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1. Qu'est-ce que le carbure de tantale?
Le carbure de tantale (TAC) est un composé binaire composé de tantale et de carbone avec la formule empirique TACX, où X varie généralement dans la plage de 0,4 à 1. Ils sont des matériaux de céramique réfractaire conductoire métallique très durs et fractifs. Ce sont des poudres-gris brunes, généralement frittées. En tant qu'important matériau en céramique métallique, le carbure de tantalum est utilisé commercialement pour les outils de coupe et est parfois ajouté aux alliages de carbure de tungstène.
Figure 1. Matières premières en carbure de tantale
Le carbure de tantale en céramique est une céramique contenant sept phases cristallines de carbure de tantale. La formule chimique est un réseau cubique TAC centré sur le visage.
Figure 2.Tantalum Carbure - Wikipedia
La densité théorique est de 1,44, le point de fusion est de 3730-3830 ℃, le coefficient de dilatation thermique est de 8,3 × 10-6, le module élastique est 291gpa, la conductivité thermique est de 0,22J / cm · S · C, et le point de fusion de pointe du carbure de tantalum est d'environ 3880 ℃, en fonction du point de pureté et des conditions de mesure de la purate. Cette valeur est la plus élevée parmi les composés binaires.
Figure 3.Dépôt de vapeur chimique du carbure de tantale dans le Tabr5 & ndash
2. Quelle est la force du carbure de tantale?
En testant la dureté de Vickers, la ténacité à la fracture et la densité relative d'une série d'échantillons, il peut être déterminé que le TAC a les meilleures propriétés mécaniques à 5,5 gpa et 1300 ℃. La densité relative, la ténacité de fracture et la dureté de Vickers du TAC sont respectivement de 97,7%, 7,4MPAM1 / 2 et 21,0 GPA.
Le carbure de tantale est également appelé céramique en carbure de tantale, qui est une sorte de matériau en céramique au sens large;Les méthodes de préparation du carbure de tantale comprennentCVDMéthode, méthode de frittage, etc. À l'heure actuelle, la méthode CVD est plus couramment utilisée dans les semi-conducteurs, avec une pureté élevée et un coût élevé.
3. Comparaison entre le carbure de tantale et le carbure de tantaleCVD
Dans la technologie de traitement des semi-conducteurs, le carbure de tantale et le dépôt de vapeur chimique (CVD) en carbure de vapeur chimique (CVD) sont deux méthodes courantes pour préparer le carbure de tantale, qui ont des différences significatives dans le processus de préparation, la microstructure, les performances et l'application.
3.1 Processus de préparation
Carbure de tantale fritté: La poudre de carbure de tantale est fritté à haute température et à haute pression pour former une forme. Ce processus implique la densification de la poudre, la croissance des grains et l'élimination des impuretés.
CVD Tantalum Carbure: Le précurseur gazeux du carbure de tantale est utilisé pour réagir chimiquement à la surface du substrat chauffé, et le film de carbure de tantale est déposé de couche par couche. Le processus CVD a une bonne capacité de contrôle de l'épaisseur du film et l'uniformité de la composition.
3,2 microstructure
Carbure de tantale fritté: Généralement, il s'agit d'une structure polycristalline avec une grande taille de grains et des pores. Sa microstructure est affectée par des facteurs tels que la température de frittage, la pression et les caractéristiques de la poudre.
CVD Tantalum Carbure: Il s'agit généralement d'un film polycristallin dense avec une petite taille de grain et peut atteindre une croissance hautement orientée. La microstructure du film est affectée par des facteurs tels que la température du dépôt, la pression du gaz et la composition de la phase gazeuse.
3.3 Différences de performance
Figure 4. Différences de performances entre le TAC fritté et le TACCVD
3.4 Applications
Carbure de tantale: En raison de sa forte résistance, de sa dureté élevée et de sa résistance à haute température, il est largement utilisé dans les outils de coupe, les pièces résistantes à l'usure, les matériaux structurels à haute température et autres champs. Par exemple, le carbure de tantalum fritté peut être utilisé pour fabriquer des outils de coupe tels que des exercices et des fraises pour améliorer l'efficacité de traitement et la qualité de la surface des pièces.
CVD Tantalum Carbure: En raison de ses propriétés à couches minces, de sa bonne adhésion et de son uniformité, il est largement utilisé dans les appareils électroniques, les matériaux de revêtement, les catalyseurs et autres champs. Par exemple, le carbure de tantale CVD peut être utilisé comme interconnexion pour les circuits intégrés, les revêtements résistants à l'usure et les porteurs de catalyseurs.
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En tant que fabricant de revêtement en carbure de tantale, fournisseur et usine, Vetek Semiconductor est l'un des principaux fabricants de matériaux de revêtement en carbure de tantale pour l'industrie des semi-conducteurs.
Nos produits principaux incluentCVD Tantalum Carbide revêtu de carbure, Parties couchées TAC frittes pour la croissance des cristaux SIC ou les processus d'épitaxie semi-conducteurs. Nos principaux produits sont les anneaux de guidage revêtu de carbure de tantale, les anneaux de guidage revêtu de TAC, les pièces de la demi-lune enduites de TAC, les disques rotatifs planétaires enduits de carbure de tantale (Aixtron G10), les creusets enduits de TAC; Anneaux enduits de TAC; Graphite poreux enduit de tac; Sous-suscepteurs en graphite enduit de carbure de tantale; Anneaux de guide enduit de tac; Plaques revêtues de carbure de TAC Tantalum; TAC en revêtement de suscepteurs de plaquettes; Caps de graphite enrobés de TAC; Blocs enrobés TAC, etc., avec une pureté inférieure à 5 ppm pour répondre aux exigences des clients.
Figure 5. Produits de revêtement TAC à vente chaude de Vetek Semiconductor
Vetek Semiconductor s'engage à devenir un innovateur dans l'industrie du revêtement en carbure de tantale grâce à la recherche continue et au développement des technologies itératives.
Si vous êtes intéressé par les produits TAC, n'hésitez pas à nous contacter directement.
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