Plateau de porte-avions

Vous pouvez être assuré d'acheter un plateau Wafer Carrier dans notre usine.

Vetek semiconductor fournit principalement des pièces en graphite à revêtement CVD SiC, telles que des plateaux de support de plaquettes pour les équipements SiC-CVD à semi-conducteurs de troisième génération, et se consacre à fournir des équipements de production avancés et compétitifs pour l'industrie. L'équipement SiC-CVD est utilisé pour la croissance d'une couche épitaxiale monocristalline homogène sur un substrat en carbure de silicium, la feuille épitaxiale SiC est principalement utilisée pour la fabrication de dispositifs électriques tels que la diode Schottky, l'IGBT, le MOSFET et d'autres appareils électroniques.

L'équipement combine étroitement le processus et l'équipement. L'équipement SiC-CVD présente des avantages évidents en termes de capacité de production élevée, de compatibilité 6/8 pouces, de coût compétitif, de contrôle automatique continu de la croissance pour plusieurs fours, de faible taux de défauts, de commodité de maintenance et de fiabilité grâce à la conception du contrôle du champ de température et du contrôle du champ de débit. Combiné avec le plateau support de plaquettes revêtues de SiC fourni par notre Vetek Semiconductor, il peut améliorer l'efficacité de production de l'équipement, prolonger la durée de vie et contrôler les coûts.

Le plateau de support de plaquettes de semi-conducteur Vetek présente principalement une pureté élevée, une bonne stabilité du graphite, une précision de traitement élevée, ainsi qu'un revêtement CVD SiC et une stabilité à haute température : les revêtements en carbure de silicium ont une excellente stabilité à haute température et protègent le substrat de la chaleur et de la corrosion chimique dans des environnements à température extrêmement élevée. .

Durness et résistance à l'usure: les revêtements en carbure de silicium ont généralement une dureté élevée, offrant une excellente résistance à l'usure et prolongeant la durée de vie du substrat.

Résistance à la corrosion: Le revêtement en carbure de silicium est résistant à la corrosion à de nombreux produits chimiques et peut protéger le substrat des dommages à la corrosion.

Coefficient de frottement réduit : les revêtements en carbure de silicium ont généralement un faible coefficient de frottement, ce qui peut réduire les pertes par frottement et améliorer l'efficacité de fonctionnement des composants.

Conductivité thermique: Le revêtement en carbure de silicium a généralement une bonne conductivité thermique, ce qui peut aider le substrat à mieux disperser la chaleur et à améliorer l'effet de dissipation de la chaleur des composants.

En général, le revêtement en carbure de silicium CVD peut fournir une protection multiple pour le substrat, prolonger sa durée de vie et améliorer ses performances.

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC :

Magasins de production:

Aperçu de la chaîne industrielle de l’épitaxie des puces semi-conductrices :