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Ensemble de récepteurs LPE SI EPI
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Ensemble de récepteurs LPE SI EPI

Le suscepteur plat et le suscepteur de barils sont la principale forme de l'EPI Sondors. Le semi-conducteur Vetek est un fabricant et un innovateur de premier plan LPE SI LPE SI EPI en Chine. Nous avons été spécialisés dans le revêtement SIC et le revêtement TAC depuis de nombreuses années. Ensemble conçu spécifiquement pour les plaquettes LPE PE2061S 4 ". Le degré correspondant de matériel de graphite et de revêtement SIC est bon, l'uniformité est excellente, et la vie est longue, ce qui peut améliorer le rendement de la croissance de la couche épitaxiale pendant le LPE (Epitaxy de phase liquide) Process.Nous vous accueillent pour visiter notre usine en Chine.

Vetek Semiconductor est un LPE de Chine professionnelle si le fabricant et le fournisseur de l'EPI Suppers set. Avec une bonne qualité et un prix compétitif, bienvenue pour visiter notre usine et établir une coopération à long terme avec nous.


L'ensemble de suscepteurs VeTeK Semiconductor LPE Si Epi est un produit haute performance créé en appliquant une fine couche de carbure de silicium sur la surface d'un matériau hautement purifié.graphite isotrope. Ceci est réalisé par le biais du processus de dépôt de vapeur chimique (CVD) de la phase chimique (CVD) de Vetek.


L'ensemble de suscepteurs LPE Si Epi de VeTek Semiconductor est un réacteur cylindrique de dépôt épitaxial CVD conçu pour fonctionner de manière fiable même dans des conditions difficiles. Son adhérence exceptionnelle du revêtement, sa résistance à l’oxydation à haute température et à la corrosion en font un choix idéal pour les environnements difficiles. De plus, son profil thermique uniforme et son flux de gaz laminaire empêchent la contamination, garantissant ainsi la croissance de couches épitaxiales de haute qualité.


La conception en forme de tonneau de notre réacteur épitaxial à semi-conducteurs optimise le flux de gaz, garantissant ainsi une répartition uniforme de la chaleur. Cette fonctionnalité empêche efficacement la contamination et la diffusion d’impuretés, garantissant ainsi la production de couches épitaxiales de haute qualité sur des substrats de tranches.


Chez VeTek Semiconductor, nous nous engageons à fournir à nos clients des produits de haute qualité et rentables. Notre ensemble de suscepteurs LPE Si Epi offre des prix compétitifs tout en conservant une excellente densité pour le substrat en graphite etrevêtement en carbure de silicium. Cette combinaison garantit une protection fiable dans les environnements de travail à haute température et corrosifs.


DONNÉES SEM DU FILM CVD SIC

SEM DATA OF CVD SIC FILM


Propriétés physiques de base du revêtement CVD SIC:

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SIC
Propriété Valeur typique
Structure cristalline Phase β FCC polycristalline, principalement orientée (111)
Revêtement CVD SiC Densité 3,21 g/cm³
Dureté de revêtement sic Dureté Vickers 2500 (charge de 500 g)
Taille des grains 2 ~ 10 mm
Pureté chimique 99,99995%
Capacité thermique 640 J · kg-1· K-1
Température de sublimation 2700 ℃
Résistance à la flexion 415 MPA RT 4 points
Module de Young Courbure 430 Gpa 4pt, 1300℃
Conductivité thermique 300W · M-1· K-1
Expansion thermique (CTE) 4,5×10-6K-1


Semi-conducteur VeTek LPE SI SEPTORT EPI SEPTORTAtelier de production

SiC Graphite substrateLPE SI EPI Susceptor Set testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment

Aperçu de la chaîne industrielle de l’épitaxie des puces semi-conductrices :

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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