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Vetek Semiconductor est un pionnier de l'industrie spécialisé dans le développement, la production et la commercialisation de la poudre SIC de haute pureté, connue pour leur pureté ultra-élevée, leur distribution de taille de particules uniformes et leur excellente structure cristalline. La société a une équipe de recherche et développement composée d'experts seniors pour promouvoir constamment l'innovation technologique. Avec la technologie de production avancée et l'équipement, la pureté, la taille des particules et les performances de la poudre de SIC de haute pureté peuvent être contrôlées avec précision. Un contrôle de qualité strict garantit que chaque lot répond aux normes de l'industrie les plus exigeantes, offrant un matériau de base stable et fiable pour vos applications haut de gamme.
1. Pureté élevée: le contenu SIC est de 99,9999%, le contenu d'impureté est très faible, ce qui réduit l'impact négatif sur les performances des appareils semi-conducteurs et photovoltaïques, et améliore la cohérence et la fiabilité des produits.
2.
3. Conductivité thermique élevée: peut rapidement effectuer la chaleur, aider à améliorer l'efficacité de dissipation de chaleur de l'appareil, réduire la température de fonctionnement, étendant ainsi la durée de vie de l'appareil.
4. Coefficient d'extension faible: le changement de taille est faible lorsque la température change, réduisant la fissuration du matériau ou la baisse des performances causée par une expansion thermique et une contraction.
5. Bonne stabilité chimique: résistance à la corrosion acide et alcaline peut rester stable dans un environnement chimique complexe.
6. Caractéristiques larges de bande interdite: avec une résistance élevée du champ électrique et une vitesse de dérive de saturation des électrons, adapté à la fabrication de périphériques à haute température, haute pression, haute fréquence et semi-conducteurs à haute puissance.
7. Mobilité élevée des électrons: il est propice à l'amélioration de la vitesse de travail et de l'efficacité des dispositifs semi-conducteurs.
8. Protection de l'environnement: pollution relativement faible à l'environnement dans le processus de production et d'utilisation.
Industrie des semi-conducteurs:
- Matière de substrat: La poudre SIC de haute pureté peut être utilisée pour fabriquer un substrat en carbure de silicium, qui peut être utilisée pour fabriquer des appareils à haute fréquence, à haute température, à haute pression et aux dispositifs RF.
Croissance épitaxiale: Dans le processus de fabrication de semi-conducteurs, la poudre de carbure de silicium de haute pureté peut être utilisée comme matière première pour la croissance épitaxiale, qui est utilisée pour cultiver des couches épitaxiales en carbure de silicium de haute qualité sur le substrat.
-Amage des matériaux: la poudre de carbure de silicium de haute pureté peut être utilisée pour fabriquer des matériaux d'emballage semi-conducteur afin d'améliorer les performances de dissipation thermique et la fiabilité de l'emballage.
Industrie photovoltaïque:
Cellules de silicium cristallin: Dans le processus de fabrication des cellules en silicium cristallin, la poudre de carbure de silicium de haute pureté peut être utilisée comme source de diffusion pour la formation de jonctions P-N.
- Batterie en film mince: dans le processus de fabrication de la batterie en film mince, la poudre de carbure de silicium de haute pureté peut être utilisée comme cible pour la braquine dépôt de film en carbure de silicium.
Spécification de poudre en carbure de silicium | ||
Pureté | g / cm3 | 99.9999 |
Densité | 3.15-3.20 | 3.15-3.20 |
Module élastique | GPA | 400-450 |
Dureté | HV (0,3) kg / mm2 | 2300-2850 |
Taille des particules | engrener | 200 ~ 25000 |
Ténacité de fracture | MPA.M1 / 2 | 3.5-4.3 |
Résistivité électrique | ohm-cm | 100-107 |
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Veteksemicon offers high-purity silicon carbide (SiC) powder tailored for advanced semiconductor applications including single crystal growth, ceramic sintering, and high-performance coating formulations.
Our powders are synthesized through controlled processes to achieve exceptional purity levels (≥99.999%), low oxygen and metallic contamination, and narrow particle size distributions. This makes them ideal for use in CVD SiC growth, epitaxial layer support, high-density sintered parts, and thermal spray applications. The material is available in various grades—α-SiC and β-SiC—each selected based on crystallography, surface area, and flow characteristics.
Our powders are compatible with additive manufacturing, vacuum plasma spraying (VPS), and hot isostatic pressing (HIP), offering flexibility across R&D and production scales. From bulk lots for crucible production to micro-powders for fine-layer coatings, Veteksemicon ensures consistent batch quality, tight impurity control, and COA traceability.
To request a product spec sheet, MSDS, or discuss custom grading options, visit Veteksemicon’s High Purity SiC Powder page or get in touch with our technical sales team.
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