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Support RTP RTA en graphite revêtu de carbure de silicium (SiC) CVD
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Support RTP RTA en graphite revêtu de carbure de silicium (SiC) CVD

Le support RTP RTA en graphite revêtu de carbure de silicium (SiC) VETEK CVD est conçu pour les systèmes de traitement thermique rapide (RTP) et de recuit thermique rapide (RTA) utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Fabriqué à partir de graphite isostatique de haute pureté avec un revêtement dense CVD SiC, il offre une stabilité thermique exceptionnelle, une excellente uniformité de température, une résistance chimique supérieure et une génération de particules ultra faible. Conçu pour résister à des cycles de chauffage et de refroidissement rapides et répétés, le support garantit un support fiable des tranches et des performances de processus stables pour le recuit des tranches de silicium et d'autres applications de semi-conducteurs à haute température.

Caractéristiques du produit

· Équipement de base :Conçu pour les systèmes de recuit thermique rapide (RTA) et de traitement thermique rapide (RTP).

· Primairery Aapplication : Opérationtimisé pour les processus de recuit de plaquettes semi-conductrices.

· Opérationenote Tetempérature :Fonctionnement stable de 200°C à 700°C.

· Excellent Thermal Uniformité : Assure une répartition homogène de la chaleur pour un traitement cohérent des plaquettes.

· Faible particuleGgénération : Le revêtement CVD SiC dense minimise la contamination et améliore le rendement de production.

· Résistance chimique supérieure :Résistant à l’oxydation et aux gaz de processus corrosifs pendant le traitement thermique.

· Exceptionnelg Thermal Résistance aux chocs : Maintient l’intégrité structurelle grâce à des cycles répétés de chauffage et de refroidissement rapides.

· Longue durée de vie :Le revêtement SiC résistant à l'usure prolonge considérablement la durée de vie des composants et réduit les coûts de maintenance.

· CoutumeFabrication:Disponible en différentes tailles et configurations pour correspondre à différents équipements RTP/RTA.


Spécifications techniques

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC
Propriété
Valeur typique
Structure cristalline
Phase β FCC polycristalline, principalement orientée (111)
Densité
3,21 g/cm³
Dureté
Dureté Vickers 2500 (charge de 500 g)
Taille des grains
2 à 10 μm
Pureté chimique
99,99995%
Capacité thermique
640 J·kg⁻¹·K⁻¹
Température de sublimation
2700°C
Résistance à la flexion
415 MPa (RT, flexion 4 points)
Module de Young
430 GPa (flexion 4 points, 1300°C)
Conductivité thermique
300 W·m⁻¹·K⁻¹
Coefficient de dilatation thermique (CTE)
4,5 × 10⁻⁶ K⁻¹

Applications

·Recuit thermique rapide (RTA)

· Traitement thermique rapide (RTP)

· Recuit de tranches de silicium

· Activation des dopants

· Oxydation

· Diffusion

·Fabrication de semi-conducteurs composés

·Fabrication de MEMS

·Traitement des semi-conducteurs de puissance


FAQ

1. Qu'est-ce qu'un opérateur RTP/RTA ?

Un support RTP/RTA est un composant de support de tranche utilisé dans les systèmes de traitement thermique rapide et de recuit thermique rapide. Il maintient solidement les plaquettes semi-conductrices tout en assurant un transfert de chaleur uniforme tout au long du cycle thermique.

2. Pourquoi le revêtement CVD SiC est-il préféré ?

Comparé au graphite nu, le revêtement CVD SiC offre une résistance supérieure à l'oxydation, une génération de particules plus faible, une meilleure stabilité chimique et une durée de vie nettement plus longue.

3. VETEK peut-il fournir des transporteurs RTP/RTA personnalisés ?

Oui. VETEK propose des transporteurs RTP/RTA personnalisés basés sur les dessins des clients.


Balises actives: Support RTP RTA en graphite à revêtement CVD SiC Transporteur RTP RTA Support RTP avec revêtement SiC Support RTP en graphite Support RTP semi-conducteur Support de recuit thermique rapide Support de traitement thermique rapide Support CVD SiC Support revêtu de carbure de silicium Support de recuit de plaquettes
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