Des produits

Dans le processus central de croissance épitaxiale du carbure de silicium, Veteksemicon comprend que les performances du suscepteur déterminent directement la qualité et l'efficacité de production de la couche épitaxiale. Nos suscepteurs EPI de haute pureté, conçus spécifiquement pour le domaine du SiC, utilisent un substrat en graphite spécial et un revêtement SiC CVD dense. Grâce à leur stabilité thermique supérieure, leur excellente résistance à la corrosion et leur taux de génération de particules extrêmement faible, ils garantissent aux clients une épaisseur et une uniformité de dopage inégalées, même dans des environnements de processus difficiles à haute température. Choisir Veteksemicon, c'est choisir la pierre angulaire de la fiabilité et des performances pour vos processus avancés de fabrication de semi-conducteurs.

Le suscepteur en graphite à revêtement Veteksemicon SiC pour ASM est un composant porteur essentiel dans les processus d'épitaxie des semi-conducteurs. Ce produit utilise notre technologie exclusive de revêtement pyrolytique en carbure de silicium et nos processus d'usinage de précision pour garantir des performances supérieures et une durée de vie ultra longue dans des environnements de processus corrosifs et à haute température. Nous comprenons parfaitement les exigences strictes des processus épitaxiaux en matière de pureté du substrat, de stabilité thermique et de cohérence, et nous nous engageons à fournir à nos clients des solutions stables et fiables qui améliorent les performances globales de l'équipement.

Les creusets en quartz de qualité semi-conducteur Veteksemicon sont des consommables clés dans le processus de croissance monocristallin Czochralski. Avec une pureté extrême et une stabilité thermique supérieure comme objectif principal, nous nous engageons à fournir à nos clients des produits de haute qualité qui présentent des performances stables et une excellente résistance à la cristallisation dans des environnements à haute température et haute pression. Cela garantit la qualité des tiges de cristal provenant de la source, aidant ainsi la fabrication de plaquettes de silicium semi-conductrices à atteindre des rendements plus élevés et une meilleure rentabilité.

La bague de mise au point Veteksemicon est conçue spécifiquement pour les équipements de gravure de semi-conducteurs exigeants, en particulier les applications de gravure SiC. Monté autour du mandrin électrostatique (ESC), à proximité immédiate de la tranche, sa fonction principale est d'optimiser la répartition du champ électromagnétique dans la chambre de réaction, garantissant une action plasma uniforme et ciblée sur toute la surface de la tranche. Une bague de mise au point haute performance améliore considérablement l'uniformité du taux de gravure et réduit les effets de bord, augmentant ainsi directement le rendement du produit et l'efficacité de la production.

La plaque support en carbure de silicium Veteksemicon pour la gravure LED, spécialement conçue pour la fabrication de puces LED, est un consommable essentiel dans le processus de gravure. Fabriqué à partir de carbure de silicium de haute pureté fritté avec précision, il offre une résistance chimique exceptionnelle et une stabilité dimensionnelle à haute température, résistant efficacement à la corrosion causée par les acides forts, les bases et le plasma. Ses propriétés de faible contamination garantissent des rendements élevés pour les plaquettes épitaxiales LED, tandis que sa durabilité, bien supérieure à celle des matériaux traditionnels, aide les clients à réduire les coûts d'exploitation globaux, ce qui en fait un choix fiable pour améliorer l'efficacité et la cohérence du processus de gravure.

Le bateau en graphite Veteksemicon pour PECVD est usiné avec précision à partir de graphite de haute pureté et conçu spécifiquement pour les processus de dépôt chimique en phase vapeur améliorés par plasma. Tirant parti de notre compréhension approfondie des matériaux du champ thermique semi-conducteur et de nos capacités d'usinage de précision, nous proposons des bateaux en graphite dotés d'une stabilité thermique exceptionnelle, d'une excellente conductivité et d'une longue durée de vie. Ces bateaux sont conçus pour garantir un dépôt de couche mince très uniforme sur chaque tranche dans l'environnement exigeant du processus PECVD, améliorant ainsi le rendement et la productivité du processus.