Des produits

La chambre du réacteur épitaxial à revêtement SiC Veteksemicon est un composant central conçu pour les processus exigeants de croissance épitaxiale de semi-conducteurs. Utilisant un dépôt chimique en phase vapeur (CVD) avancé, ce produit forme un revêtement SiC dense et de haute pureté sur un substrat en graphite à haute résistance, ce qui se traduit par une stabilité supérieure à haute température et une résistance à la corrosion. Il résiste efficacement aux effets corrosifs des gaz réactifs dans les environnements de processus à haute température, supprime considérablement la contamination particulaire, garantit une qualité constante des matériaux épitaxiaux et un rendement élevé, et prolonge considérablement le cycle de maintenance et la durée de vie de la chambre de réaction. Il s’agit d’un choix clé pour améliorer l’efficacité de fabrication et la fiabilité des semi-conducteurs à large bande interdite tels que le SiC et le GaN.

Le Silicon Cassette Boat de Veteksemicon est un support de tranche de précision développé spécifiquement pour les applications de fours à semi-conducteurs à haute température, notamment l'oxydation, la diffusion, l'entraînement et le recuit. Fabriqué à partir de silicium de très haute pureté et fini selon des normes avancées de contrôle de la contamination, il constitue une plate-forme thermiquement stable et chimiquement inerte qui correspond étroitement aux propriétés des plaquettes de silicium elles-mêmes. Cet alignement minimise les contraintes thermiques, réduit le glissement et la formation de défauts et assure une répartition exceptionnellement uniforme de la chaleur dans tout le lot.

Dans le processus central de croissance épitaxiale du carbure de silicium, Veteksemicon comprend que les performances du suscepteur déterminent directement la qualité et l'efficacité de production de la couche épitaxiale. Nos suscepteurs EPI de haute pureté, conçus spécifiquement pour le domaine du SiC, utilisent un substrat en graphite spécial et un revêtement SiC CVD dense. Grâce à leur stabilité thermique supérieure, leur excellente résistance à la corrosion et leur taux de génération de particules extrêmement faible, ils garantissent aux clients une épaisseur et une uniformité de dopage inégalées, même dans des environnements de processus difficiles à haute température. Choisir Veteksemicon, c'est choisir la pierre angulaire de la fiabilité et des performances pour vos processus avancés de fabrication de semi-conducteurs.

Le suscepteur en graphite à revêtement Veteksemicon SiC pour ASM est un composant porteur essentiel dans les processus d'épitaxie des semi-conducteurs. Ce produit utilise notre technologie exclusive de revêtement pyrolytique en carbure de silicium et nos processus d'usinage de précision pour garantir des performances supérieures et une durée de vie ultra longue dans des environnements de processus corrosifs et à haute température. Nous comprenons parfaitement les exigences strictes des processus épitaxiaux en matière de pureté du substrat, de stabilité thermique et de cohérence, et nous nous engageons à fournir à nos clients des solutions stables et fiables qui améliorent les performances globales de l'équipement.

Les creusets en quartz de qualité semi-conducteur Veteksemicon sont des consommables clés dans le processus de croissance monocristallin Czochralski. Avec une pureté extrême et une stabilité thermique supérieure comme objectif principal, nous nous engageons à fournir à nos clients des produits de haute qualité qui présentent des performances stables et une excellente résistance à la cristallisation dans des environnements à haute température et haute pression. Cela garantit la qualité des tiges de cristal provenant de la source, aidant ainsi la fabrication de plaquettes de silicium semi-conductrices à atteindre des rendements plus élevés et une meilleure rentabilité.

La bague de mise au point Veteksemicon est conçue spécifiquement pour les équipements de gravure de semi-conducteurs exigeants, en particulier les applications de gravure SiC. Monté autour du mandrin électrostatique (ESC), à proximité immédiate de la tranche, sa fonction principale est d'optimiser la répartition du champ électromagnétique dans la chambre de réaction, garantissant une action plasma uniforme et ciblée sur toute la surface de la tranche. Une bague de mise au point haute performance améliore considérablement l'uniformité du taux de gravure et réduit les effets de bord, augmentant ainsi directement le rendement du produit et l'efficacité de la production.