Des produits

Vetek Semiconductor est un fabricant professionnel de suscepteur EPI LED MOCVD en Chine. Notre suscepteur EPI LED MOCVD est conçu pour exiger des applications d'équipement épitaxial. Sa conductivité thermique élevée, sa stabilité chimique et sa durabilité sont des facteurs clés pour assurer un processus de croissance épitaxial stable et une production de films semi-conducteurs.

Le SIC revêtement ALD Suscepteur est un composant de support spécifiquement utilisé dans le processus de dépôt de couche atomique (ALD). Il joue un rôle clé dans l'équipement ALD, assurant l'uniformité et la précision du processus de dépôt. Nous pensons que nos produits de suscepteur planétaire ALD peuvent vous apporter des solutions de produits de haute qualité.

Le tube de revêtement TaC de VeTek Semiconductor est un élément clé pour la croissance réussie des monocristaux de carbure de silicium. Avec sa résistance aux températures élevées, son inertie chimique et ses excellentes performances, cela garantit la production de cristaux de haute qualité avec des résultats constants. Faites confiance à nos solutions innovantes pour améliorer votre processus de croissance cristalline SiC selon la méthode PVT et obtenir d'excellents résultats. Bienvenue à nous consulter.

Vetek Semiconductor propose un mandrin de céramique sic poreux largement utilisé dans la technologie de traitement des plaquettes, le transfert et d'autres liens, adaptés à la liaison, au frappe, au patch, au polissage et aux autres liens, le traitement laser. Notre mandrin en céramique de sic poreux a une adsorption sous vide ultra-forte, une forte planéité et une grande pureté répondent aux besoins de la plupart des industries semi-conductrices.

Vetek Semiconductor est un fabricant chinois professionnel de silicium sur Isolateur Wafer. Le silicium sur la plaquette d'isolateur est un important matériau de substrat de semi-conducteur, et ses excellentes caractéristiques du produit en font un rôle clé dans les applications RF à haute performance, à faible puissance, à haute intégration et RF. Dans l'attente de votre consultation.

Le revêtement TAC est actuellement principalement utilisé dans des processus tels que la croissance monocristallière du carbure de silicium (méthode PVT), le disque épitaxial (y compris l'épitaxie du carbure de silicium, l'épitaxy LED), etc. combinée à la bonne stabilité à long terme de la plaque de revêtement TAC, de la plaque de revêtement TAC de VetekSesmicon. Nous attendons avec impatience que vous deveniez notre partenaire à long terme.