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Pommeau de douche en graphite recouvert de carbure de silicium CVD (SiC)
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Pommeau de douche en graphite recouvert de carbure de silicium CVD (SiC)

Si vous avez déjà été confronté à un débit de gaz irrégulier ou à une contamination par des particules dans une chambre de dépôt, la pomme de douche en graphite à revêtement SiC CVD VETEK est conçue pour résoudre ce problème. Il commence par du graphite isostatique de haute pureté pour une stabilité thermique et un usinage facile, puis obtient un revêtement dense en carbure de silicium (SiC) CVD qui scelle la surface, résiste aux gaz corrosifs (comme le HCl ou le NF₃) et empêche le dégazage. Le résultat est une plaque de distribution de gaz qui fournit un flux uniforme à travers la tranche, gère l'épitaxie à haute température et dure beaucoup plus longtemps que le graphite nu ou le quartz, ce qui en fait un composant de confiance pour les processus CVD, PECVD, MOCVD, épitaxie silicium et épitaxie SiC. Nous proposons également des modèles et des tailles de trous personnalisés, car il n'y a pas deux réacteurs exactement identiques.

Principales fonctionnalités

• Ultra‑haute pureté – Le revêtement SiC scelle complètement le graphite, donc pas de dégazage ni de contamination métallique.

• Excellente distribution du gaz – Chaque pomme de douche est usinée pour fournir une vitesse de gaz constante sur toute la tranche.

• Résistance supérieure à la corrosion – CVD SiC ne réagit pas avec les halogènes ou les résidus de processus. Il dure beaucoup plus longtemps que le graphite ou le quartz nu.

• Performance thermique exceptionnelle – Le revêtement correspond étroitement à la dilatation thermique du graphite, donc pas de fissure lors de rampes de température rapides.

• Fabrication de précision – Nous utilisons l'usinage CNC et le revêtement CVD en interne. Les diamètres et les modèles de trous sont soumis à des tolérances strictes.


Spécifications techniques



Applications

Ces pommes de douche sont utilisées dans :

• Systèmes CVD de semi-conducteurs (production et R&D)

• Équipement PECVD – diélectriques basse température

• Réacteurs MOCVD – composés III‑V comme GaN, InP

• Épitaxie de silicium (Si Epi) – pour les dispositifs de puissance et CMOS

• Épitaxie SiC – électronique de puissance haute tension

• Fabriques de semi-conducteurs composés

• Emballage avancé (par exemple, dépôt de revêtement TSV)

• Tout outil à couche mince nécessitant un distributeur de gaz de haute pureté résistant à la corrosion



Pourquoi choisir VETEK ?

• Nous ne sommes pas une société commerciale. Tout – de l’usinage du graphite au revêtement final CVD SiC – est réalisé en interne. Cela signifie que nous contrôlons la qualité, les délais et les coûts.

• Fabrication entièrement en interne – pas de surprises en matière d'externalisation

• Technologie de revêtement avancée – CVD SiC dense et sans piqûre

• Assistance technique personnalisée : envoyez-nous le dessin de votre pomme de douche ou simplement le modèle de réacteur.

• Chaîne d'approvisionnement fiable en semi-conducteurs : nous fournissons des usines de fabrication et des équipementiers depuis des années.

• Vous n'avez pas besoin de requalifier une nouvelle conception à chaque fois. Nous avons déjà enduit des pommes de douche pour de nombreuses plateformes courantes (AMAT, TEL, LAM, ASM, etc.).


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Pour toute demande concernant le revêtement en carbure de silicium, le revêtement en carbure de tantale, le graphite spécial ou la liste de prix, veuillez nous laisser votre e-mail et nous vous contacterons dans les 24 heures.
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