Support de plaquette pour VEECO MOCVD (épitaxie LED)

Caractéristiques du produit :

1. Base en graphite de haute pureté avec une couche dense de SiC CVD
2. Bonne uniformité thermique pour une épitaxie LED stable
3. Résiste au NH₃, au HCl et aux autres gaz corrosifs utilisés dans le processus
4. Faible perte de particules et longue durée de vie
5. Les conceptions de poches peuvent être personnalisées pour différentes tailles de plaquettes et plates-formes de réacteurs
6. Fonctionne bien pour le fonctionnement MOCVD à long terme et à haute température

Applications :
Ces supports de tranches sont largement utilisés dans l'épitaxie des LED et des semi-conducteurs composés, notamment :

• Epitaxie LED GaN
• Epitaxie LED bleu-vert
• Croissance profonde des LED UV
• Épitaxie GaN à base de Si
• Fabrication générale de semi-conducteurs composés

Les solutions de support personnalisées s'adaptent à plusieurs plates-formes LED MOCVD, telles que :

• VEECO K465i
• VEECO K700
• VEECO K868
• Aixtron G4/G5
• A7/Unimax

Avantages techniques :

1. Revêtement CVD-SiCune technologie qui vous offre une bonne densité et pureté
2. Variation de l'épaisseur du revêtement maintenue à ± 10 μm – permet aux performances thermiques de rester stables
3. Usinage CNC jusqu'à une précision de 3 μm pour un bon ajustement des plaquettes et une bonne stabilité en rotation
4. Le revêtement adhère bien et résiste aux fissures après des cycles MOCVD répétés à haute température
5. Gère sans problème le NH₃, le HCl et d’autres environnements d’épitaxie difficiles
6. Faible génération de particules et surface propre pour un rendement élevéEpitaxie LED
7. Peut recouvrir des tailles grandes ou personnalisées pour différentes plates-formes de réacteurs et configurations de tranches
8. Longue expérience avecpièces personnalisées revêtues de graphite et de SiCpour épitaxie de LED et de semi-conducteurs composés

FAQ :
1. Que fait un support de plaquettesMOCVDEpitaxie LED ?

R : Il maintient et fait tourner les tranches à l'intérieur du réacteur MOCVD et aide à maintenir la température stable pendant la croissance épitaxiale.

2. Pourquoi utiliser des supports de tranches de graphite recouverts de SiC pour le MOCVD ?

R : LeRevêtement CVD-SiCoffre une meilleure résistance à la corrosion, une meilleure stabilité thermique et une meilleure durabilité. Il contribue également à réduire la contamination par les particules lors de l'épitaxie à haute température.

3. Vetek Semiconductor fabrique-t-il des supports de plaquettes personnalisés ?
R : Oui. Nous pouvons concevoir des supports personnalisés en fonction de la plate-forme de votre réacteur, de la taille des plaquettes, de la disposition des poches et d'autres besoins du processus.