Des produits

Service technique

1.Purification et cartographies

Les services techniques de VeTek Semiconductor couvrent la purification et la cartographie de divers matériaux semi-conducteurs, dans le but de fournir aux clients des matériaux semi-conducteurs de haute qualité pour une variété d'applications. Nous disposons d'une technologie et d'un équipement de purification avancés pour éliminer efficacement les impuretés, augmentant ainsi la pureté des matériaux semi-conducteurs. Notre processus de purification est soigneusement conçu pour inclure plusieurs étapes et un contrôle de qualité strict afin de garantir l’excellente pureté et stabilité des matériaux fournis.

Dans le même temps, nous nous engageons à fournir à nos clients des services de cartographie précis et fiables. Nous disposons d'équipements et d'instruments de test avancés et nous nous appuyons sur une équipe de professionnels expérimentés pour effectuer des mesures et des analyses complètes des caractéristiques des matériaux semi-conducteurs. Notre travail de cartographie comprend des tests de propriétés électriques, de composition, de pureté, de propriétés physiques, etc., ainsi que des études approfondies de la structure et de la composition des matériaux. Grâce à la cartographie, nous pouvons obtenir des données et des informations détaillées pour fournir aux clients une évaluation précise des caractéristiques des matériaux et des recommandations pertinentes.

GDMS GDMS D-SIMS D-SIMS Coordinate measuring machine Machine à mesurer tridimensionnelle

2. Capacité des machines

VeTek Semiconductor possède des capacités d'usinage et une expérience de pointe pour le graphite, le carbure de silicium et d'autres produits semi-conducteurs, qui peuvent répondre à la haute précision et à la haute pureté des clients.

Haute qualité et autres exigences de traitement. Les outils que nous utilisons, le processus de découpe et le choix des matériaux sont également soigneusement optimisés pour obtenir un contrôle de la taille micrométrique et un contrôle du produit.

Qualité de surface élevée. Nous prêtons attention au contrôle de la qualité et à l'optimisation des processus dans le processus de traitement, et effectuons une surveillance et un contrôle en temps réel des paramètres clés dans le processus de traitement pour garantir la qualité des produits.

Cohérence et stabilité. Nous mettons également en œuvre un système de gestion de la qualité strict pour garantir que les produits sont traités conformément aux exigences des clients et aux normes de l'industrie, et effectuons une inspection de qualité complète.

Nous investirons continuellement dans l’amélioration des équipements et l’innovation technologique pour répondre aux besoins croissants de nos clients et leur fournir des solutions et un support de qualité supérieure.

3.Solution de modification du champ thermique

En termes de conception et de transformation du champ thermique, notre société peut compléter la conception et la fourniture par lots du monocristal de Czochra, du polycristal de coulée, de l'arséniure de gallilum, du séléniure de zinc, du saphir, du carbure de silicium et d'autres équipements industriels différents. Dans le même temps, pour le calcul mécanique et thermique de diverses structures, composants et atmosphères dans différents environnements à haute température, nous disposons également de capacités informatiques professionnelles de modélisation et de simulation, qui peuvent fournir aux clients des programmes et des suggestions d'optimisation de conception professionnelle.

Technical Service


Principales fonctionnalités

  • Purification et cartographie des matériaux : purification en plusieurs étapes et caractérisation complète (électrique, composition, pureté, structure) pour les matériaux semi-conducteurs de haute qualité.
  • Usinage de précision : capacité de pointe pour le graphite, le carbure de silicium et d'autres pièces semi-conductrices avec un contrôle dimensionnel au niveau micrométrique et une qualité de surface élevée.
  • Conception et modification du champ thermique : conception et fourniture de systèmes Czochralski, fonderie, GaAs, ZnSe, saphir, SiC et autres, ainsi que simulation et optimisation thermique.
  • Nettoyage des pièces revêtues de SiC CVD : nettoyage spécialisé pour les suscepteurs MOCVD et les composants en graphite sans perte d'épaisseur de revêtement et sans résidu métallique.
  • Solutions d'équipement : fours de croissance cristalline SiC à chauffage par résistance de grande taille prenant en charge une croissance cristalline de 6 à 12 pouces avec un contrôle précis du processus.


Applications

Pour répondre aux divers besoins des clients en matériaux et équipements semi-conducteurs, VeTek propose des services techniques ciblés. Le tableau suivant les classe par principaux domaines de service :

Aire de service Services/produits typiques Description de l'application
Purification et cartographie des matériaux Processus de purification ; tests et analyses électriques/composition/pureté/structure Éliminez les impuretés et caractérisez entièrement les matériaux semi-conducteurs pour garantir une pureté élevée, une stabilité et une évaluation précise des propriétés pour diverses applications.
Usinage de précision Usinage du graphite, du carbure de silicium et d'autres produits semi-conducteurs Usinage de haute précision et de haute pureté avec contrôle au niveau micrométrique et qualité de surface élevée pour les composants en graphite et SiC utilisés dans les équipements semi-conducteurs.
Conception et modification du champ thermique Conception du champ thermique et fourniture par lots ; simulation et optimisation thermique Conception et fourniture de champs thermiques pour systèmes Czochralski, fonderie, GaAs, ZnSe, saphir, SiC et autres ; calcul mécano-thermique et optimisation de la conception dans des conditions de haute température.
Nettoyage des pièces (CVD SiC) Service de nettoyage de pièces en graphite avec revêtement CVD SiC Nettoyage spécialisé pour suscepteurs Aixtron/Veeco MOCVD et pièces en graphite en GaN/AlN/AlGaN epi ; supprime l'effet mémoire, protège le revêtement CVD SiC (zéro perte d'épaisseur, zéro résidu métallique).
Équipement de croissance de cristaux Four de croissance de cristaux SiC à chauffage par résistance de grande taille Fours de chauffage à résistance à base de PVT pour une croissance stable des cristaux SiC de 6 à 12 pouces ; contrôle précis de la température, de la pression et de la puissance pour réduire les défauts et soutenir la production industrielle.

Pour les matériaux et solutions de processus associés, veuillez vous référer auRevêtement en carbure de silicium, Graphite spécialetEpitaxie au carbure de siliciumpages


En tant que fabricant et fournisseur professionnel de services techniques en Chine, nous disposons de notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter un service technique avancé et durable fabriqué en Chine, vous pouvezlaissez-nous un message.

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Service de nettoyage de pièces en graphite avec revêtement CVD SiC

Service de nettoyage de pièces en graphite avec revêtement CVD SiC

Le service de nettoyage professionnel VETEK pour les pièces en graphite revêtues de SiC CVD est un service technique spécialisé conçu pour les suscepteurs d'équipements Aixtron / Veeco MOCVD et les composants en graphite utilisés dans les processus épitaxiaux GaN / AlN / AlGaN. Notre processus de nettoyage exclusif élimine complètement l'effet mémoire de surface, rétablit un flux de gaz stable dans le réacteur et protège strictement le revêtement CVD SiC de 100 µm avec une perte d'épaisseur absolue et aucun résidu métallique.
Four de croissance de cristaux SiC à chauffage par résistance de grande taille

Four de croissance de cristaux SiC à chauffage par résistance de grande taille

La croissance des cristaux de carbure de silicium est un processus essentiel dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs hautes performances. La stabilité, la précision et la compatibilité des équipements de croissance cristalline déterminent directement la qualité et le rendement des lingots de carbure de silicium. Sur la base des caractéristiques de la technologie de transport physique de vapeur (PVT), Veteksemi a développé un four de chauffage à résistance pour la croissance des cristaux de carbure de silicium, permettant une croissance stable de cristaux de carbure de silicium de 6 pouces, 8 pouces et 12 pouces avec une compatibilité totale avec les systèmes de matériaux conducteurs, semi-isolants et de type N. Grâce à un contrôle précis de la température, de la pression et de la puissance, il réduit efficacement les défauts cristallins tels que l'EPD (Etch Pit Density) et le BPD (Basal Plane Dislocation), tout en présentant une faible consommation d'énergie et une conception compacte pour répondre aux normes élevées de la production industrielle à grande échelle.
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