Service d'assistance

VeTek Semiconductor fournit des tranches et des substrats monocristallins en nitrure d'aluminium (AlN) de haute qualité pour les dispositifs semi-conducteurs à bande interdite ultra-large de nouvelle génération. Avec une bande interdite ultra-large d'environ 6,2 eV, une conductivité thermique exceptionnelle, une isolation électrique exceptionnelle et une excellente correspondance de réseau et de dilatation thermique avec le GaN, les plaquettes d'AlN sont idéales pour les dispositifs RF haute puissance, l'électronique de puissance haute tension et l'optoélectronique ultraviolet profond (DUV).

Le service de nettoyage professionnel VETEK pour les pièces en graphite revêtues de SiC CVD est un service technique spécialisé conçu pour les suscepteurs d'équipements Aixtron / Veeco MOCVD et les composants en graphite utilisés dans les processus épitaxiaux GaN / AlN / AlGaN. Notre processus de nettoyage exclusif élimine complètement l'effet mémoire de surface, rétablit un flux de gaz stable dans le réacteur et protège strictement le revêtement CVD SiC de 100 µm avec une perte d'épaisseur absolue et aucun résidu métallique.

Alors que la demande de transducteurs MEMS haute sensibilité et faible consommation augmente avec l'expansion des communications 5G, des dispositifs médicaux de précision et des appareils portables intelligents, notre PZT sur plaquettes Si/SOI constitue une solution matérielle essentielle. En utilisant des procédés avancés de dépôt de couches minces tels que Sol-gel ou pulvérisation cathodique, nous obtenons une cohérence exceptionnelle et des performances piézoélectriques supérieures sur les substrats de silicium. Ces plaquettes constituent le noyau fondamental de la conversion électromécanique de l'énergie.

La croissance des cristaux de carbure de silicium est un processus essentiel dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs hautes performances. La stabilité, la précision et la compatibilité des équipements de croissance cristalline déterminent directement la qualité et le rendement des lingots de carbure de silicium. Sur la base des caractéristiques de la technologie de transport physique de vapeur (PVT), Veteksemi a développé un four de chauffage à résistance pour la croissance des cristaux de carbure de silicium, permettant une croissance stable de cristaux de carbure de silicium de 6 pouces, 8 pouces et 12 pouces avec une compatibilité totale avec les systèmes de matériaux conducteurs, semi-isolants et de type N. Grâce à un contrôle précis de la température, de la pression et de la puissance, il réduit efficacement les défauts cristallins tels que l'EPD (Etch Pit Density) et le BPD (Basal Plane Dislocation), tout en présentant une faible consommation d'énergie et une conception compacte pour répondre aux normes élevées de la production industrielle à grande échelle.

La pâte de polissage CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) est un matériau haute performance utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et le traitement de matériaux de précision. Sa fonction principale est d'obtenir une planéité fine et un polissage de la surface du matériau sous l'effet synergique de la corrosion chimique et du meulage mécanique afin de répondre aux exigences de planéité et de qualité de surface au niveau nanométrique. Dans l’attente de votre prochaine consultation.

En tant que principaux fabricants et fournisseurs chinoises chinoises, Vetek Semiconductor CVD SIC revêtement, la plaquette factice est un outil spécialisé dans la fabrication de semi-conducteurs, principalement utilisé à des fins de test de test de plaquette de silicium et de test de plaquette. Vos autres demandes sont les bienvenues.