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Wangda Road, Ziyang Street, comté de Wuyi, City de Jinhua, province du Zhejiang, Chine
Récemment, nous sommes très honorés de recevoir des clients importants de nombreuses régions du monde entier pour visiter l'usine de Vetek Semiconductor en Chine. Cette visite permet non seulement aux clients d'acquérir une compréhension approfondie de notre innovation technologique et de notre force de production dans les domaines deProcessus d'épitaxie semi-conducteuret le revêtement semi-conducteur, mais approfondit également notre relation coopérative avec les clients.
Les clients de Veteksemicon inspectent les détails du tantalum enduit de carbure enduit de suscepteurs épitaxiaux
Pendant la visite, les clients ont montré un grand intérêt pour notreRevêtement en carbure de siliciumetRevêtement en carbure de tantalelignes de production. Notre équipe de R&D a introduit en détail les avantages techniques des produits et le système de contrôle de la qualité strict. En tant que principal fabricant de revêtement en carbure de silicium et de revêtement en carbure de tantale, nous nous engageons toujours à appliquer la technologie la plus de pointe à la conception et à la fabrication de produits pour nous assurer que chaque composant répond aux normes internationales et peut répondre aux besoins de différents clients.
Au cours de la visite, notre entreprise a démontré le dernier développementSolution de processus épitaxial, couvrant le processus complet de la conception, de la production à l'inspection de la qualité. Notre capacité d'innovation a été très reconnue par les clients, et ils sont pleins d'attentes pour une coopération future. En particulier dans le domaine des applications de revêtement semi-conducteur, Vetek Semiconductor favorise continuellement le développement de l'industrie avec ses avantages techniques uniques et ses informations sur le marché.
Cette visite du client n'est pas seulement une reconnaissance de notre force de production, mais jette également une base solide pour la coopération à long terme entre les deux parties à l'avenir. Nous pensons qu'avec les efforts conjoints des deux parties, nous obtiendrons des résultats plus fructueux dans le domaine deprocessus d'épitaxie semi-conducteuret revêtement semi-conducteur à l'avenir.
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