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Carbure de silicium solide

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Pomme de douche en carbure de silicium

Pomme de douche en carbure de silicium

La pomme de douche en carbure de silicium a une excellente tolérance à haute température, une stabilité chimique, une conductivité thermique et de bonnes performances de distribution des gaz, qui peuvent réaliser une distribution uniforme des gaz et améliorer la qualité du film. Par conséquent, il est généralement utilisé dans des processus à haute température tels que les processus de dépôt chimique de vapeur (CVD) ou de dépôt physique de vapeur (PVD). Bienvenue à votre nouvelle consultation à nous, Vetek Semiconductor.
Anneau de phoque en carbure de silicium

Anneau de phoque en carbure de silicium

En tant que fabricant de produits et usine professionnels en carbure de carbure de silicium en Chine, le cycle de joint en carbure de silicium VETEK semi-conducteur est largement utilisé dans l'équipement de traitement des semi-conducteurs en raison de son excellente résistance à la chaleur, de sa résistance à la corrosion, de sa résistance mécanique et de sa conductivité thermique. Il convient particulièrement aux processus impliquant des gaz à haute température et des gaz réactifs tels que les MCV, les PVD et la gravure du plasma, et est un choix de matériau clé dans le processus de fabrication de semi-conducteurs. Vos autres demandes sont les bienvenues.
Suscepteur RTP à revêtement CVD SiC

Suscepteur RTP à revêtement CVD SiC

Le suscepteur RTP à revêtement CVD SiC de VeTek Semiconductor est utilisé dans les équipements de traitement thermique rapide (RTP) et de recuit thermique rapide (RTA) utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Le substrat est usiné à partir de graphite isostatique de haute pureté, sur lequel une couche dense de carbure de silicium (SiC) CVD est déposée. Cette construction offre une conductivité thermique élevée, une inertie chimique robuste et une stabilité dimensionnelle soutenue sous des cycles répétés à haute température.
Bloc CVD SIC pour la croissance des cristaux SIC

Bloc CVD SIC pour la croissance des cristaux SIC

Le bloc CVD SIC pour la croissance des cristaux SIC, est une nouvelle matière première de haute pureté développée par Vetek Semiconductor. Il a un rapport entrée-sortie élevé et peut cultiver des monocristaux en carbure de silicium de grande taille et de grande taille, qui est un matériau de deuxième génération pour remplacer la poudre utilisée sur le marché aujourd'hui. Bienvenue pour discuter des problèmes techniques.
SIC Crystal Growth New Technology

SIC Crystal Growth New Technology

Le carbure de silicium de silicium (SiC) formé par le dépôt chimique (CVD) est recommandé d'utiliser du dépôt chimique de vapeur en carbure de silicium (CVD). Dans la nouvelle technologie de croissance des cristaux SIC, le matériau source est chargé dans un creuset et sublimé sur un cristal de graines. Utilisez les blocs CVD-SIC de haute pureté pour être une source de croissance des cristaux SIC. Bienvenue pour établir un partenariat avec nous.
Pomme de douche CVD sic

Pomme de douche CVD sic

Vetek Semiconductor est un principal fabricant de pommes de douche CVD SIC et innovateur en Chine. Nous sommes spécialisés dans le matériau SIC depuis de nombreuses années. La pomme de douche SIC CVD est choisie comme matériau de l'anneau de focalisation en raison de son excellente stabilité thermochimique, de sa résistance mécanique élevée et de sa résistance à l'érosion du plasma. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


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