CVD SIC revêtement Epitaxy Sousiner

Le revêtement de revêtement CVD SIC de VetekSEMICON est un outil de précision conçu pour le traitement de la tranche de semi-conducteur. Ce suscepteur épitaxy de revêtement SIC joue un rôle vital dans la promotion de la croissance des films minces, des épilkages et d'autres revêtements, et peut contrôler avec précision la température et les propriétés des matériaux. Bienvenue à vos autres demandes.

BasiquePropriétés physiques du revêtement CVD SIC:

CVD SIC revêtement Epitaxy Sousiner Produit Avantages:

● Dépôt précis: Le suscepteur combine un substrat de graphite hautement thermiquement conducteur avec un revêtement SIC pour fournir une plate-forme de support stable pour les substrats (comme le saphir, le sic ou le gan). Sa conductivité thermique élevée (comme le SIC est d'environ 120 W / m · k) peut rapidement transférer la chaleur et assurer une distribution de température uniforme sur la surface du substrat, favorisant ainsi une croissance de haute qualité de la couche épitaxiale.

● Réduction de la contamination: Le revêtement SIC préparé par le processus de MCV a une pureté extrêmement élevée (teneur en impureté <5 ppm) et est très résistant aux gaz corrosifs (tels que Cl₂, NH₃), évitant la contamination de la couche épitaxiale.

● Durabilité: La dureté élevée du SIC (dureté Mohs 9.5) et la résistance à l'usure réduisent la perte mécanique de la base lors d'une utilisation répétée et conviennent aux processus de production de semi-conducteurs à haute fréquence.

VetekSemicon s'engage à fournir des produits de haute qualité et des prix compétitifs. Nous sommes impatients d'être votre partenaire à long terme en Chine.

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