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CVD TAC revêtement de plaquette de revêtement
  • CVD TAC revêtement de plaquette de revêtementCVD TAC revêtement de plaquette de revêtement

CVD TAC revêtement de plaquette de revêtement

En tant que fabricant de produits et usine de porteurs de porteurs de revêtement professionnels professionnels TAC en Chine, Vetek Semiconductor CVD TAC revêtement de wafer porteuse est un outil de transport de plaquette spécialement conçu pour des environnements à haute température et corrosifs dans la fabrication de semi-conducteurs. et la porteuse de plaquette de revêtement TAC CVD a une résistance mécanique élevée, une excellente résistance à la corrosion et une stabilité thermique, offrant la garantie nécessaire pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. Vos autres demandes sont les bienvenues.

Pendant le processus de fabrication de semi-conducteurs, Vetek semi-conducteurCVD TAC revêtement de plaquette de revêtementest un plateau utilisé pour transporter des plaquettes. Ce produit utilise un processus de dépôt de vapeur chimique (CVD) pour enrober une couche de revêtement TAC à la surface duSubstrat de transporteur de plaquettes. Ce revêtement peut améliorer considérablement la résistance à l'oxydation et à la corrosion de la porteuse de la plaquette, tout en réduisant la contamination des particules pendant le traitement. Il s'agit d'un composant important dans le traitement des semi-conducteurs.


Traite des semi-conducteursCVD TAC revêtement de plaquette de revêtementest composé d'un substrat et d'unrevêtement en carbure de tantale (TAC).


L'épaisseur des revêtements en carbure de tantale est généralement dans la plage de 30 micron, et le TAC a un point de fusion pouvant atteindre 3 880 ° C tout en fournissant une excellente résistance à la corrosion et à l'usure, entre autres propriétés.


Le matériau de base du transporteur est en graphite de haute pureté oucarbure de silicium (sic), puis une couche de TAC (dureté de knoop jusqu'à 2000hk) est enduit à la surface par un processus de MCV pour améliorer sa résistance à la corrosion et sa résistance mécanique.


Pendant le processus de plaquette, Vetek semi-conducteurCVD TAC revêtement de plaquette de revêtementPeut jouer les rôles importants suivants:


1. Protection des plaquettes

Protection physique Le support sert de barrière physique entre les sources de dommages mécaniques externes et externes. Lorsque les plaquettes sont transférées entre différents équipements de traitement, comme entre une chambre de dépôt chimique - vapeur (CVD) et un outil de gravure, ils sont sujets aux rayures et aux impacts. Le porte-plaquette de revêtement CVD TAC a une surface relativement dure et lisse qui peut résister aux forces de manipulation normales et empêcher le contact direct entre la tranche et les objets rugueux ou nets, réduisant ainsi le risque de dommages physiques aux plaquettes.

Protection chimique TAC a une excellente stabilité chimique. Au cours de diverses étapes de traitement chimique dans le processus de la plaquette, telles que la gravure humide ou le nettoyage chimique, le revêtement TAC CVD peut empêcher les agents chimiques de entrer en contact direct avec le matériau porteur. Cela protège la porteuse de la plaquette contre la corrosion et l'attaque chimique, garantissant qu'aucun contaminant n'est libéré du transporteur sur les plaquettes, maintenant ainsi l'intégrité de la chimie de surface de la plaquette.


2. Soutien et alignement

Support stable Le transporteur de plaquette fournit une plate-forme stable pour les plaquettes. Dans les processus où les plaquettes sont soumises à un traitement à haute température ou à des environnements à haute pression, comme dans une fournaise à haute température pour le recuit, le porte-avions doit être en mesure de soutenir la plaquette uniformément pour éviter la déformation ou la fissuration de la tranche. La conception appropriée et le revêtement TAC de haute qualité du support garantissent une distribution de contrainte uniforme à travers la tranche, en maintenant sa planéité et son intégrité structurelle.

Alignement précis L'alignement précis est crucial pour divers processus de lithographie et de dépôt. Le porteur de la plaquette est conçu avec des caractéristiques d'alignement précises. Le revêtement TAC aide à maintenir la précision dimensionnelle de ces caractéristiques d'alignement au fil du temps, même après plusieurs utilisations et une exposition à différentes conditions de traitement. Cela garantit que les plaquettes sont positionnées avec précision dans l'équipement de traitement, permettant une structuration précise et une superposition de matériaux semi-conducteurs sur la surface de la plaquette.


3. Transfert de chaleur

La distribution de chaleur uniforme dans de nombreux processus de plaquettes, telles que l'oxydation thermique et les MCV, un contrôle précis de la température est essentiel. Le porte-plaquette de revêtement CVD TAC a de bonnes propriétés de conductivité thermique. Il peut transférer uniformément la chaleur vers la tranche pendant les opérations de chauffage et éliminer la chaleur pendant les processus de refroidissement. Ce transfert de chaleur uniforme aide à réduire les gradients de température à travers la tranche, minimisant les contraintes thermiques qui pourraient provoquer des défauts dans les dispositifs semi-conducteurs fabriqués sur la tranche.

Efficacité de la chaleur et de transfert améliorées Le revêtement TAC peut améliorer les caractéristiques globales de la chaleur - transfert du porte-plaquette. Comparé aux porteurs ou porteurs non enrobés avec d'autres revêtements, la surface du revêtement TAC peut avoir une surface plus favorable - énergie et texture pour l'échange de chaleur avec l'environnement environnant et la tranche elle-même. Il en résulte un transfert de chaleur plus efficace, ce qui peut raccourcir le temps de traitement et améliorer l'efficacité de production du processus de fabrication de la plaquette.


4. Contrôle de la contamination

Propriétés à faible luttement, le revêtement TAC présente généralement un comportement à faible pergage, ce qui est crucial dans l'environnement propre du processus de fabrication de la plaquette. Le dépassement des substances volatiles de la porteuse peut contaminer la surface de la plaquette et l'environnement de traitement, conduisant à des défaillances de l'appareil et à des rendements réduits. La nature faible et passante du revêtement TAC CVD garantit que le transporteur n'introduit pas de contaminants indésirables dans le processus, en maintenant les exigences de pureté élevées de la fabrication de semi-conducteurs.

Particule - Surface libre La nature lisse et uniforme du revêtement TAC CVD réduit la probabilité de génération de particules sur la surface du support. Les particules peuvent adhérer à la tranche pendant le traitement et provoquer des défauts dans les dispositifs semi-conducteurs. En minimisant la génération de particules, le porte-plaquette de revêtement TAC aide à améliorer la propreté du processus de fabrication de la plaquette et à augmenter le rendement du produit.




Enrobage de carbure de tantale (TAC) sur une section transversale microscopique:


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4



Propriétés physiques de base du revêtement TAC CVD


Propriétés physiques du revêtement TAC
Densité de revêtement TAC
14.3 (g / cm³)
Émissivité spécifique
0.3
Coefficient de dilatation thermique
6.3 * 10-6/ K
Dureté de revêtement TAC (HK)
2000 HK
Résistance
1 × 10-5Ohm * cm
Stabilité thermique
<2500 ℃
Modifications de la taille du graphite
-10 ~ -20UM
Épaisseur de revêtement
Valeur typique ≥20UM (35UM ± 10UM)

It semi-conducteurCVD TAC Coating Wafer Carrier Production Shops:

VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier production shops




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