Des produits

L'anneau en graphite à revêtement CVD TaC de Veteksemicon est conçu pour répondre aux exigences extrêmes du traitement des plaquettes semi-conductrices. Grâce à la technologie de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), un revêtement dense et uniforme en carbure de tantale (TaC) est appliqué sur des substrats en graphite de haute pureté, atteignant une dureté, une résistance à l'usure et une inertie chimique exceptionnelles. Dans la fabrication de semi-conducteurs, l'anneau en graphite recouvert de TaC CVD est largement utilisé dans les chambres de croissance MOCVD, de gravure, de diffusion et d'épitaxie, servant de composant structurel ou d'étanchéité clé pour les supports de tranches, les suscepteurs et les assemblages de blindage. Dans l’attente de votre prochaine consultation.

L'anneau en graphite poreux revêtu de TaC produit par VETEK utilise un substrat en graphite poreux léger et est recouvert d'un revêtement en carbure de tantale de haute pureté, offrant une excellente résistance aux températures élevées, aux gaz corrosifs et à l'érosion du plasma.

La palette en porte-à-faux en carbure de silicium de Veteksemicon est conçue pour le traitement avancé des plaquettes dans la fabrication de semi-conducteurs. Fabriqué en SiC de haute pureté, il offre une stabilité thermique exceptionnelle, une résistance mécanique supérieure et une excellente résistance aux températures élevées et aux environnements corrosifs. Ces caractéristiques garantissent une manipulation précise des tranches, une durée de vie prolongée et des performances fiables dans des processus tels que le MOCVD, l'épitaxie et la diffusion. Bienvenue à consulter.

Le mandrin à vide en céramique Veteksemicon SiC pour plaquettes est conçu pour offrir une précision et une fiabilité exceptionnelles dans le traitement des plaquettes semi-conductrices. Fabriqué à partir de carbure de silicium de haute pureté, il garantit une excellente conductivité thermique, une résistance chimique et une résistance mécanique supérieure, ce qui le rend idéal pour les applications exigeantes telles que la gravure, le dépôt et la lithographie. Sa surface ultra-plate garantit un support stable des plaquettes, minimisant les défauts et améliorant le rendement du processus. ce mandrin à vide est le choix de confiance pour la manipulation de plaquettes haute performance.

La bague de mise au point en SiC solide Veteksemi améliore considérablement l'uniformité de la gravure et la stabilité du processus en contrôlant avec précision le champ électrique et le flux d'air au bord de la tranche. Il est largement utilisé dans les processus de gravure de précision pour le silicium, les diélectriques et les matériaux semi-conducteurs composés, et constitue un élément clé pour garantir le rendement de la production de masse et le fonctionnement fiable des équipements à long terme.

Dans les étapes critiques du nettoyage, de la gravure et de la gravure humide des plaquettes, le bain de quartz de haute pureté est plus qu'un simple récipient ; c'est la première ligne de défense pour le succès du processus. La contamination par les ions métalliques, la fissuration par choc thermique, les attaques chimiques et les résidus de particules sont des causes cachées des fluctuations de rendement. Veteksemi est profondément enraciné dans le quartz de qualité semi-conducteur. Chaque bain de quartz que nous fabriquons est conçu pour offrir une fiabilité et une propreté sans compromis à vos processus de pointe.