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TAC TAC SOIR SEAT
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TAC TAC SOIR SEAT

Le revêtement TAC est actuellement principalement utilisé dans des processus tels que la croissance monocristallière du carbure de silicium (méthode PVT), le disque épitaxial (y compris l'épitaxie du carbure de silicium, l'épitaxy LED), etc. combinée à la bonne stabilité à long terme de la plaque de revêtement TAC, de la plaque de revêtement TAC de VetekSesmicon. Nous attendons avec impatience que vous deveniez notre partenaire à long terme.

It semi-conducteurPlaque de revêtement TACest un matériau spécial largement utilisé dans lesemi-conducteurprocessus de fabrication. Combiné avec sa résistance élevée à la dureté et à l'usure, sa résistance à haute température, sa résistance à la corrosion, son coefficient de frottement faible et sa bonne conductivité thermique, la plaque de revêtement TAC joue un rôle irremplaçable dans de nombreux liens du traitement des semi-conducteurs.


Généralement, les applications dePlaques à revêtement TACDans le traitement des semi-conducteurs, les suivants sont les suivants:


● Substrat de croissance CVD / ALD: La résistance à haute température, la stabilité chimique et le faible coefficient de frottement des plaques enrobées TAC en font des substrats de croissance CVD / ALD idéaux. Il peut fournir un environnement de croissance stable pour assurer l'uniformité et la densité du film.

●  Plaque de masque de gravure: La forte dureté et la résistance à la corrosion des plaques revêtues de TAC leur permettent de résister aux processus à haute énergie tels que la gravure du plasma, comme plaques de masque de gravure, protégeant le film sous-jacent.

●  Coussin de polissage CMP: La résistance à l'usure et le faible coefficient de frottement des plaques enduites de TAC en font des matériaux idéaux pour les coussinets de polissage CMP, qui peuvent éliminer efficacement les particules et les défauts à la surface du film.

●  Tube de four à haute température: La résistance à haute température et la résistance à la corrosion des plaques revêtues de TAC leur permettent d'être utilisées comme tubes de fournaise dans des fours à haute température pour un recuit à haute température, une diffusion et d'autres processus.


Paramètres techniques de revêtement TAC CVD

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SIC
Propriété
Valeur typique
Structure cristalline FCC β phase polycristalline, principalement (111) orienté
Densité de revêtement CVD SIC
3,21 g / cm³
Dureté de revêtement sic
2500 Vickers dureté (charge de 500 g)
Taille des grains
2 ~ 10 mm
Pureté chimique
99,99995%
Capacité thermique
640 J · kg-1· K-1
Température de sublimation
2700 ℃
Résistance à la flexion
415 MPA RT 4 points
Module de jeunes
430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Conductivité thermique
300W · M-1· K-1
Expansion thermique (CTE)
4,5 × 10-6K-1

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