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Suscepteur revêtu de carbure de tantale CVD (TaC)
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Suscepteur revêtu de carbure de tantale CVD (TaC)

Le suscepteur à revêtement CVD TaC VETEK combine un substrat de graphite isostatique de haute pureté avec un revêtement dense en carbure de tantale (TaC) CVD pour offrir une stabilité thermique, une résistance à la corrosion et une faible génération de particules exceptionnelles pour l'épitaxie de semi-conducteurs exigeante. Conçu pour la croissance épitaxiale du SiC, du GaN et de l'AlN, il minimise la contamination, améliore l'uniformité de la température des plaquettes et prolonge la durée de vie des composants dans les processus MOCVD et CVD à haute température.

Principales fonctionnalités

Stabilité à haute température : maintient des performances stables dans des conditions de traitement prolongées à haute température.
Résistance à la corrosion : le revêtement dense en TaC offre une protection efficace contre les gaz de procédé corrosifs.
Faible génération de particules : une structure de revêtement dense aide à réduire la contamination pendant la croissance épitaxiale.
Excellente uniformité thermique : prend en charge une distribution uniforme de la chaleur pour une meilleure cohérence du processus.
Longue durée de vie : une résistance élevée à l’usure contribue à réduire la maintenance et à prolonger les cycles de fonctionnement.


Applications

Les applications typiques incluent :

• Croissance épitaxiale SiC

• Épitaxie GaN MOCVD

• Croissance épitaxiale AlN

• Fabrication de semi-conducteurs de troisième génération

• Électronique haute puissance

• Appareils RF

• Production de microLED

• Systèmes de recherche et de production pilote


Équipement compatible

Les plates-formes compatibles incluent :

•Aixtron

• LPE

• Véco

•AMEC

• NuFlare

• Réacteurs CVD et MOCVD personnalisés


Également disponible :

• Supports de plaquettes

• Suscepteurs planétaires

• Suscepteurs de baril

• Disques de rotation

• Pièces demi-lune

• Plaques de recouvrement

• Assemblages de graphite

• Composants de champ thermique personnalisés


Spécifications techniques

Matériau du substrat

Graphite isostatique de haute pureté

Matériau de revêtement

Carbure de tantale CVD (TaC)

Épaisseur du revêtement
20 à 40 μm (personnalisable)
Pureté du revêtement
Jusqu'à 99,9995 %
Température de fonctionnement maximale

>2000°C (Atmosphère Inerte)

Densité
14,3 g/cm³
Dureté
~2000 Hong Kong
Coefficient de dilatation thermique
6,3 × 10⁻⁶/K
Résistivité électrique
1 × 10⁻⁵ Ω·cm
Tailles disponibles
Personnalisé
Applications typiques
Epitaxie SiC, GaN, AlN

Foire aux questions

1. Qu'est-ce qu'un suscepteur à revêtement CVD TaC ?

Un composant en graphite de haute pureté protégé par un revêtement CVD TaC dense utilisé comme support de tranche pendant la croissance épitaxiale.

2. Pourquoi utiliser le cacao TaCrevêtement au lieu du revêtement SiC ?

Le TaC offre une résistance aux températures plus élevées, une stabilité chimique supérieure et une durée de vie plus longue.

3.Quels processus semi-conducteurs utilisent TaC-cdes suscepteurs avoines ?

Épitaxie SiC, GaN MOCVD, épitaxie AlN et autres procédés de croissance cristalline à haute température.

4. VETEK peut-il fabriquer des suscepteurs personnalisés ?

Oui. Nous proposons des conceptions personnalisées basées sur les dessins du client et les exigences du processus.

5. Quelles marques de réacteurs sont prises en charge ?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare et autres systèmes grand public.


Balises actives: Suscepteur à revêtement CVD TaC, suscepteur en graphite à revêtement TaC, suscepteur de semi-conducteur, suscepteur d'épitaxie SiC, suscepteur MOCVD, support de plaquette de graphite, revêtement en carbure de tantale, suscepteur épitaxial, pièces en graphite semi-conducteur
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