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Wangda Road, Ziyang Street, comté de Wuyi, City de Jinhua, province du Zhejiang, Chine
Les fours d'oxydation et de diffusion sont utilisés dans divers domaines tels que les dispositifs semi-conducteurs, les dispositifs discrets, les dispositifs optoélectroniques, les dispositifs électroniques de puissance, les cellules solaires et la fabrication de circuits intégrés à grande échelle. Ils sont utilisés pour des processus, notamment la diffusion, l'oxydation, le recuit, l'alliage et le frittage des plaquettes.
Vetek Semiconductor est l'un des principaux fabricants spécialisés dans la production de composants graphite, en carbure de silicium et en silicium dans les fours d'oxydation et de diffusion. Nous nous engageons à fournir des composants de fournaise de haute qualité pour les industries semi-conducteurs et photovoltaïques, et sommes à la pointe de la technologie de revêtement de surface, tels que CVD-SIC, CVD-TAC, pyrocarbone, etc.
● Résistance à haute température (jusqu'à 1600 ℃)
● Excellente conductivité thermique et stabilité thermique
● Bonne résistance à la corrosion chimique
● Faible coefficient d'expansion thermique
● Haute résistance et dureté
● Longue durée de vie
Dans les fours d'oxydation et de diffusion, en raison de la présence de gaz à haute température et de gaz corrosifs, de nombreux composants nécessitent l'utilisation de matériaux à haute température et résistants à la corrosion, parmi lesquels le carbure de silicium (sic) est un choix couramment utilisé. Voici les composants de carbure de silicium communs trouvés dans les fours d'oxydation et les fours de diffusion:
● Boat à plaquette
Le bateau à la plaquette en carbure de silicium est un récipient utilisé pour transporter des plaquettes de silicium, qui peuvent résister à des températures élevées et ne réagiront pas avec les tranches de silicium.
● Tube de four
Le tube de la fournaise est le composant central de la fournaise de diffusion, utilisé pour accueillir des tranches de silicium et contrôler l'environnement de réaction. Les tubes de la fournaise en carbure de silicium ont une excellente performance à haute température et à la résistance à la corrosion.
● Plaque de défilé
Utilisé pour réguler le flux d'air et la distribution de la température à l'intérieur du four
● Tube de protection des thermocouples
Utilisé pour protéger la température à mesurer les thermocouples du contact direct avec des gaz corrosifs.
● Pagnière en porte-à-faux
Les pagaies en cantilever en carbure de silicium sont résistantes à la température élevée et à la corrosion, et sont utilisées pour transporter des bateaux en silicium ou des bateaux en quartz transportant des plaquettes de silicium dans les tubes de four à diffusion.
● Injecteur de gaz
Utilisé pour introduire le gaz de réaction dans le four, il doit être résistant à la température élevée et à la corrosion.
● transporteur de bateaux
Le transporteur de bateaux à plate-forme en carbure de silicium est utilisé pour réparer et soutenir les plaquettes de silicium, qui présentent des avantages tels que une résistance élevée, une résistance à la corrosion et une bonne stabilité structurelle.
● Porte de fournaise
Les revêtements ou composants en carbure de silicium peuvent également être utilisés à l'intérieur de la porte du four.
● Élément de chauffage
Les éléments de chauffage en carbure de silicium conviennent à des températures élevées, une puissance élevée et peuvent rapidement augmenter les températures à plus de 1000 ℃.
● Dougleur SIC
Utilisé pour protéger la paroi intérieure des tubes de fournaise, il peut aider à réduire la perte d'énergie thermique et résister aux environnements durs tels que la température élevée et la haute pression.
Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.
Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.
Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.
For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.
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