Fournace d'oxydation et de diffusion

Les fours d'oxydation et de diffusion sont utilisés dans divers domaines tels que les dispositifs semi-conducteurs, les dispositifs discrets, les dispositifs optoélectroniques, les dispositifs électroniques de puissance, les cellules solaires et la fabrication de circuits intégrés à grande échelle. Ils sont utilisés pour des processus, notamment la diffusion, l'oxydation, le recuit, l'alliage et le frittage des plaquettes.

Vetek Semiconductor est l'un des principaux fabricants spécialisés dans la production de composants graphite, en carbure de silicium et en silicium dans les fours d'oxydation et de diffusion. Nous nous engageons à fournir des composants de fournaise de haute qualité pour les industries semi-conducteurs et photovoltaïques, et sommes à la pointe de la technologie de revêtement de surface, tels que CVD-SIC, CVD-TAC, pyrocarbone, etc.

Les avantages des composants en carbure de silicium Vetek Semiconductor:

● Résistance à haute température (jusqu'à 1600 ℃)

● Excellente conductivité thermique et stabilité thermique

● Bonne résistance à la corrosion chimique

● Faible coefficient d'expansion thermique

● Haute résistance et dureté

● Longue durée de vie

Dans les fours d'oxydation et de diffusion, en raison de la présence de gaz à haute température et de gaz corrosifs, de nombreux composants nécessitent l'utilisation de matériaux à haute température et résistants à la corrosion, parmi lesquels le carbure de silicium (sic) est un choix couramment utilisé. Voici les composants de carbure de silicium communs trouvés dans les fours d'oxydation et les fours de diffusion:

● Boat à plaquette

Le bateau à la plaquette en carbure de silicium est un récipient utilisé pour transporter des plaquettes de silicium, qui peuvent résister à des températures élevées et ne réagiront pas avec les tranches de silicium.

● Tube de four

Le tube de la fournaise est le composant central de la fournaise de diffusion, utilisé pour accueillir des tranches de silicium et contrôler l'environnement de réaction. Les tubes de la fournaise en carbure de silicium ont une excellente performance à haute température et à la résistance à la corrosion.

● Plaque de défilé

Utilisé pour réguler le flux d'air et la distribution de la température à l'intérieur du four

● Tube de protection des thermocouples

Utilisé pour protéger la température à mesurer les thermocouples du contact direct avec des gaz corrosifs.

● Pagnière en porte-à-faux

Les pagaies en cantilever en carbure de silicium sont résistantes à la température élevée et à la corrosion, et sont utilisées pour transporter des bateaux en silicium ou des bateaux en quartz transportant des plaquettes de silicium dans les tubes de four à diffusion.

● Injecteur de gaz

Utilisé pour introduire le gaz de réaction dans le four, il doit être résistant à la température élevée et à la corrosion.

● transporteur de bateaux

Le transporteur de bateaux à plate-forme en carbure de silicium est utilisé pour réparer et soutenir les plaquettes de silicium, qui présentent des avantages tels que une résistance élevée, une résistance à la corrosion et une bonne stabilité structurelle.

● Porte de fournaise

Les revêtements ou composants en carbure de silicium peuvent également être utilisés à l'intérieur de la porte du four.

● Élément de chauffage

Les éléments de chauffage en carbure de silicium conviennent à des températures élevées, une puissance élevée et peuvent rapidement augmenter les températures à plus de 1000 ℃.

● Dougleur SIC

Utilisé pour protéger la paroi intérieure des tubes de fournaise, il peut aider à réduire la perte d'énergie thermique et résister aux environnements durs tels que la température élevée et la haute pression.

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Carbure de gigantes en carbure de silicium pur élevé

Vetek Semiconductor High Pure Silicon Carbide Carbure Carrier est important dans le traitement des semi-conducteurs, conçu pour maintenir et transporter des plaquettes de silicium délicates en toute sécurité, jouant un rôle clé à toutes les étapes de la fabrication. Le transporteur de gigue de carbure de silicium en silicium élevé de Vetek Semiconductor est soigneusement conçu et fabriqué pour assurer d'excellentes performances et fiabilité. Vetek Semiconductor s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, et nous sommes impatients d'être votre partenaire à long terme en Chine.

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Bateau à plaquette en carbure de silicium

Le bateau à plaquette en carbure de silicium de silicium de haute pureté de Vetek est fait de matériau en carbure de silicium extrêmement pur avec une excellente stabilité thermique, une résistance mécanique et une résistance chimique. Le bateau à gaufrette en carbure de silicium de haute pureté est utilisé dans des applications de zone chaude dans la fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans des environnements à haute température, et joue un rôle important dans la protection des plaquettes, le transport des matériaux et le maintien de processus stables. Vetek Semiconductor continuera de travailler dur pour innover et améliorer les performances du bateau à plafonds en carbure de silicium de haute pureté pour répondre aux besoins en évolution de la fabrication de semi-conducteurs. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine. Nous sommes liés à nous enquêter.

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Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.

Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.

Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.

For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.

En tant que fabricant et fournisseur professionnel Fournace d'oxydation et de diffusion en Chine, nous avons notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter avancé et durable Fournace d'oxydation et de diffusion en Chine, vous pouvez nous laisser un message.

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