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Produits en vedette : nous fournissons des produits et des services techniques de haute qualité aux clients.

À propos de nous

À propos de nous

WuYi TianYao nouveau matériau Tech.Co., Ltd.
WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd., fondée en 2016, est l'un des principaux fournisseurs de matériaux de revêtement avancés pour l'industrie des semi-conducteurs. Notre fondateur, un ancien expert de l'Institut des matériaux de l'Académie chinoise des sciences, a créé l'entreprise en mettant l'accent sur le développement de solutions de pointe pour l'industrie.

Nos principales offres de produits comprennentRevêtements CVD en carbure de silicium (SiC), revêtements en carbure de tantale (TaC), SiC en vrac, poudres de SiC et matériaux SiC de haute pureté. Les principaux produits sont le suscepteur en graphite enduit de SiC, les anneaux de préchauffage, l'anneau de dérivation enduit de TaC, les pièces en demi-lune, etc., la pureté est inférieure à 5 ppm, peut répondre aux exigences des clients.

150

Employés

12

Lignes de production

2

Bases de production

2

Centres de R&D

Voir plus
VeTek est le professionnel du revêtement de carbure de silicium, du revêtement de carbure de tantale, du fabricant et fournisseur de graphite spécial en Chine. Vous pouvez être assuré d'acheter les produits de notre usine et nous vous offrirons un service après-vente de qualité.

Nos prestations

CNC Machining

Usinage CNC

Material Sintering

Frittage de matériaux

Material Purification

Purification des matériaux

CVD Coating

Revêtement CVD

Material Testing

Tests de matériaux

Nos avantages

Les matériaux avancés changent l’avenir. Vise à devenir le principal innovateur mondial en matière de matériaux semi-conducteurs.

Advanced Equipment & Testing Capacity

Équipement avancé et capacité de test

Nous exploitons 12 lignes de production avancées avec plus de 80 ensembles d’équipements CVD et d’inspection de pointe pour garantir une production de masse stable et un contrôle qualité strict.

Dual R&D Centers & Deep Expertise

Doubles centres de R&D et expertise approfondie

Fondées par un ancien professeur du CAS avec un investissement annuel de plus de 30 % en R&D, nos doubles plates-formes de R&D comblent avec succès le fossé entre la recherche sur les mécanismes sous-jacents et la mise à l'échelle industrielle.

Strategic Industry Recognition

Reconnaissance stratégique de l'industrie

En tant qu'entreprise guide reconnue dans la chaîne industrielle des circuits intégrés, VeTek Semiconductor a reçu des investissements en capital stratégiques de la part de plusieurs leaders cotés de premier plan dans le secteur des semi-conducteurs.

High-Purity & High-Barrier Solutions

Solutions de haute pureté et haute barrière

Nous fournissons des revêtements et des composants CVD de haute pureté et résistants à la température qui prolongent efficacement les durées de vie et optimisent les coûts de production pour les clients mondiaux des semi-conducteurs et du photovoltaïque.

PRÉSENTATION DE L'USINE

VeTek Semiconductor exploite deux centres de recherche et développement, intégrant des capacités de R&D et de production. Dispose actuellement de 2 bases de production, 12 lignes de production, plus de 150 employés, la R&D représente plus de 30 %, notre équipe se concentre sur la technologie, la production, les ventes et la gestion des opérations, et possède une forte capacité globale. La disposition des produits est principalement utilisée dans les industries LED, circuits intégrés IC, semi-conducteurs de troisième génération, photovoltaïque et autres.

CE QUE DISENT NOS CLIENTS

WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY

CHAMP D'APPLICATION

APPLICATION FIELD
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FAQ

Q1 : Vos produits de revêtement et composants solides peuvent-ils être entièrement personnalisés selon nos plans ?

R : Oui, la personnalisation absolue est notre principale force. Nous fournissons un usinage personnalisé de bout en bout basé sur vos dessins précis, en sélectionnant les substrats les plus appropriés et en les associant à des revêtements CVD SiC ou TaC à haute uniformité pour s'adapter parfaitement à votre équipement semi-conducteur.

Q2 : Comment garantissez-vous la haute pureté requise pour les matériaux de qualité semi-conductrice ?

R : Nous mettons en œuvre un contrôle strict des matières premières et des processus avancés de purification à haute température. Tous les éléments sont analysés à l'aide d'équipements de test professionnels tels que ICP-OES et GDMS pour garantir que nos revêtements et composants en graphite répondent aux normes ultra-pures et sans particules de l'industrie des puces.

Q3 : De quel système de gestion de la qualité et certifications industrielles disposez-vous ?

R : Notre usine de production fonctionne en stricte conformité avec le système de gestion de la qualité ISO9001. De l’usinage du substrat au processus final de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), chaque étape est soumise à des contrôles rigoureux de précision dimensionnelle et de surface avant expédition.

Q4 : Soutenez-vous les tests d’échantillons avant de passer des commandes groupées, et quel est le processus ?

R : Oui, nous acceptons l’évaluation d’échantillons pour les suscepteurs personnalisés, les bateaux à plaquettes ou les plaquettes factices. Vous pouvez fournir vos paramètres opérationnels spécifiques ou modèles d'équipement (tels que LPE, Aixtron ou ASM), et nous vous livrerons un échantillon d'essai pour garantir qu'il répond à vos exigences thermiques et de processus.

Q5 : Quel est votre délai de production typique pour les produits standard et personnalisés ?

R : Pour les configurations standard ou l’inventaire disponible, nous expédions immédiatement. Pour les articles personnalisés nécessitant un usinage de précision et un traitement de revêtement CVD, les délais de livraison varient généralement de 3 à 6 semaines, en fonction de la complexité de la conception et du volume du lot.

Q6 : Quel type de support technique après-vente fournissez-vous aux clients internationaux ?

R : Nous proposons des conseils techniques en ligne 24h/24 et 7j/7 pour vous aider à optimiser vos champs thermiques et la durée de vie de vos composants. Si des problèmes opérationnels ou des fluctuations de concentration surviennent lors de l'intégration du processus, nos ingénieurs R&D travailleront avec vous à distance pour vous fournir des solutions rapides et pratiques.

Nouvelles

  • Accueillez les clients pour visiter l'usine de produits en fibre de carbone de Veteksemicon
    2025-09-10
    Accueillez les clients pour visiter l'usine de produits en fibre de carbone de Veteksemicon

    Le 5 septembre 2025, un client polonais a visité une usine sous VETEK pour en savoir plus sur nos technologies avancées et nos processus innovants dans la production de produits en fibre de carbone.

  • ​À l'intérieur de la fabrication de bagues de mise au point CVD SiC solides : du graphite aux pièces de haute précision
    2026-01-23
    ​À l'intérieur de la fabrication de bagues de mise au point CVD SiC solides : du graphite aux pièces de haute précision

    Dans le monde aux enjeux élevés de la fabrication de semi-conducteurs, où coexistent précision et environnements extrêmes, les bagues de mise au point en carbure de silicium (SiC) sont indispensables. Connus pour leur résistance thermique, leur stabilité chimique et leur résistance mécanique exceptionnelles, ces composants sont essentiels aux processus avancés de gravure au plasma. Le secret de leurs hautes performances réside dans la technologie Solid CVD (Chemical Vapor Deposition). Aujourd'hui, nous vous emmenons dans les coulisses pour explorer le parcours de fabrication rigoureux, d'un substrat de graphite brut à un « héros invisible » de haute précision de l'usine.

  • VETEK participera au SEMICON Europa 2025 à Munich, en Allemagne
    2025-11-20
    VETEK participera au SEMICON Europa 2025 à Munich, en Allemagne

    En 2025, l'industrie européenne des semi-conducteurs se réunira à nouveau au plus grand salon des semi-conducteurs SEMICON Europa à Munich du 18 au 21 novembre.

  • Substrat vs épitaxie : rôles clés dans la fabrication de semi-conducteurs
    2026-08-21
    Substrat vs épitaxie : rôles clés dans la fabrication de semi-conducteurs

    Dans la fabrication moderne de puces, le substrat fournit un support physique et un chemin de dissipation thermique, tandis que la couche épitaxiale détermine les limites de performances électriques du dispositif. Cet article fournit une analyse approfondie des différences fondamentales entre les substrats de silicium monocristallin et de carbure de silicium et les processus épitaxiaux CVD/MBE, et révèle comment la technologie épitaxiale améliore les performances des dispositifs haute fréquence et haute tension en réduisant la densité des défauts et en intégrant l'ingénierie des contraintes. Que vous soyez ingénieur procédés ou décideur en approvisionnement, ce guide vous aidera à identifier rapidement la stratégie de sélection de plaquettes la plus adaptée.

  • Pourquoi l'anneau de graphite recouvert de carbure de tantale poreux (TaC) est-il essentiel pour une croissance fiable des cristaux de SiC
    2026-08-20
    Pourquoi l'anneau de graphite recouvert de carbure de tantale poreux (TaC) est-il essentiel pour une croissance fiable des cristaux de SiC

    L'anneau de graphite revêtu de carbure de tantale poreux (TaC) est un composant de champ thermique spécialisé conçu pour la croissance monocristalline SiC par transport physique de vapeur (PVT). En combinant du graphite poreux de haute pureté avec un revêtement dense en carbure de tantale CVD, il offre une stabilité à haute température, une protection contre la corrosion, une répartition contrôlée de la chaleur et une faible contamination. Cet article explique sa structure, ses avantages techniques, ses applications, ses spécifications et ses considérations de sélection pour les équipements de croissance de cristaux de semi-conducteurs et SiC.

  • Personnalisation des fixations spéciales en graphite GTMS/CTMS : solution d'usinage profond par micro-trous
    2026-08-13
    Personnalisation des fixations spéciales en graphite GTMS/CTMS : solution d'usinage profond par micro-trous

    Ciblant les processus de scellement hermétique GTMS/CTMS, VeTek propose des solutions de fixations spéciales en graphite personnalisées avec 1 500 micro-trous densément disposés par 0,01 ㎡. Correspondant précisément au CTE de l'alliage Kovar, surmontant le défi du micro-usinage multi-trous sur 10 mois, atteignant un contrôle zéro défaut au niveau du micron et une livraison d'ingénierie à guichet unique.

  • Pourquoi le bateau à plaquettes de quartz de haute pureté pour TEL devient-il essentiel pour la fabrication avancée de semi-conducteurs
    2026-08-07
    Pourquoi le bateau à plaquettes de quartz de haute pureté pour TEL devient-il essentiel pour la fabrication avancée de semi-conducteurs

    Dans l'industrie des semi-conducteurs en évolution rapide, les matériaux de précision déterminent directement la qualité du traitement des plaquettes et l'efficacité de la production. VETEK propose des solutions de bateau à plaquettes de quartz de haute pureté hautes performances conçues pour les processus avancés de fabrication de semi-conducteurs, offrant une excellente stabilité thermique, une résistance chimique et un contrôle de la contamination pour les environnements exigeants de fabrication de plaquettes.

  • Résoudre le jaunissement des bords du revêtement SiC pour augmenter le rendement CVD de 50 % à 90 %
    2026-08-05
    Résoudre le jaunissement des bords du revêtement SiC pour augmenter le rendement CVD de 50 % à 90 %

    Analyse approfondie des causes du jaunissement des bords et du pelage du revêtement de carbure de silicium sur les suscepteurs de graphite d'épitaxie MOCVD. VeTek a éliminé les micro-stress en contrôlant avec précision le taux de dépôt CVD initial et le champ d'écoulement, augmentant ainsi le rendement du revêtement de 50 % à 90 % et prolongeant la durée de vie des pièces en graphite de haute pureté.

  • Comment résoudre les variations élevées d'une poche à l'autre dans les suscepteurs de graphite pour épitaxie de silicium multi-poches ?
    2026-08-03
    Comment résoudre les variations élevées d'une poche à l'autre dans les suscepteurs de graphite pour épitaxie de silicium multi-poches ?

    Répondant à une variation d'épaisseur de 1,4 % d'une poche à l'autre dans les suscepteurs de graphite pour épitaxie de silicium multi-poches, VeTek Semi a amélioré la planéité du suscepteur à < 0,08 mm et réduit la variation à 0,69 % grâce à la simulation du champ d'écoulement CVD et au revêtement SiC ultra-précis, augmentant ainsi le rendement des tranches.

  • Analyse de fissuration du suscepteur de graphite revêtu de SiC MOCVD et étude de cas d'optimisation des contraintes thermiques
    2026-07-30
    Analyse de fissuration du suscepteur de graphite revêtu de SiC MOCVD et étude de cas d'optimisation des contraintes thermiques

    Découvrez comment Vetek a éliminé la fissuration radiale dans les suscepteurs en graphite MOCVD de grande taille à revêtement SiC. La refonte du tampon de contrainte structurelle et la correspondance CTE ont augmenté la durée de vie de 300 %+.

  • De 4 pouces à 8 pouces : une décennie de croissance des semi-conducteurs SiC
    2026-07-25
    De 4 pouces à 8 pouces : une décennie de croissance des semi-conducteurs SiC

    Une décennie d'évolution du SiC — depuis les premiers défis de commercialisation du 4 pouces jusqu'à la transition actuelle vers les tranches de 8 pouces. Découvrez comment les revêtements CVD SiC, les matériaux Solid SiC et TaC permettent une fabrication fiable de semi-conducteurs.

  • VETEK Semi-conducteur | Fabricant de revêtements CVD SiC/TaC, de SiC solide et de matériaux semi-conducteurs critiques
    2026-07-23
    VETEK Semi-conducteur | Fabricant de revêtements CVD SiC/TaC, de SiC solide et de matériaux semi-conducteurs critiques

    VETEK Semiconductor est spécialisé dans six grandes catégories de produits, notamment les revêtements CVD SiC, les revêtements CVD TaC, le Solid SiC, le graphite et la fibre de carbone de haute pureté, le quartz et les céramiques avancées, ainsi que les plaquettes semi-conductrices. Nos produits servent à des processus critiques de semi-conducteurs tels que l'épitaxie, la gravure et la croissance cristalline. Avec deux plates-formes de R&D, un système de fabrication entièrement intégré et des capacités d'approvisionnement mondiales, nous sommes reconnus comme une « petite entreprise géante » nationale spécialisée et sophistiquée.

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