La tranche épitaxiale MOCVD fournit

Le suscepteur de la plaque épitaxiale MOCVD est un suscepteur de plaquette épitaxial haute performance conçu pour les équipements MOCVD (dépôt de vapeur chimique en métal-organique). Le suscepteur est fait de matériau de graphite SGL et enduit de revêtement en carbure de silicium, qui combine la conductivité thermique élevée du graphite avec l'excellente température et résistance à la corrosion du SiC, et convient à l'environnement de travail dur de haute température, à haute pression et à un gaz corrosif pendant la croissance épitaxiale des semi-conducteurs.

Le matériau de graphite SGL a une excellente conductivité thermique, qui garantit que la température de la tranche épitaxiale est répartie uniformément pendant le processus de croissance et améliore la qualité de la couche épitaxiale. Le revêtement SIC revêtu permet au suscepteur de résister à des températures élevées de plus de 1600 ℃ et à s'adapter à l'environnement thermique extrême dans le processus MOCVD. De plus, le revêtement SIC peut résister efficacement aux gaz de réaction à haute température et à la corrosion chimique, prolonger la durée de vie du suscepteur et réduire la pollution.

Le suscepteur de la plaquette épitaxial MOCVD de Veteksemi peut être utilisé en remplacement des accessoires de fournisseurs d'équipement MOCVD tels que Aixtron.

● Taille: Peut être personnalisé en fonction des besoins des clients (taille standard disponible).

● Capacité de charge: Peut transporter plusieurs tranches épitaxiales multiples ou même plus à la fois (selon la taille du suscepteur).

● Traitement de surface: Revêtement SIC, résistance à la corrosion, résistance à l'oxydation.

● Industrie des semi-conducteurs: Utilisé pour la croissance des tranches épitaxiales telles que les LED, les diodes laser et les semi-conducteurs de puissance.

● Industrie de l'optoélectronique: Soutient la croissance épitaxiale des dispositifs optoélectroniques de haute qualité.

● Recherche et développement matériel haut de gamme: Appliqué à la préparation épitaxiale de nouveaux semi-conducteurs et de matériaux optoélectroniques.

Selon le type d'équipement MOCVD du client et les besoins de production, Vetek Semiconductor fournit des services personnalisés, y compris la taille du suscepteur, le matériau, le traitement de surface, etc., pour s'assurer que la solution la plus appropriée est fournie aux clients.

CVD SIC Film Structure cristalline

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SIC

It semi-conducteur MOCVD EPITAXIAL WAFER SUSNEPROR