Chauffe-revêtement TAC

TaC Coating Heater est un élément chauffant haute performance largement utilisé dans les processus de fabrication de semi-conducteurs. Sa surface est recouverte d'un matériau en carbure de tantale (TaC), ce qui confère au radiateur une excellente résistance aux températures élevées, une résistance à la corrosion chimique et une excellente conductivité thermique.

Les principales applications du TaC Coating Heater dans la fabrication de semi-conducteurs comprennent :

 ✔ Pendant le processus de croissance épitaxial du nitrure de gallium (GAN), le radiateur de revêtement TAC fournit un environnement à haute température contrôlé avec précision pour garantir que la couche épitaxiale est déposée sur le substrat à un rythme uniforme et à une qualité élevée. Sa puissance de chaleur stable contribue à obtenir un contrôle précis des matériaux de film mince, améliorant ainsi les performances des dispositifs.

 ✔ De plus, dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD), combiné à la résistance à haute température et à la conductivité thermique du revêtement TaC, le réchauffeur de revêtement TaC est généralement utilisé pour chauffer le gaz de réaction et, en assurant une distribution uniforme de la chaleur, il favorise sa réaction chimique sur la surface du substrat, améliorant ainsi l'uniformité de la couche épitaxiale et formant un film de haute qualité.

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