Carbure de tantale poreux: une nouvelle génération de matériaux pour la croissance des cristaux SIC

Avec la production de masse progressive de substrats SIC conducteurs, des exigences plus élevées sont placées sur la stabilité et la répétabilité du processus. En particulier, le contrôle des défauts, de légers ajustements ou des dérives dans le champ thermique dans la fournaise entraînera des changements dans le cristal ou une augmentation des défauts.

Dans une étape ultérieure, nous serons confrontés au défi de « grandir plus vite, plus épais et plus longtemps ». En plus de l’amélioration de la théorie et de l’ingénierie, des matériaux de champ thermique plus avancés sont nécessaires comme support. Utilisez des matériaux avancés pour faire pousser des cristaux avancés.

Une mauvaise utilisation de matériaux tels que le graphite, le graphite poreux et la poudre de carbure de tantale dans le creuset dans le champ thermique entraîneront des défauts tels que l'augmentation des inclusions de carbone. De plus, dans certaines applications, la perméabilité du graphite poreux n'est pas suffisante et des trous supplémentaires doivent être ouverts pour augmenter la perméabilité. Le graphite poreux avec une perméabilité élevée fait face à des défis tels que le traitement, la perte de poudre et la gravure.

Récemment, Vetek Semiconductor a lancé une nouvelle génération de matériaux de champ thermique de croissance en cristal SIC,carbure de tantale poreux, pour la première fois au monde.

Le carbure de tantale a une résistance et une dureté élevées, et il est encore plus difficile de le rendre poreux. Il est encore plus difficile de fabriquer du carbure de tantale poreux présentant une grande porosité et une grande pureté. VeTek Semiconductor a lancé un carbure de tantale poreux révolutionnaire avec une grande porosité,avec une porosité maximale de 75 %, atteignant le premier niveau international.

De plus, il peut être utilisé pour la filtration des composants en phase gazeuse, l'ajustement des gradients de température locaux, le guidage de la direction d'écoulement des matériaux, le contrôle des fuites, etc. ; il peut être combiné avec un autre revêtement en carbure de tantale solide (dense) ou en carbure de tantale de VeTek Semiconductor pour former des composants avec différentes conductances d'écoulement locales ; certains composants peuvent être réutilisés.

Paramètres techniques

Porosité ≤75% Leader international

Forme : flocon, cylindrique Leader international

Porosité uniforme

Le carbure de tantalum poreux Vetek Semiconductor (TAC) a les caractéristiques du produit suivantes

● Porosité pour les applications polyvalentes

La structure poreuse du TAC fournit une multifonctionnalité, permettant son utilisation dans des scénarios spécialisés tels que:

Diffusion de gaz: Facilite un contrôle précis du débit de gaz dans les processus de semi-conducteurs.

Filtration: Idéal pour les environnements nécessitant une séparation de particules à haute performance.

Dissipation thermique contrôlée: Gère efficacement la chaleur dans les systèmes à haute température, améliorant la régulation thermique globale.

● Résistance extrême à la haute température

Avec un point de fusion d'environ 3 880 °C, le carbure de tantale excelle dans les applications à très haute température. Cette résistance thermique exceptionnelle garantit des performances constantes dans des conditions où la plupart des matériaux échouent.

●   Dureté et durabilité supérieures

Classé 9 à 10 sur l'échelle de dureté Mohs, similaire au diamant, Porous TaC démontre une résistance inégalée à l'usure mécanique, même sous des contraintes extrêmes. Cette durabilité le rend idéal pour les applications exposées à des environnements abrasifs.

●   Stabilité thermique exceptionnelle

Le carbure de tantale conserve son intégrité structurelle et ses performances dans une chaleur extrême. Sa stabilité thermique remarquable garantit un fonctionnement fiable dans les industries nécessitant une cohérence à haute température, comme la fabrication de semi-conducteurs et l'aérospatiale.

● Excellente conductivité thermique

Malgré sa nature poreuse, Porous TaC maintient un transfert de chaleur efficace, permettant son utilisation dans des systèmes où une dissipation rapide de la chaleur est essentielle. Cette fonctionnalité améliore l’applicabilité du matériau dans les processus à forte intensité thermique.

● Expansion thermique faible pour la stabilité dimensionnelle

Avec un coefficient de dilatation thermique faible, le carbure de tantale résiste aux changements dimensionnels causés par les fluctuations de la température. Cette propriété minimise la contrainte thermique, prolongeant la durée de vie des composants et maintenant la précision dans les systèmes critiques.

Dans la fabrication de semi-conducteurs, le carbure de tantale (TAC) poreux joue les rôles clés spécifiques suivants

●  Dans les processus à haute température tels que la gravure au plasma et le CVD, le carbure de tantale poreux semi-conducteur VeTek est souvent utilisé comme revêtement protecteur pour les équipements de traitement. Cela est dû à la forte résistance à la corrosion du revêtement TaC et à sa stabilité à haute température. Ces propriétés garantissent qu'il protège efficacement les surfaces exposées à des gaz réactifs ou à des températures extrêmes, garantissant ainsi la réaction normale des processus à haute température.

●  Dans les processus de diffusion, le carbure de tantale poreux peut servir de barrière de diffusion efficace pour empêcher le mélange de matériaux dans les processus à haute température. Cette fonctionnalité est souvent utilisée pour contrôler la diffusion des dopants dans des processus tels que l'implantation ionique et le contrôle de la pureté des tranches semi-conductrices.

●  La structure poreuse du carbure de tantale poreux des semi-conducteurs VeTek est très adaptée aux environnements de traitement des semi-conducteurs qui nécessitent un contrôle ou une filtration précis du flux de gaz. Dans ce procédé, Porous TaC joue principalement le rôle de filtration et de distribution des gaz. Son inertie chimique garantit qu'aucun contaminant n'est introduit lors du processus de filtration. Cela garantit efficacement la pureté du produit traité.

À propos de VeTek Semiconductor

En tant que fabricant de carbure poreux professionnel en Chine, fournisseur, usine, nous avons notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter du carbure de tantale avancé et durable fabriqué en Chine, vous pouvez nous laisser un message.

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