Dépôt physique en phase vapeur

Vetek Semiconductor est un fabricant chinois qui fournit des matériaux avancés de semi-conducteurs dans un processus de dépôt de vapeur physique commeCreuset revêtu de SiC, Crucible en carbone vitreux,Revêtements de revêtement en graphite SIC, Creusets d'évaporation pour pistolet à faisceau électronique.

Principes de base du processus PVD

Les processus de dépôt physique de vapeur comprennent généralement une variété de méthodes spécifiques telles que l'évaporation, la pulvérisation et le placage en ions. Quelle que soit la méthode utilisée, le principe de base du dépôt de vapeur physique est de vaporiser le matériau de la source par le chauffage à haute température ou le bombardement ionique. Le matériau vaporisé se déplace sous forme d'atomes ou de molécules dans un environnement sous vide ou à basse pression et se condense en un film mince à la surface du substrat. Ce processus est principalement réalisé par des moyens physiques, évitant ainsi l'influence des réactions chimiques sur la pureté du matériau.

Avantages de la technologie de dépôt de vapeur physique

Haute pureté et haute densité: Les films déposés par le PVD ont généralement une pureté et une densité élevées, ce qui peut améliorer considérablement les performances du revêtement, telles que la résistance à l'usure, la résistance à la corrosion et la dureté.

Adhésion du film solide: Le processus PVD peut former un film à forte adhérence sur le substrat, garantissant que le film ne se décolle pas facilement pendant l'utilisation, prolongeant ainsi la durée de vie du produit.

Large gamme de sélection de matériaux: La technologie PVD peut être appliquée à une variété de matériaux, notamment les métaux, les céramiques et les alliages, et peut préparer divers revêtements fonctionnels, tels que des revêtements conducteurs, isolants, résistants à la chaleur et anti-oxydants.

Protection de l'environnement et durabilité: Comparé aux processus tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) est plus respectueux de l'environnement, n'implique pas la génération de gaz nocifs et réduit la pollution de l'environnement.

Application de la technologie PVD

Industrie des semi-conducteurs: Dans la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de vapeur physique est souvent utilisé dans la préparation d'électrodes à couches minces, les barrières de diffusion et les interconnexions métalliques pour garantir que les composants ont une bonne conductivité et une bonne stabilité.

Appareils optiques: La technologie de dépôt de vapeur physique est largement utilisée dans les revêtements optiques, tels que les revêtements anti-réfléchissants pour les miroirs et les lentilles, et la fabrication de filtres optiques pour améliorer les performances des dispositifs optiques.