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Le 5 septembre, les clients de Vetek Semiconductor ont visité les usines de revêtement SIC et de revêtement TAC et ont conclu d'autres accords sur les dernières solutions de processus épitaxiales.

Les produits en quartz sont largement utilisés dans le processus de fabrication de semi-conducteurs en raison de leur haute pureté, de leur résistance à haute température et de leur forte stabilité chimique.

Les fours de croissance en carbure de carbure de silicium (SIC) jouent un rôle vital dans la production de plaquettes SIC à haute performance pour les dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération. Cependant, le processus de croissance des cristaux SIC de haute qualité présente des défis importants. De la gestion des gradients thermiques extrêmes à la réduction des défauts cristallins, en garantissant une croissance uniforme et en contrôlant les coûts de production, chaque étape nécessite des solutions d'ingénierie avancées. Cet article analysera les défis techniques des fours de croissance cristalline SIC sous plusieurs angles.

Smart Cut est un processus de fabrication avancé de semi-conducteurs basé sur l'implantation d'ions et le décapage de la plaquette, spécialement conçu pour la production de plaquettes 3C-SIC (en carbure de silicium cube) ultra-minces et très uniformes. Il peut transférer des matériaux cristallins ultra-minces d'un substrat à un autre, brisant ainsi les limitations physiques d'origine et modifiant l'ensemble de l'industrie du substrat.

Dans la préparation de substrats de carbure de silicium de haute qualité et à haut rendement, le noyau nécessite un contrôle précis de la température de production par de bons matériaux de champ thermique. Actuellement, les kits de creuset à champ thermique principalement utilisés sont des composants structurels de graphite de haute pureté, dont les fonctions sont de chauffer la poudre de carbone fondu et de la poudre de silicium ainsi que de maintenir la chaleur.

Lorsque vous voyez les semi-conducteurs de troisième génération, vous vous demanderez sûrement quelles étaient les première et deuxième générations. La "génération" ici est classifiée en fonction des matériaux utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs.