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Sous-marin de revêtement TAC
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Sous-marin de revêtement TAC

Vetek Semiconductor présente le suscepteur de revêtement TAC, avec son revêtement TAC exceptionnel, ce suscepteur offre une multitude d'avantages qui le distinguent des solutions conventionnelles. Intégrant de manière transparente dans les systèmes existants, le revêtement TAC suscepteur de la garantie des semi-conducteurs de vetek et le fonctionnement efficace. Ses performances fiables et son revêtement TAC de haute qualité fournissent systématiquement des résultats exceptionnels dans les processus épitaxy SIC. Nous nous engageons à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs et nous sommes impatients d'être votre partenaire à long terme en Chine.


Three views of TaC coated susceptor


Vetek Semiconductor's TAC revêtu de suscepteur etTac enduitanneauTravaillez ensemble dans le réacteur de croissance épitaxiale du carbure de silicium LPE:


● Résistance à haute température: LeRevêtement TACLe suscepteur a une excellente résistance à haute température, capable de résister aux températures extrêmes jusqu'à 1500 ° C dans leRéacteur LPE. Cela garantit que l'équipement et les composants ne se déforment pas ou ne sont pas endommagés pendant le fonctionnement à long terme.

● Stabilité chimique: Le suscepteur de revêtement TAC fonctionne exceptionnellement bien dans l'environnement de croissance corrosif du carbure de silicium, protégeant efficacement les composants du réacteur à partir d'attaques chimiques corrosives, prolongeant ainsi leur durée de vie.

● Stabilité thermique: Le suscepteur de revêtement TAC a une bonne stabilité thermique, en maintenant la morphologie de la surface et la rugosité pour assurer l'uniformité du champ de température dans le réacteur, ce qui est bénéfique pour la croissance de haute qualité des couches épitaxiales en carbure de silicium.

● anti-contamination: La performance de surface revêtue de TAC et de TPD supérieure (désorption programmée par température) peut minimiser l'accumulation et l'adsorption des particules et des impuretés à l'intérieur du réacteur, empêchant la contamination des couches épitaxiales.


En résumé, le suscepteur et l'anneau enrobés de TAC jouent un rôle protecteur critique dans le réacteur de croissance épitaxiale du carbure de silicium LPE, garantissant le fonctionnement stable à long terme de l'équipement et la croissance de haute qualité des couches épitaxiales.


Paramètre du produit du suscepteur de revêtement TAC:

Propriétés physiques du revêtement TAC
Densité de revêtement 14.3 (g / cm³)
Émissivité spécifique 0.3
Coefficient de dilatation thermique 6.3 10-6/ K
Dureté de revêtement TAC (HK) 2000 HK
Résistance 1 × 10-5Ohm * cm
Stabilité thermique <2500 ℃
Modifications de la taille du graphite -10 ~ -20UM
Épaisseur de revêtement Valeur typique ≥20UM (35UM ± 10UM)


Chaîne industrielle:

Chip Industrial Chain


It semi-conducteurSous-marin de revêtement TACBoutique de production

VeTek Semiconductor TaC Coating Susceptor Production Shop


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