Nitrure de silicium

1. Excellente stabilité chimique

La céramique au nitrure de silicium a une excellente stabilité chimique et peut résister à une variété d'acides forts, d'alcalis et de gaz corrosifs. Dans le processus de fabrication de semi-conducteurs, il faut souvent faire face aux produits chimiques corrosifs, la céramique au nitrure de silicium peut fournir une garantie de performance stable à long terme.

2. Excellentes propriétés mécaniques

Les céramiques de nitrure de silicium ont une dureté élevée, une excellente résistance à la compression et une résistance à l'usure, capable de résister à la contrainte mécanique et à l'usure en surface, pas facile à déformation ou à rupture. Cette propriété mécanique le rend très approprié comme matériau pour les pièces structurelles et de traitement dans l'équipement semi-conducteur.

3. Stabilité à haute température

Les céramiques de nitrure de silicium peuvent maintenir la stabilité dans des environnements à haute température, pas faciles à ramollir ou à fondre, et peuvent résister à un traitement et à une manipulation à haute température dans le processus de fabrication de semi-conducteurs. Cela lui permet d'être utilisé dans la fabrication de composants clés de l'équipement de processus à haute température, tels que les pinces, les composants de la chambre de réaction, etc.

4. Excellentes propriétés isolantes

Les propriétés isolantes sont essentielles dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Les céramiques de nitrure de silicium ont de bonnes propriétés isolantes, qui peuvent isoler et protéger efficacement les composants du circuit contre les fuites de courant ou les interférences électromagnétiques, contribuant à améliorer la stabilité et la fiabilité de l'appareil.

5. Conductivité thermique et conductivité thermique

Les céramiques de nitrure de silicium ont une conductivité thermique élevée, peuvent effectuer efficacement et dissiper la chaleur générée par l'appareil, aidant à maintenir la stabilité de la température de l'appareil dans le processus de fonctionnement. Cela est essentiel à l'opération haute performance des dispositifs semi-conducteurs.

1. Chucks électrostatiques et composants de la chambre de gravure

Les céramiques de nitrure de silicium sont souvent utilisées comme matériaux pour les enfants électrostatiques et les composants de la chambre de gravure dans la fabrication de semi-conducteurs en raison de leur excellente stabilité chimique et de leur résistance à haute température. Les enfants électrostatiques sont utilisés pour réparer et stabiliser les plaquettes ou les substrats, tandis que les composants de la chambre de gravure sont utilisés pour résister aux gaz corrosifs et aux environnements à haute température.

2. Plaques de distribution de gaz et réflecteurs

Les céramiques de nitrure de silicium sont également utilisées dans la fabrication d'équipements semi-conducteurs dans les plaques de distribution de gaz et les réflecteurs. Les plaques de distribution de gaz sont utilisées pour distribuer uniformément les gaz réactifs ou protecteurs dans la chambre de réaction, tandis que les réflecteurs sont utilisés pour optimiser la distribution et la réflexion de la lumière dans la chambre de réaction pour améliorer l'efficacité de la réaction et l'uniformité.

3. Porteurs et composants thermiques

Les céramiques de nitrure de silicium sont souvent utilisées comme détenteurs et composants de gestion thermique dans l'équipement de fabrication de semi-conducteurs. Ces composants doivent avoir une bonne résistance mécanique, une résistance à l'usure et une conductivité thermique pour assurer le fonctionnement stable de l'équipement et la précision de traitement des appareils.

4. Pads de polissage mécanique chimique (CMP)

La céramique au nitrure de silicium est largement utilisée comme matériau de plate-forme dans le processus de polissage mécanique chimique (CMP). Il a une excellente planéité et une résistance à l'usure, et peut fournir un support stable pendant le processus de polissage pour assurer la planéité et la précision de la surface de la tranche de semi-conducteur.