Des produits

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VeTek est un fabricant et fournisseur professionnel en Chine. Notre usine fournit de la fibre de carbone, des céramiques de carbure de silicium, de l'épitaxie de carbure de silicium, etc. Si vous êtes intéressé par nos produits, vous pouvez vous renseigner maintenant et nous vous répondrons dans les plus brefs délais.
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Creuset de quartz semi-conducteur

Creuset de quartz semi-conducteur

Les creusets en quartz de qualité semi-conducteur Veteksemicon sont des consommables clés dans le processus de croissance monocristallin Czochralski. Avec une pureté extrême et une stabilité thermique supérieure comme objectif principal, nous nous engageons à fournir à nos clients des produits de haute qualité qui présentent des performances stables et une excellente résistance à la cristallisation dans des environnements à haute température et haute pression. Cela garantit la qualité des tiges de cristal provenant de la source, aidant ainsi la fabrication de plaquettes de silicium semi-conductrices à atteindre des rendements plus élevés et une meilleure rentabilité.
Bague de mise au point en carbure de silicium

Bague de mise au point en carbure de silicium

La bague de mise au point Veteksemicon est conçue spécifiquement pour les équipements de gravure de semi-conducteurs exigeants, en particulier les applications de gravure SiC. Monté autour du mandrin électrostatique (ESC), à proximité immédiate de la tranche, sa fonction principale est d'optimiser la répartition du champ électromagnétique dans la chambre de réaction, garantissant une action plasma uniforme et ciblée sur toute la surface de la tranche. Une bague de mise au point haute performance améliore considérablement l'uniformité du taux de gravure et réduit les effets de bord, augmentant ainsi directement le rendement du produit et l'efficacité de la production.
Plaque de support en carbure de silicium pour gravure LED

Plaque de support en carbure de silicium pour gravure LED

La plaque support en carbure de silicium Veteksemicon pour la gravure LED, spécialement conçue pour la fabrication de puces LED, est un consommable essentiel dans le processus de gravure. Fabriqué à partir de carbure de silicium de haute pureté fritté avec précision, il offre une résistance chimique exceptionnelle et une stabilité dimensionnelle à haute température, résistant efficacement à la corrosion causée par les acides forts, les bases et le plasma. Ses propriétés de faible contamination garantissent des rendements élevés pour les plaquettes épitaxiales LED, tandis que sa durabilité, bien supérieure à celle des matériaux traditionnels, aide les clients à réduire les coûts d'exploitation globaux, ce qui en fait un choix fiable pour améliorer l'efficacité et la cohérence du processus de gravure.
Bateau en graphite pour PECVD

Bateau en graphite pour PECVD

Le bateau en graphite Veteksemicon pour PECVD est usiné avec précision à partir de graphite de haute pureté et conçu spécifiquement pour les processus de dépôt chimique en phase vapeur améliorés par plasma. Tirant parti de notre compréhension approfondie des matériaux du champ thermique semi-conducteur et de nos capacités d'usinage de précision, nous proposons des bateaux en graphite dotés d'une stabilité thermique exceptionnelle, d'une excellente conductivité et d'une longue durée de vie. Ces bateaux sont conçus pour garantir un dépôt de couche mince très uniforme sur chaque tranche dans l'environnement exigeant du processus PECVD, améliorant ainsi le rendement et la productivité du processus.
Anneau en graphite avec revêtement CVD TaC

Anneau en graphite avec revêtement CVD TaC

L'anneau en graphite à revêtement CVD TaC de Veteksemicon est conçu pour répondre aux exigences extrêmes du traitement des plaquettes semi-conductrices. Grâce à la technologie de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), un revêtement dense et uniforme en carbure de tantale (TaC) est appliqué sur des substrats en graphite de haute pureté, atteignant une dureté, une résistance à l'usure et une inertie chimique exceptionnelles. Dans la fabrication de semi-conducteurs, l'anneau en graphite recouvert de TaC CVD est largement utilisé dans les chambres de croissance MOCVD, de gravure, de diffusion et d'épitaxie, servant de composant structurel ou d'étanchéité clé pour les supports de tranches, les suscepteurs et les assemblages de blindage. Dans l’attente de votre prochaine consultation.
Anneau en graphite poreux avec revêtement TaC

Anneau en graphite poreux avec revêtement TaC

L'anneau en graphite poreux revêtu de TaC produit par VETEK utilise un substrat en graphite poreux léger et est recouvert d'un revêtement en carbure de tantale de haute pureté, offrant une excellente résistance aux températures élevées, aux gaz corrosifs et à l'érosion du plasma.
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