Suscepteur en graphite revêtu de SiC pour ASM

Informations générales sur le produit

Conditions commerciales du produit

✔ Candidature: Le substrat en graphite revêtu de Veteksemicon SiC est un consommable clé pour l'équipement épitaxial de la série ASM. Il supporte directement la tranche et fournit un champ thermique uniforme et stable lors de l'épitaxie à haute température, ce qui en fait un composant essentiel pour garantir la croissance de haute qualité de matériaux semi-conducteurs avancés tels que GaN et SiC.

✔ Services pouvant être fournis: analyse de scénarios d'application client, mise en adéquation des matériaux, résolution de problèmes techniques. 

✔ Profil de l'entreprise：Veteksemicon dispose de 2 laboratoires, d'une équipe d'experts avec 20 ans d'expérience dans les matériaux, avec des capacités de R&D et de production, de test et de vérification.

Paramètres techniques

Suscepteur en graphite à revêtement Veteksemicon SiC pour les avantages du noyau ASM

1. Pureté extrême et faible taux de défauts

En utilisant un substrat en graphite spécial de haute pureté à fines particules, combiné à notre processus de revêtement par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) strictement contrôlé, nous garantissons que le revêtement est dense, exempt de trous d'épingle et exempt d'impuretés. Cela réduit considérablement le risque de contamination particulaire pendant le processus épitaxial, fournissant ainsi un environnement de substrat propre pour la croissance de couches épitaxiales de haute qualité.

2. Excellente résistance à la corrosion et résistance à l'usure

Le revêtement pyrolytique en carbure de silicium possède une dureté et une inertie chimique extrêmement élevées, résistant efficacement à l'érosion des sources de silicium (telles que SiH4, SiHCl3), des sources de carbone (telles que C3H8) et des gaz de gravure (tels que HCl, H2) à haute température. Cela prolonge considérablement le cycle de maintenance de la base et réduit les temps d'arrêt de la machine causés par le remplacement des composants.

3. Excellente uniformité et stabilité thermiques

Nous avons optimisé la répartition du champ thermique dans la plage de températures de fonctionnement grâce à une conception précise de la structure du substrat et au contrôle de l'épaisseur du revêtement. Cela se traduit directement par une excellente uniformité de l'épaisseur et de la résistivité dans la plaquette épitaxiale, contribuant ainsi à améliorer le rendement de fabrication des puces.

4. Excellente force d’adhérence du revêtement

Une technologie unique de prétraitement de surface et de revêtement par gradient permet au revêtement en carbure de silicium de former une couche de liaison solide avec le substrat en graphite, empêchant ainsi efficacement les problèmes de pelage, d'écaillage ou de fissuration du revêtement qui peuvent survenir lors d'un cycle thermique à long terme.

5. Taille précise et réplication structurelle

Nous possédons des capacités matures d'usinage et de test CNC, nous permettant de reproduire complètement la géométrie complexe, les dimensions de la cavité et les interfaces de montage de la base d'origine, garantissant ainsi une correspondance parfaite et une fonctionnalité plug-and-play avec la plate-forme du client.

6. Avenant de vérification de la chaîne écologique

Le suscepteur en graphite à revêtement Veteksemicon SiC pour la vérification de la chaîne écologique d'ASM couvre les matières premières jusqu'à la production, a passé la certification des normes internationales et dispose d'un certain nombre de technologies brevetées pour garantir sa fiabilité et sa durabilité dans les domaines des semi-conducteurs et des nouvelles énergies.

Pour des spécifications techniques détaillées, des livres blancs ou des modalités de test d'échantillons, veuillez contacter notre équipe d'assistance technique pour découvrir comment Veteksemicon peut améliorer l'efficacité de votre processus.

Principaux domaines d'application

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