VeTek Semiconductor est votre partenaire innovant dans le domaine du traitement des semi-conducteurs. Grâce à notre vaste gamme de combinaisons de matériaux céramiques en carbure de silicium de qualité semi-conducteur, nos capacités de fabrication de composants et nos services d'ingénierie d'application, nous pouvons vous aider à surmonter des défis importants. Les céramiques techniques en carbure de silicium sont largement utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs en raison de leurs performances matérielles exceptionnelles. Les céramiques de carbure de silicium ultra-pures de VeTek Semiconductor sont fréquemment utilisées tout au long du cycle de fabrication et de traitement des semi-conducteurs.
DIFFUSION ET TRAITEMENT LPCVD
VeTek Semiconductor fournit des composants en céramique technique spécialement conçus pour les exigences de diffusion par lots et de LPCVD, notamment :
● Chicanes et supports
● Injecteurs
● Revêtements et tubes de traitement
● Palettes en porte-à-faux en carbure de silicium
● Bateaux et socles Wafer
COMPOSANTS DU PROCESSUS DE GRAVURE
Minimisez la contamination et la maintenance imprévue grâce à des composants de haute pureté conçus pour les rigueurs du traitement de gravure au plasma, notamment :
● Bagues de mise au point
● Buses
● Boucliers
● Pommes de douche
● Fenêtres / Couvercles
● Autres composants personnalisés
COMPOSANTS DE TRAITEMENT THERMIQUE RAPIDE ET DE PROCÉDÉ ÉPITAXIAL
VeTek Semiconductor fournit des composants matériels avancés adaptés aux applications de traitement thermique à haute température dans l'industrie des semi-conducteurs. Ces applications englobent les processus RTP, Epi, la diffusion, l'oxydation et le recuit. Nos céramiques techniques sont conçues pour résister aux chocs thermiques, offrant des performances fiables et constantes. Grâce aux composants de VeTek Semiconductor, les fabricants de semi-conducteurs peuvent réaliser un traitement thermique efficace et de haute qualité, contribuant ainsi au succès global de la production de semi-conducteurs.
● Diffuseurs
● Isolateurs
● Suscepteurs
● Autres composants thermiques personnalisés
Principales fonctionnalités
● Ultra-haute pureté : teneur en SiC >99,96 %, silicium libre <0,1 %, minimisant la contamination métallique.
● Excellentes performances à haute température : température de fonctionnement jusqu'à 1600°C (oxydant) / 1700°C (réducteur).
● Résistance supérieure aux chocs thermiques et faible dilatation thermique pour des performances fiables sous des cycles thermiques rapides.
● Haute résistance mécanique (compression >600 MPa) et inertie chimique aux gaz de procédés et plasmas.
● Gamme complète de produits pour les processus de diffusion/LPCVD, de gravure, RTP et épi — depuis les bateaux à plaquettes jusqu'aux bagues de focalisation et aux pièces personnalisées.
● Longue durée de vie et génération réduite de particules, permettant de réduire la fréquence de maintenance et d'améliorer le rendement.
Spécifications du produit
Propriétés physiques du carbure de silicium recristallisé
| Propriété |
Valeur typique |
| Température de travail (°C) |
1600°C (avec oxygène), 1700°C (environnement réducteur) |
| Contenu SiC / SiC |
> 99,96% |
| Si / Contenu Si gratuit |
< 0,1% |
| Densité apparente |
2,60-2,70 g/cm³ |
| Porosité apparente |
< 16% |
| Résistance à la compression |
> 600 MPa |
| Résistance à la flexion à froid |
80-90 MPa (20°C) |
| Résistance à la flexion à chaud |
90-100 MPa (1 400 °C) |
| Dilatation thermique à 1 500 °C |
4,70 × 10⁻⁶/°C |
| Conductivité thermique à 1200°C |
23 W/m·K |
| Module élastique |
240 GPa |
| Résistance aux chocs thermiques |
Extrêmement bien |
Applications
Pour répondre aux divers besoins des processus de semi-conducteurs, VeTek propose des produits ciblés en céramique de carbure de silicium. Le tableau suivant les classe par principaux domaines d'application :
| Champ d'application |
Produits typiques |
Description de l'application |
| Diffusion & LPCVD |
Bateaux à plaquettes SiC, pagaies cantilever, tubes de traitement, chemises, injecteurs,chicanes et supports
|
Composants SiC de haute pureté pour fours à diffusion discontinue et LPCVD ; excellente stabilité thermique et résistance chimique jusqu'à 1 600–1 700 °C, faible contamination. |
| Processus de gravure au plasma |
Bagues de mise au point, buses, boucliers, pommes de douche, fenêtres/couvercles, composants de gravure personnalisés |
Pièces en SiC de haute pureté conçues pour les environnements de gravure au plasma ; minimiser la génération de particules et la maintenance imprévue, résistance supérieure au plasma. |
| RTP / Epitaxie / Traitement thermique |
suscepteurs, diffuseurs, isolateurs, composants thermiques sur mesure |
Composants pour RTP, épi, diffusion, oxydation et recuit ; conçu pour résister aux chocs thermiques et offrir des performances constantes à haute température. |
| Croissance cristalline SiC (PVT) |
Poudre SiC de haute pureté,Matière première CVD SiC 7N, pièces liées à la liaison des graines |
Matériaux sources de SiC ultra purs et composants de support pour la croissance de monocristaux de SiC PVT, améliorant le rendement et la qualité des cristaux. |
| Manipulation et supports de plaquettes |
Bateaux à plaquettes SiC verticaux/horizontaux, bateaux à cassettes en silicium, socles, bagues d'étanchéité
|
Supports de précision et composants d'étanchéité qui assurent l'uniformité thermique, la stabilité mécanique et une contamination minimale lors du traitement à haute température. |
Pour des solutions de correspondance de processus plus détaillées, veuillez vous référer auFour d'oxydation et de diffusionpages connexes.
En tant que fabricant et fournisseur professionnel de céramiques de carbure de silicium en Chine, nous disposons de notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter des céramiques de carbure de silicium avancées et durables fabriquées en Chine, vous pouvezlaissez-nous un message.
