, et notre pureté de revêtement TAC est inférieure à 5 ppm, peut répondre aux exigences des clients. VeteKsemi Main CVD TAC TAC revêtu de produits inclus Creuset de revêtement CVD TaC, Support de plaquette de revêtement CVD TaC, CVD TAC TACTING Carrier, Couverture de revêtement CVD TaC, CVD TAC TACAT RING. VeTek Semiconductor s'engage à fournir des solutions avancées pour divers produits de revêtement destinés à l'industrie des semi-conducteurs. VeTek Semiconductor espère sincèrement devenir votre partenaire à long terme en Chine.
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