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Piédestal en silicone
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Piédestal en silicone

Le piédestal en silicium semi-conducteur VETEK est un composant clé des processus de diffusion et d'oxydation des semi-conducteurs. En tant que plate-forme dédiée pour transporter des bateaux en silicium dans des fours à haute température, le piédestal de silicium présente de nombreux avantages uniques, notamment une amélioration de l'uniformité de la température, une qualité de tranche optimisée et des performances améliorées des dispositifs semi-conducteurs. Pour plus d'informations sur les produits, n'hésitez pas à nous contacter.

Vetek Semiconductor Silicon Swescepteur est un produit en silicium pur conçu pour assurer la stabilité de la température dans le tube du réacteur thermique pendant le traitement de la tranche de silicium, améliorant ainsi l'efficacité de l'isolation thermique. Le traitement de la plaquette de silicium est un processus extrêmement précis, et la température joue un rôle crucial, affectant directement l'épaisseur et l'uniformité du film de la tranche de silicium.


Le socle en silicium est situé dans la partie inférieure du tube du réacteur thermique du four, supportant le siliciumporte-avionstout en offrant une isolation thermique efficace. À la fin du processus, il refroidit progressivement jusqu'à température ambiante avec le support de plaquette de silicium.


Fonctions de base et avantages des piédestaux en silicium Vetek Semiconductor:

Fournir un support stable pour garantir la précision du processus

Le socle en silicium fournit une plate-forme de support stable et hautement résistante à la chaleur pour le bateau en silicium dans la chambre du four à haute température. Cette stabilité peut empêcher efficacement le déplacement ou l'inclinaison du bateau en silicium pendant le traitement, évitant ainsi d'affecter l'uniformité du flux d'air ou de détruire la répartition de la température, garantissant ainsi une haute précision et une cohérence du processus.


Améliorer l'uniformité de la température dans le four et améliorer la qualité des tranches

En isolant la nacelle en silicium du contact direct avec le fond ou la paroi du four, la base en silicium peut réduire la perte de chaleur provoquée par conduction, obtenant ainsi une répartition plus uniforme de la température dans le tube de réaction thermique. Cet environnement thermique uniforme est essentiel pour obtenir une uniformité de diffusion sur la tranche et de la couche d'oxyde, améliorant ainsi considérablement la qualité globale de la tranche.


Optimiser les performances d’isolation thermique et réduire la consommation d’énergie

Les excellentes propriétés d'isolation thermique du matériau de base en silicium aident à réduire la perte de chaleur dans la chambre de la fournaise, améliorant ainsi considérablement l'efficacité énergétique du processus. Ce mécanisme de gestion thermique efficace accélère non seulement le cycle de chauffage et de refroidissement, mais réduit également la consommation d'énergie et les coûts d'exploitation, offrant une solution plus économique pour la fabrication de semi-conducteurs.


Spécifications du socle en silicium semi-conducteur VeTek


Structure du produit
Intégré, Soudage
Type conducteur/dopage
Coutume
Résistivité
Faible résistance (par exemple <0,015, <0,02 ...)
Résistance modérée (E.G.1-4)
Haute résistance (par exemple 60-90)
Personnalisation client
Type de matériau
Polycristal/Monocristal
Orientation des cristaux
Personnalisé


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