Des produits

Les pagaies en porte-à-faux VetekSemicon SIC sont des bras de support en carbure de silicium de haute pureté conçus pour la manipulation des plaquettes dans les fours de diffusion horizontaux et les réacteurs épitaxiaux. Avec une conductivité thermique exceptionnelle, une résistance à la corrosion et une résistance mécanique, ces pagaies assurent la stabilité et la propreté dans les environnements semi-conducteurs exigeants. Disponible en tailles personnalisées et optimisé pour une durée de vie à long terme.

Le bloc SIC de VetekSemicon est conçu pour le broyage à haute efficacité et l'amincissement des tranches de silicium et de saphir. Avec une excellente conductivité thermique (≥120 W / m · K), une résistance élevée aux chocs thermiques et une résistance à l'usure supérieure (MOHS ≥9), nos blocs améliorent la stabilité du processus et réduisent la fréquence des changements d'outils. Disponible en tailles de 120 mm à 480 mm, avec des options personnalisées et une livraison rapide pour répondre à divers besoins de production.

Le support de plaquette de revêtement en carbure de silicium par VeteKemicon est conçu pour la précision et les performances dans les processus avancés de semi-conducteurs tels que le MOCVD, le LPCVD et le recuit à haute température. Avec un revêtement SIC CVD uniforme, ce support de plaquette assure une conductivité thermique exceptionnelle, une inertie chimique et une résistance mécanique - essentiel pour le traitement de plaquette à haut rendement sans contamination.

Anneaux de bord SIC VetekSeMICON à haute pureté, spécialement conçus pour l'équipement de gravure semi-conducteur, comporte une résistance à la corrosion exceptionnelle et une stabilité thermique, améliorant considérablement le rendement de la plaquette

Les membranes en céramique Veteksemicon SIC sont un type de membrane inorganique et appartiennent à des matériaux de membrane solides dans la technologie de séparation des membranes. Les membranes SIC sont tirées à une température supérieure à 2000 ℃. La surface des particules est lisse et ronde. Il n'y a pas de pores ou de canaux fermés dans la couche de support et chaque couche. Ils sont généralement composés de trois couches avec différentes tailles de pores.

La pâte de polissage CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) est un matériau haute performance utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et le traitement de matériaux de précision. Sa fonction principale est d'obtenir une planéité fine et un polissage de la surface du matériau sous l'effet synergique de la corrosion chimique et du meulage mécanique afin de répondre aux exigences de planéité et de qualité de surface au niveau nanométrique. Dans l’attente de votre prochaine consultation.