Des produits

En tant que fabricant de produits et usine de porteurs de porteurs de revêtement professionnels professionnels TAC en Chine, Vetek Semiconductor CVD TAC revêtement de wafer porteuse est un outil de transport de plaquette spécialement conçu pour des environnements à haute température et corrosifs dans la fabrication de semi-conducteurs. et la porteuse de plaquette de revêtement TAC CVD a une résistance mécanique élevée, une excellente résistance à la corrosion et une stabilité thermique, offrant la garantie nécessaire pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. Vos autres demandes sont les bienvenues.

Vetek Semiconductor est un fabricant et une usine de porte-gaufres EPI professionnels en Chine. Le support de plaquette EPI est un porte-plaquette pour le processus d'épitaxie dans le traitement des semi-conducteurs. Il s'agit d'un outil clé pour stabiliser la tranche et assurer une croissance uniforme de la couche épitaxiale. Il est largement utilisé dans l'équipement épitaxie tel que MOCVD et LPCVD. Il s'agit d'un dispositif irremplaçable dans le processus d'épitaxie. Bienvenue à votre nouvelle consultation.

Le porte-plaquette de satellite Aixtron de Vetek Semiconductor est un porte-plaquette utilisé dans l'équipement AIXTRON, principalement utilisé dans les processus MOCVD, et est particulièrement adapté aux processus de traitement des semi-conducteurs à haute température et à haute précision. Le transporteur peut fournir un support de plaquette stable et un dépôt de film uniforme pendant la croissance épitaxiale du MOCVD, qui est essentiel pour le processus de dépôt de couche. Bienvenue à votre nouvelle consultation.

Vetek Semiconductor est un fabricant de produits, innovateur et leader professionnel du LPE Halfmoon SIC EPI, innovateur et leader en Chine. Le réacteur LPE Halfmoon SIC EPI est un appareil spécialement conçu pour produire des couches épitaxiales de carbure de silicium (SIC) de haute qualité, principalement utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs. Bienvenue à vos autres demandes.

Le revêtement chauffant VeTek Semiconductor TaC a un point de fusion extrêmement élevé (environ 3 880 °C). Le point de fusion élevé lui permet de fonctionner à des températures extrêmement élevées, en particulier lors de la croissance de couches épitaxiales de nitrure de gallium (GaN) dans le procédé de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD). VeTek Semiconductor s'engage à fournir à ses clients des solutions de produits personnalisées. Nous sommes impatients de vous entendre.

En tant que fabricant de graphite poreux de croissance en cristal en Chine, Vetek Semiconductor se concentre sur divers produits de graphite poreux depuis de nombreuses années, tels que le creuset graphite poreux, l'investissement de graphite poreux de haute pureté et la R&D, nos produits en graphite poreux ont gagné des éloges d'Europe Clients américains. Dans l'attente de votre contact.