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Bateau en graphite pour PECVD
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Bateau en graphite pour PECVD

Le bateau en graphite Veteksemicon pour PECVD est usiné avec précision à partir de graphite de haute pureté et conçu spécifiquement pour les processus de dépôt chimique en phase vapeur améliorés par plasma. Tirant parti de notre compréhension approfondie des matériaux du champ thermique semi-conducteur et de nos capacités d'usinage de précision, nous proposons des bateaux en graphite dotés d'une stabilité thermique exceptionnelle, d'une excellente conductivité et d'une longue durée de vie. Ces bateaux sont conçus pour garantir un dépôt de couche mince très uniforme sur chaque tranche dans l'environnement exigeant du processus PECVD, améliorant ainsi le rendement et la productivité du processus.

Application: Le bateau en graphite Veteksemicon pour PECVD est un composant essentiel du processus de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. Il est spécialement conçu pour déposer du nitrure de silicium, de l'oxyde de silicium et d'autres films minces de haute qualité sur des tranches de silicium, des semi-conducteurs composés et des substrats de panneaux d'affichage. Ses performances déterminent directement l'uniformité du film, la stabilité du processus et le coût de production.


Services pouvant être fournis: analyse de scénarios d'application client, mise en adéquation des matériaux, résolution de problèmes techniques.


Profil de l'entreprise:Veteksemicon dispose de 2 laboratoires, d'une équipe d'experts avec 20 ans d'expérience dans les matériaux, avec des capacités de R&D et de production, de test et de vérification.


Informations générales sur le produit


Lieu d'origine :
Chine
Nom de la marque :
Mon rival
Numéro de modèle :
Bateau en graphite pour PECVD-01
Attestation :
ISO9001

Conditions commerciales du produit

Quantité minimale de commande :
Sous réserve de négociation
Prix:
Contactpour un devis personnalisé
Détails de l'emballage :
Forfait d'exportation standard
Délai de livraison:
Délai de livraison : 30 à 45 jours après la confirmation de la commande
Conditions de paiement :
T/T
Capacité d'approvisionnement :
1000unités/mois

Paramètres techniques

projet
paramètre
Matériau de base
Graphite de haute pureté pressé isostatiquement
Densité du matériau
1,82 ± 0,02 g/cm3
Température de fonctionnement maximale
1600°C (atmosphère sous vide ou gaz inerte)
Spécifications compatibles avec les plaquettes
Prend en charge 100 mm (4 pouces) à 300 mm (12 pouces), personnalisable
Capacité de diapositive
Personnalisé en fonction de la taille de la chambre du client, la valeur typique est de 50 à 200 pièces (6 pouces)
Options de revêtement
Carbone pyrolytique/carbure de silicium
épaisseur du revêtement
Standard 20 - 50 μm (personnalisable)
Rugosité de surface (après revêtement)
Ra ≤ 0,6 µm

 

Principaux domaines d'application

Sens de candidature
Scénario typique
Industrie photovoltaïque
Dépôt d'un film antireflet de nitrure de silicium/oxyde d'aluminium sur cellules photovoltaïques
Front-end semi-conducteur
Processus PECVD à base de silicium/semi-conducteurs composés
Affichage avancé
Dépôt d’une couche d’encapsulation sur un panneau d’affichage OLED


Bateau Veteksemicon Graphite pour les principaux avantages du PECVD


1. Substrats de haute pureté, contrôlant la pollution depuis la source

Nous insistons sur l'utilisation de graphite de haute pureté pressé isostatiquement avec une pureté stable de plus de 99,995 % comme matériau de base pour garantir qu'il ne précipitera pas les impuretés métalliques même dans un environnement de fonctionnement continu de 1 600 °C. Cette exigence stricte en matière de matériaux peut directement éviter la dégradation des performances de la tranche causée par la contamination du support, offrant ainsi la garantie la plus fondamentale pour le dépôt de films de nitrure de silicium ou d'oxyde de silicium de haute qualité.


2. Champ thermique précis et conception structurelle pour garantir l'uniformité du processus

Grâce à de nombreuses données de simulation de fluide et de mesure de processus, nous avons optimisé l'angle de fente du bateau, la profondeur de la rainure de guidage et le chemin d'écoulement du gaz. Cette considération structurelle méticuleuse permet une répartition uniforme des gaz réactifs entre les tranches. Les mesures réelles montrent qu'à pleine charge, l'écart d'uniformité de l'épaisseur du film entre les tranches d'un même lot peut être contrôlé de manière stable à ± 1,5 %, améliorant considérablement le rendement du produit.


3. Solutions de revêtement personnalisées pour traiter la corrosion de processus spécifiques

Pour répondre aux différents environnements de gaz de traitement des différents clients, nous proposons deux options de revêtement matures : le carbone pyrolytique et le carbure de silicium. Si vous déposez principalement du nitrure de silicium et utilisez un nettoyage à l'hydrogène, le revêtement dense en carbone pyrolytique peut offrir une excellente résistance à l'érosion du plasma d'hydrogène. Si votre processus implique des gaz de nettoyage contenant du fluor, le revêtement en carbure de silicium de haute dureté est un meilleur choix. Il peut prolonger la durée de vie du bateau en graphite dans des environnements hautement corrosifs jusqu'à plus de trois fois celle des produits ordinaires non revêtus.


4. Excellente stabilité aux chocs thermiques, adaptable aux cycles de température fréquents

Grâce à notre formule unique en graphite et à la conception de nervures de renfort internes, nos bateaux en graphite peuvent résister aux chocs répétés de refroidissement et de chauffage rapides du processus PECVD. Lors de tests rigoureux en laboratoire, après 500 cycles thermiques rapides de la température ambiante à 800°C, le taux de rétention de résistance à la flexion du bateau dépassait encore 90 %, évitant efficacement les fissures causées par les contraintes thermiques et assurant la continuité et la sécurité de la production.


5. Avenant de vérification de la chaîne écologique

Le bateau Veteksemicon Graphite pour la vérification de la chaîne écologique de PECVD couvre les matières premières jusqu'à la production, a passé la certification des normes internationales et dispose d'un certain nombre de technologies brevetées pour garantir sa fiabilité et sa durabilité dans les domaines des semi-conducteurs et des nouvelles énergies.


Pour des spécifications techniques détaillées, des livres blancs ou des modalités de test d'échantillons, veuillez contacter notre équipe d'assistance technique pour découvrir comment Veteksemicon peut améliorer l'efficacité de votre processus.


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