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Four de croissance de cristaux SiC à chauffage par résistance de grande taille
  • Four de croissance de cristaux SiC à chauffage par résistance de grande tailleFour de croissance de cristaux SiC à chauffage par résistance de grande taille

Four de croissance de cristaux SiC à chauffage par résistance de grande taille

La croissance des cristaux de carbure de silicium est un processus essentiel dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs hautes performances. La stabilité, la précision et la compatibilité des équipements de croissance cristalline déterminent directement la qualité et le rendement des lingots de carbure de silicium. Sur la base des caractéristiques de la technologie de transport physique de vapeur (PVT), Veteksemi a développé un four de chauffage à résistance pour la croissance des cristaux de carbure de silicium, permettant une croissance stable de cristaux de carbure de silicium de 6 pouces, 8 pouces et 12 pouces avec une compatibilité totale avec les systèmes de matériaux conducteurs, semi-isolants et de type N. Grâce à un contrôle précis de la température, de la pression et de la puissance, il réduit efficacement les défauts cristallins tels que l'EPD (Etch Pit Density) et le BPD (Basal Plane Dislocation), tout en présentant une faible consommation d'énergie et une conception compacte pour répondre aux normes élevées de la production industrielle à grande échelle.

Paramètres techniques

Paramètre
Spécification
Processus de croissance
Transport physique de vapeur (PVT)
Méthode de chauffage
Chauffage par résistance graphite
Tailles de cristaux adaptables
6 pouces, 8 pouces, 12 pouces (commutable ; temps de remplacement de la chambre < 4 heures)
Types de cristaux compatibles
Type conducteur, type semi-isolant, type N (série complète)
Température de fonctionnement maximale
≥2400℃
Vide ultime
≤9×10⁻⁵Pa (condition de four froid)
Taux de montée en pression
≤1.0Pa/12h (four froid)
Pouvoir de croissance cristalline
34,0 kW
Précision du contrôle de puissance
±0,15 % (dans des conditions de croissance stables)
Précision du contrôle de la pression
0,15 Pa (stade de croissance) ; fluctuation <±0,001 Torr (à 1,0Torr)
Densité des défauts cristallins
DBP < 381 unités/cm² ; TED < 1054 pièce/cm²
Taux de croissance des cristaux
0,2-0,3 mm/heure
Hauteur de croissance des cristaux
30-40mm
Dimensions hors tout (L×P×H)
≤1800mm×3300mm×2700mm


Avantages principaux


 Compatibilité pleine taille

Permet une croissance stable de cristaux de carbure de silicium de 6 pouces, 8 pouces et 12 pouces, entièrement compatible avec les systèmes de matériaux conducteurs, semi-isolants et de type N. Il couvre les besoins de production de produits avec des spécifications différentes et s'adapte à divers scénarios d'application.


● Forte stabilité du processus

Les cristaux de 8 pouces ont une excellente consistance du polytype 4H, une forme de surface stable et une répétabilité élevée ; la technologie de croissance de cristaux de carbure de silicium de 12 pouces a terminé la vérification avec une faisabilité de production de masse élevée.


● Faible taux de défauts cristallins

Grâce à un contrôle précis de la température, de la pression et de la puissance, les défauts cristallins sont efficacement réduits grâce à des indicateurs clés répondant aux normes : EPD=1 435 ea/cm², BPD=381 ea/cm², TSD=0 ea/cm² et TED=1 054 ea/cm². Tous les indicateurs de défauts répondent aux exigences de qualité cristalline de haute qualité, améliorant considérablement le rendement des lingots.


● Coûts d'exploitation contrôlables

Il a la consommation d'énergie la plus faible parmi les produits similaires. Les composants principaux (tels que les écrans d'isolation thermique) ont un long cycle de remplacement de 6 à 12 mois, réduisant ainsi les coûts d'exploitation globaux.


● Commodité Plug-and-Play

Ensembles de recettes et de processus personnalisés basés sur les caractéristiques de l'équipement, vérifiés grâce à une production à long terme et en plusieurs lots, permettant une production immédiate après l'installation.


● Sécurité et fiabilité

Adopte une conception spéciale d'étincelle anti-arc pour éliminer les risques potentiels pour la sécurité ; Les fonctions de surveillance en temps réel et d’alerte précoce évitent de manière proactive les risques opérationnels.


● Excellentes performances de vide

Les indicateurs de vide ultime et de taux de montée en pression dépassent les niveaux les plus élevés au niveau international, garantissant ainsi un environnement propre pour la croissance des cristaux.


● Fonctionnement et maintenance intelligents

Dispose d'une interface IHM intuitive combinée à un enregistrement complet des données, prenant en charge des fonctions de surveillance à distance en option pour une gestion de production efficace et pratique.


Affichage visuel des performances de base


Courbe de précision du contrôle de la température

Temperature Control Accuracy Curve

Précision du contrôle de la température du four de croissance cristalline ≤ ±0,3°C ; Aperçu de la courbe de température



Graphique de précision du contrôle de pression


Pressure Control Accuracy Graph

Précision du contrôle de pression du four de croissance cristalline: 1,0 Torr, Précision du contrôle de pression: 0,001 Torr


Précision de stabilité de puissance


Stabilité et cohérence entre fours/lots : La précision de la stabilité de la puissance

Power Stability Precision

Dans l'état de croissance cristalline, la précision du contrôle de puissance pendant une croissance cristalline stable est de ± 0,15 %.


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