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Le 5 septembre, les clients de Vetek Semiconductor ont visité les usines de revêtement SIC et de revêtement TAC et ont conclu d'autres accords sur les dernières solutions de processus épitaxiales.

Le 5 septembre 2025, un client polonais a visité une usine sous VETEK pour en savoir plus sur nos technologies avancées et nos processus innovants dans la production de produits en fibre de carbone.

Le CVD Solid SiC vaut-il l’investissement ? Comparez le retour sur investissement du SiC monolithique par rapport aux revêtements en graphite traditionnels. Découvrez comment une résistance plasma supérieure et un MTBC étendu se traduisent par des taux de rebut de plaquettes inférieurs et une disponibilité des équipements plus élevée pour les lignes HVM de 12 pouces.

Les matériaux de haute pureté sont essentiels à la fabrication de semi-conducteurs. Ces processus impliquent une chaleur extrême et des produits chimiques corrosifs. Le CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) offre la stabilité et la résistance nécessaires. Il s'agit désormais d'un choix privilégié pour les pièces d'équipement de pointe en raison de sa grande pureté et de sa densité.

Dans le monde des semi-conducteurs en carbure de silicium (SiC), l'attention est principalement portée sur les réacteurs épitaxiaux de 8 pouces ou sur les subtilités du polissage des plaquettes. Cependant, si l’on remonte la chaîne d’approvisionnement jusqu’au tout début – à l’intérieur du four de transport physique de vapeur (PVT) – une « révolution matérielle » fondamentale se déroule tranquillement.

À l’ère de l’évolution rapide des MEMS (systèmes microélectromécaniques), la sélection du bon matériau piézoélectrique est une décision décisive en termes de performances du dispositif. Les plaquettes en couches minces de PZT (titanate de zirconate de plomb) sont devenues le premier choix par rapport aux alternatives telles que l'AlN (nitrure d'aluminium), offrant un couplage électromécanique supérieur pour les capteurs et actionneurs de pointe.