Carbure de silicium solide

Le carbure de silicium solide semi-conducteur Vetek est un composant en céramique important dans l'équipement de gravure du plasma, du carbure de silicium solide (Carbure de silicium CVD)) Les pièces de l'équipement de gravure comprennentFocus des anneaux, pomme de douche à gaz, plateau, anneaux de bord, etc. En raison de la faible réactivité et de la conductivité du carbure de silicium solide (carbure de silicium CVD) au chlore - et aux gaz de gravure contenant du fluor, il s'agit d'un matériau idéal pour l'équipement de gravure du plasma focalisant les anneaux et autres composants.

Par exemple, l'anneau de mise au point est une partie importante placée à l'extérieur de la tranche et en contact direct avec la tranche, en appliquant une tension sur l'anneau pour concentrer le plasma passant par l'anneau, concentrant ainsi le plasma sur la tranche pour améliorer l'uniformité du traitement. L'anneau de mise au point traditionnel est en silicium ouquartz, le silicium conducteur en tant que matériau de l'anneau de mise au point commun, il est presque proche de la conductivité des plaquettes de silicium, mais la pénurie est une mauvaise résistance à la gravure dans le plasma contenant du fluor, les matériaux de machine à gravure souvent utilisés pendant un certain temps, il y aura un phénomène de corrosion sérieux, réduisant sérieusement son efficacité de production.

SAnneau de mise au point Olid SicPrincipe de travail：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring

Comparaison de l'anneau de focalisation basé sur Si et du cycle de focalisation SIC CVD:

Comparaison de la bague de mise au point basée sur Si et de la bague de focalisation SIC CVD
Article	Et	Cvd sic
Densité (g / cm³)	2.33	3.21
Bandage (EV)	1.12	2.3
Conductivité thermique (avec cm ℃)	1.5	5
CTE (x10^-6/ ℃)	2.6	4
Module élastique (GPA)	150	440
Dureté (GPA)	11.4	24.5
Résistance à l'usure et à la corrosion	Pauvre	Excellent

Vetek Semiconductor propose des pièces avancées en carbure de silicium solide (carbure de silicium CVD) comme les anneaux de focalisation SIC pour l'équipement de semi-conducteur. Notre carbure de silicium solide en focalisant les anneaux surpassent le silicium traditionnel en termes de résistance mécanique, de résistance chimique, de conductivité thermique, de durabilité à haute température et de résistance à la gravure des ions.

Les caractéristiques clés de nos anneaux de focalisation SIC incluent:

Densité élevée pour les taux de gravure réduits.

Excellente isolation avec une bande interdite élevée.

Haute conductivité thermique et faible coefficient d'expansion thermique.

Résistance à l'impact mécanique supérieur et élasticité.

Haute dureté, résistance à l'usure et résistance à la corrosion.

Fabriqué à l'aideDépôt de vapeur chimique amélioré par plasma (PECVD)Techniques, nos anneaux de focalisation SIC répondent aux demandes croissantes des processus de gravure dans la fabrication de semi-conducteurs. Ils sont conçus pour résister à la puissance et à l'énergie du plasma plus élevées, en particulier dansplasma couplé capacivement (CCP)Systèmes.

Les anneaux de focalisation SIC de Vetek Semiconductor offrent des performances et une fiabilité exceptionnelles dans la fabrication des appareils semi-conducteurs. Choisissez nos composants sic pour une qualité et une efficacité supérieures.

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Suscepteur de baril revêtu de SiC pour LPE PE2061S

En tant que l'une des principales usines de fabrication de suscepteurs de plaquettes en Chine, Vetek Semiconductor a fait des progrès continus dans les produits de suscepteur de plaquettes et est devenu le premier choix pour de nombreux fabricants de plaquettes épitaxiales. Le suscepteur en canon enduit de SiC pour le LPE PE2061 fourni par Vetek Semiconductor est conçu pour les plaquettes LPE PE2061S 4 ''. Le suscepteur a un revêtement en carbure de silicium durable qui améliore les performances et la durabilité pendant le processus de LPE (phase liquide Epitaxy). Bienvenue à votre demande, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme.

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Pommeau de douche à gaz SiC solide

La pomme de douche à gaz solide à gaz joue un rôle majeur dans la fabrication de l'uniforme de gaz dans le processus de MCV, garantissant ainsi un chauffage uniforme du substrat. Vetek Semiconductor est profondément impliqué dans le domaine des appareils SIC solides depuis de nombreuses années et est en mesure de fournir aux clients des pommes de douche à gaz solide personnalisées. Quelles que soient vos exigences, nous attendons avec impatience votre demande.

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Processus de dépôt de vapeur chimique anneau de bord SIC solide

Vetek semi-conducteur s'est toujours engagé dans la recherche et le développement et la fabrication de matériaux avancés de semi-conducteurs. Aujourd'hui, Vetek Semiconductor a fait de grands progrès dans le processus de dépôt de vapeur chimique des produits SIC SIC Edge Ring et est en mesure de fournir aux clients des anneaux de bord SIC solides hautement personnalisés. Les anneaux de bord SIC solides offrent une meilleure uniformité de gravure et un positionnement précis des plaquettes lorsqu'ils sont utilisés avec un mandrin électrostatique, garantissant des résultats de gravure cohérents et fiables. Dans l'attente de votre enquête et de devenir des partenaires à long terme de l'autre.

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Rague de mise au point de gravure SIC solide

L'anneau de focalisation de gravure en SiC solide est l'un des composants essentiels du processus de gravure des plaquettes, qui joue un rôle dans la fixation des plaquettes, la focalisation du plasma et l'amélioration de l'uniformité de la gravure des plaquettes. En tant que principal fabricant de bagues de focalisation SiC en Chine, VeTek Semiconductor dispose d'une technologie de pointe et d'un processus mature, et fabrique une bague de focalisation de gravure en SiC solide qui répond pleinement aux besoins des clients finaux en fonction des exigences des clients. Nous attendons avec impatience votre demande et devenons partenaires à long terme les uns des autres.

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Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.

Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.

Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.

To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.

En tant que fabricant et fournisseur professionnel Carbure de silicium solide en Chine, nous avons notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter avancé et durable Carbure de silicium solide en Chine, vous pouvez nous laisser un message.

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