Carbure de silicium solide

Le carbure de silicium solide semi-conducteur Vetek est un composant en céramique important dans l'équipement de gravure du plasma, du carbure de silicium solide (Carbure de silicium CVD)) Les pièces de l'équipement de gravure comprennentFocus des anneaux, pomme de douche à gaz, plateau, anneaux de bord, etc. En raison de la faible réactivité et de la conductivité du carbure de silicium solide (carbure de silicium CVD) au chlore - et aux gaz de gravure contenant du fluor, il s'agit d'un matériau idéal pour l'équipement de gravure du plasma focalisant les anneaux et autres composants.

Par exemple, l'anneau de mise au point est une partie importante placée à l'extérieur de la tranche et en contact direct avec la tranche, en appliquant une tension sur l'anneau pour concentrer le plasma passant par l'anneau, concentrant ainsi le plasma sur la tranche pour améliorer l'uniformité du traitement. L'anneau de mise au point traditionnel est en silicium ouquartz, le silicium conducteur en tant que matériau de l'anneau de mise au point commun, il est presque proche de la conductivité des plaquettes de silicium, mais la pénurie est une mauvaise résistance à la gravure dans le plasma contenant du fluor, les matériaux de machine à gravure souvent utilisés pendant un certain temps, il y aura un phénomène de corrosion sérieux, réduisant sérieusement son efficacité de production.

SAnneau de mise au point Olid SicPrincipe de travail：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring

Comparaison de l'anneau de focalisation basé sur Si et du cycle de focalisation SIC CVD:

Comparaison de la bague de mise au point basée sur Si et de la bague de focalisation SIC CVD
Article	Et	Cvd sic
Densité (g / cm³)	2.33	3.21
Bandage (EV)	1.12	2.3
Conductivité thermique (avec cm ℃)	1.5	5
CTE (x10^-6/ ℃)	2.6	4
Module élastique (GPA)	150	440
Dureté (GPA)	11.4	24.5
Résistance à l'usure et à la corrosion	Pauvre	Excellent

Vetek Semiconductor propose des pièces avancées en carbure de silicium solide (carbure de silicium CVD) comme les anneaux de focalisation SIC pour l'équipement de semi-conducteur. Notre carbure de silicium solide en focalisant les anneaux surpassent le silicium traditionnel en termes de résistance mécanique, de résistance chimique, de conductivité thermique, de durabilité à haute température et de résistance à la gravure des ions.

Les caractéristiques clés de nos anneaux de focalisation SIC incluent:

Densité élevée pour les taux de gravure réduits.

Excellente isolation avec une bande interdite élevée.

Haute conductivité thermique et faible coefficient d'expansion thermique.

Résistance à l'impact mécanique supérieur et élasticité.

Haute dureté, résistance à l'usure et résistance à la corrosion.

Fabriqué à l'aideDépôt de vapeur chimique amélioré par plasma (PECVD)Techniques, nos anneaux de focalisation SIC répondent aux demandes croissantes des processus de gravure dans la fabrication de semi-conducteurs. Ils sont conçus pour résister à la puissance et à l'énergie du plasma plus élevées, en particulier dansplasma couplé capacivement (CCP)Systèmes.

Les anneaux de focalisation SIC de Vetek Semiconductor offrent des performances et une fiabilité exceptionnelles dans la fabrication des appareils semi-conducteurs. Choisissez nos composants sic pour une qualité et une efficacité supérieures.

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CVD SIC enduit de douche en graphite

La tête de douche en graphite enrobée de CVD SIC de VetekSeMICON est un composant haute performance spécialement conçu pour les processus de dépôt chimique de vapeur parmi les semi-conducteurs (CVD). Fabriqué à partir de graphite de haute pureté et protégé par un revêtement en carbure de silicium (CVD) en carbure de vapeur chimique (CVD), cette pomme de douche offre une durabilité exceptionnelle, une stabilité thermique et une résistance aux gaz de processus corrosifs. Dans l'attente de votre nouvelle consultation.

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Anneau de bord SIC

Anneaux de bord SIC VetekSeMICON à haute pureté, spécialement conçus pour l'équipement de gravure semi-conducteur, comporte une résistance à la corrosion exceptionnelle et une stabilité thermique, améliorant considérablement le rendement de la plaquette

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Matière première CVD SIC à haute pureté

La matière première SIC CVD SIC à haute pureté préparée par CVD est le meilleur matériau source pour la croissance des cristaux de carbure de silicium par transport physique de vapeur. La densité des matières premières SIC CVD SIC de haute pureté fournies par le semi-conducteur de Vetek est plus élevée que celle des petites particules formées par la combustion spontanée des gaz SI et C-contenant, et il ne nécessite pas de fournaise de frittage dédié et a un taux d'évaporation presque constant. Il peut pousser des monocristaux SIC de très haute qualité. Dans l'attente de votre demande.

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Carrier SIC SIC

Le support de plaquette SIC solide de Vetek Semiconductor est conçu pour des environnements à haute température et résistants à la corrosion dans les processus épitaxiaux semi-conducteurs et convient à tous les types de processus de fabrication de plaquettes avec des exigences de grande pureté. VETEK Semiconductor est un fournisseur de porte-gigantes en Chine de premier plan en Chine et a hâte de devenir votre partenaire à long terme dans l'industrie des semi-conducteurs.

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Pomme de douche en forme de disque solide

Vetek Semiconductor est l'un des principaux fabricants d'équipements de semi-conducteurs en Chine et un fabricant professionnel et fournisseur de pomme de douche en forme de disque SIC solide. Notre pomme de douche de forme de disque est largement utilisée dans la production de dépôts à couches minces tels que le processus de MCV pour assurer une distribution uniforme du gaz de réaction et est l'un des composants centraux de la fournaise CVD.

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SIC Sceal Part

En tant que fabricant de produits et usine de produits de scellement SIC avancé en Chine. La pièce d'étanchéité semi-conductive VETEK est un composant d'étanchéité haute performance largement utilisé dans le traitement des semi-conducteurs et d'autres processus de température et de haute pression extrêmement élevés. Bienvenue à votre nouvelle consultation.

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Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.

Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.

Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.

To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.

En tant que fabricant et fournisseur professionnel Carbure de silicium solide en Chine, nous avons notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter avancé et durable Carbure de silicium solide en Chine, vous pouvez nous laisser un message.

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