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Chuck à la plaquette en carbure de silicium
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Chuck à la plaquette en carbure de silicium

En tant que fabricant et fournisseur de premier plan de produits de chuck en carbure de silicium en Chine, le mandrin en carbure de silicium de Vetek semi-conducteur joue un rôle irremplaçable dans le processus de croissance épitaxiale avec son excellente résistance à haute température, sa résistance à la corrosion chimique et sa résistance aux chocs thermiques. Bienvenue à votre nouvelle consultation.

Vetek Semiconductor Silicon Carbide Wafer Chuck utilise les excellentes propriétés des matériaux de carbure de silicium pour répondre aux exigences strictes de la production de semi-conducteurs, en particulier dans le traitement des semi-conducteurs qui nécessite une précision et une fiabilité extrêmement élevées.


Dans le processus de traitement des semi-conducteurs,Carbure de siliciumA une excellente résistance à haute température (peut fonctionner de manière stable jusqu'à 1400 ° C), une faible conductivité (le SIC a une conductivité relativement faible, généralement 10 ^-3S / M) et coefficient de dilatation thermique faible (environ 4,0 × 10 ^-6/ ° C), qui est un matériau indispensable et important, particulièrement adapté à la fabrication de chuck en carbure de silicium.


Pendantprocessus de croissance épitaxiale, une fine couche de matériau semi-conducteur est déposée sur un substrat, nécessitant une stabilité absolue de la tranche pour assurer des couches de dépôt de films uniformes et de haute qualité. Le mandrin sous vide SIC y parvient en créant une prise à vide ferme et cohérente pour empêcher tout mouvement ou déformation de la tranche.


Le Chuck en carbure de silicium offre également une excellente résistance aux chocs thermiques. Les changements de température rapides sont courants dans la fabrication de semi-conducteurs, et les matériaux qui ne peuvent pas résister à ces fluctuations peuvent se fissurer, se plier ou échouer. Le carbure de silicium a un faible coefficient d'expansion thermique et peut maintenir sa forme et sa fonction même sous des changements de température drastiques, garantissant que la tranche reste sécurisée pendant le processus d'épitaxie sans mouvement ni désalignement.


De plus, leprocessus épitaxieimplique souvent des gaz réactifs et d'autres produits chimiques corrosifs. L'inertie chimique du Chuck SIC Wafer garantit qu'elle n'est pas affectée par ces environnements difficiles, en maintenant ses performances et en prolongeant sa durée de vie. Cette durabilité chimique réduit non seulement la fréquence du remplacement du mandrin de la plaquette, mais assure également des performances de produit cohérentes sur plusieurs cycles de production, contribuant à améliorer l'efficacité globale et la rentabilité du processus de fabrication de semi-conducteurs.


Vetek Semiconductor est l'un des principaux fabricants et fournisseurs de produits Chuck en carbure de silicium en Chine. Nous pouvons fournir différents types de produits Chuck tels queChuck en céramique sic poreux, Chuck sous vide de la Sic poreux, Chuck à vide en céramique poreuxetChuck enduit de tac, etc. VETEK Semiconductor s'engage à fournir des technologies de pointe et des solutions de produits pour l'industrie des semi-conducteurs. Nous espérons sincèrement devenir votre partenaire à long terme en Chine.

Données SEM de CVDSIC Film Crystal Structure

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


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