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Plaque de revêtement TAC
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Plaque de revêtement TAC

Conçue avec précision et conçue à la perfection, la plaque de revêtement TAC de Vetek Semiconductor est spécifiquement adaptée à diverses applications dans les processus de croissance monocusstal (SIC) en silicium. Ses performances fiables et son revêtement de haute qualité contribuent à des résultats cohérents et uniformes dans les applications de croissance des cristaux SIC. Nous nous engageons à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs et nous sommes impatients d'être votre partenaire à long terme en Chine.

En tant que fabricant et fournisseur de plaque de revêtement TAC de premierRéacteur épitaxie semi-conducteur, ce qui aide un excellent rendement en couche épitaxiale et une efficacité de croissance et améliorer la qualité du produit. Vous pouvez être assuré d'acheter une plaque de revêtement TAC de notre usine.


Pour la production de nouveaux semi-conducteurs avec des environnements de préparation plus sévères et plus durs, tels que la préparation du troisième groupe épitaxial de nitrure de groupe (GAN) par dépôt de vapeur chimique en métal-organique (MOCVD), et la préparation des films épitaxiaux sic tels que H par le dépôt de vapeur chimique (CVD) sont érodés par des gaz tels que H par H par le dépôt de vapeur chimique (CVD) sont érodés par des gaz tels que H par H par Hicmic Vapor Deposition (CVD) sont érodés par des gaz tels que H par H par Himical Vapor Deposition (CVD) sont érodés par des gaz tels que H par h2et NH3dans des environnements à haute température. Les couches de protection SIC et BN à la surface des porteurs de croissance existants ou des canaux de gaz peuvent échouer en raison de leur implication dans les réactions chimiques, ce qui affecte négativement la qualité de produits tels que les cristaux et les semi-conducteurs. 


Par conséquent, il est nécessaire de trouver un matériau avec une meilleure stabilité chimique et une résistance à la corrosion comme couche protectrice pour améliorer la qualité des cristaux, des semi-conducteurs et d'autres produits. Le carbure de tantale a d'excellentes propriétés physiques et chimiques, en raison du rôle de fortes liaisons chimiques, sa stabilité chimique à haute température et sa résistance à la corrosion sont beaucoup plus élevées que le SiC, le BN, etc., est une excellente perspective d'application de résistance à la corrosion, de la stabilité thermique en cours de revêtement.


Vetek Semiconductor a un équipement de production avancé et un système de gestion de qualité parfait, un contrôle strict des processus pour assurerRevêtement TACDans les lots de cohérence des performances, l'entreprise a une capacité de production à grande échelle, pour répondre aux besoins des clients en grande quantité d'approvisionnement, un mécanisme de surveillance de qualité parfait pour garantir la qualité de chaque produit stable et fiable.


Revêtement en carbure de tantale sur une section transversale microscopique:

Tantalum carbide coating on a microscopic cross-section


Paramètre de base du produit de la plaque de revêtement TAC:

Propriétés physiques du revêtement TAC
Densité de revêtement 14.3 (g / cm³)
Émissivité spécifique 0.3
Coefficient de dilatation thermique 6.3 * 10-6/ K
Dureté de revêtement TAC (HK) 2000 HK
Résistance 1 × 10-5 ohm * cm
Stabilité thermique <2500 ℃
Modifications de la taille du graphite -10 ~ -20UM
Épaisseur de revêtement Valeur typique ≥20UM (35UM ± 10UM)


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