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Bague de mise au point en SiC massif
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Bague de mise au point en SiC massif

La bague de mise au point en SiC solide Veteksemi améliore considérablement l'uniformité de la gravure et la stabilité du processus en contrôlant avec précision le champ électrique et le flux d'air au bord de la tranche. Il est largement utilisé dans les processus de gravure de précision pour le silicium, les diélectriques et les matériaux semi-conducteurs composés, et constitue un élément clé pour garantir le rendement de la production de masse et le fonctionnement fiable des équipements à long terme.

1. Informations générales sur le produit

Lieu d'origine :
Chine
Nom de la marque :
Veteksem
Numéro de modèle :
Bague de mise au point en SiC massif-01
Attestation :
ISO9001

2. Conditions commerciales du produit

Quantité minimale de commande :
Sous réserve de négociation
Prix:
Contact pour un devis personnalisé
Détails de l'emballage :
Forfait d'exportation standard
Délai de livraison:
Délai de livraison : 30 à 45 jours après la confirmation de la commande
Conditions de paiement :
T/T
Capacité d'approvisionnement :
100 unités/mois

3.Application:La bague de mise au point en SiC solide Veteksemi améliore considérablement l'uniformité de la gravure et la stabilité du processus en contrôlant avec précision le champ électrique et le flux d'air au bord de la tranche. Il est largement utilisé dans les processus de gravure de précision pour le silicium, les diélectriques et les matériaux semi-conducteurs composés, et constitue un élément clé pour garantir le rendement de la production de masse et le fonctionnement fiable des équipements à long terme.

Services pouvant être fournis :analyse de scénarios d'application client, correspondance des matériaux, résolution de problèmes techniques.

Profil de l'entreprise:Semixlab dispose de 2 laboratoires, d'une équipe d'experts avec 20 ans d'expérience dans les matériaux, avec des capacités de R&D et de production, de tests et de vérification.


4.Description:

La bague de mise au point Veteksemi en SiC solide est spécialement conçue pour les processus avancés de gravure de semi-conducteurs. Fabriqué avec précision à partir de carbure de silicium de haute pureté, il offre une excellente résistance aux températures élevées, à la corrosion plasma et une stabilité mécanique. Adapté à une variété d’environnements exigeants de fabrication de semi-conducteurs, ce produit améliore considérablement l’uniformité des processus, prolonge les cycles de maintenance des équipements et réduit les coûts de production globaux.


5.TParamètres techniques

Projet
Paramètre
Matériel
Carbure de silicium fritté de haute pureté
Densité
≥3,10g/cm3
Conductivité thermique
120 W/m·K (@25°C)
Coefficient de dilatation thermique
4,0×10-6/°C(20-1000°C)
Rugosité de la surface
Ra≤0,5 μm (standard), peut être personnalisé à 0,2 μm
Appareils applicables
Applicable aux machines de gravure grand public telles que Applied Materials, Lam Research et TEL


6.Principaux domaines d'application

Sens de candidature
Direction d'applicationScénario typique
Processus de gravure de semi-conducteurs
Gravure sur silicium, gravure diélectrique, gravure sur métal, etc.
Fabrication d'appareils haute puissance
Processus de gravure de dispositifs basés sur SiC et GaN
Emballage avancé
Processus de gravure à sec dans un emballage au niveau des plaquettes


7. Avantages principaux de la bague de mise au point SiC solide Veteksem


Excellente résistance à la corrosion plasma

Sous une exposition prolongée à des plasmas hautement corrosifs et à haute densité tels que CF4, O2 et Cl2, les matériaux conventionnels sont sensibles à une usure rapide et à une contamination par des particules. Notre bague de mise au point en SiC solide présente une excellente résistance à la corrosion, avec un taux de corrosion bien inférieur à celui de matériaux comme le quartz ou l'alumine. Cela signifie qu'il conserve une surface lisse au fil du temps, réduisant considérablement le risque de défauts de plaquette causés par l'usure des composants, garantissant ainsi une production de masse continue et stable.


Excellente stabilité à haute température et performances de gestion thermique

Le processus de gravure des semi-conducteurs génère une chaleur importante, provoquant des fluctuations de température considérables dans les composants de la chambre. Nos bagues de mise au point ont un coefficient de dilatation thermique extrêmement faible, capables de résister à des températures transitoires jusqu'à 1600°C sans fissuration ni déformation. De plus, leur conductivité thermique élevée inhérente aide à disperser la chaleur uniformément et rapidement, améliorant ainsi efficacement la répartition de la température au bord de la plaquette, améliorant ainsing uniformité de gravure et cohérence des dimensions critiques sur toute la tranche.


Pureté des matériaux et densité structurelle extraordinaires

Nous contrôlons strictement la pureté des matières premières en carbure de silicium (≥99,999 %) et éliminons la contamination métallique pendant le processus de frittage pour répondre aux exigences strictes des processus de fabrication avancés en matière de contrôle des traces d'impuretés. La structure dense formée par frittage à haute température présente une porosité extrêmement faible, bloquant presque complètement la pénétration des gaz de procédé et des sous-produits. Cela empêche la dégradation des performances et la croissance des particules causées par la dégradation des matériaux internes, garantissant ainsi un environnement de chambre de traitement pur.


Durée de vie mécanique longue durée et rentabilité globale

Par rapport aux consommables conventionnels qui nécessitent un remplacement fréquent, les bagues de mise au point Veteksemi en SiC massif offrent une durabilité exceptionnelle. Ils maintiennent des performances stables tout au long de leur durée de vie, prolongeant plusieurs fois les cycles de remplacement. Cela réduit non seulement directement les coûts d'approvisionnement en pièces de rechange, mais améliore également considérablement l'utilisation des machines en réduisant les temps d'arrêt des équipements pour la maintenance, ce qui se traduit par des avantages globaux significatifs en termes de coûts pour les clients.


Contrôle précis de la taille et services de personnalisation flexibles

Nous comprenons les exigences précises des différentes machines et processus en matière de consommables. Chaque bague de mise au point est soumise à un usinage de précision et à des tests rigoureux pour garantir des tolérances dimensionnelles critiques de ± 0,05 mm. Nous proposons également des services personnalisés, notamment des tailles personnalisées, des finitions de surface (polissage à Ra ≤ 0,2 μm) et des ajustements de conductivité pour répondre parfaitement aux exigences spécifiques de votre processus et à vos scénarios d'application.


Pour des spécifications techniques détaillées, des livres blancs ou des modalités de test d'échantillons, veuillez contacter notre équipe d'assistance technique pour découvrir comment Veteksemi peut améliorer l'efficacité de votre processus.





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