SiC Coating Collector Bottom

Vetek Semiconductor est un fabricant engagé à fournir une qualité de haute qualitéRevêtement TAC CVDet CVD SIC Coating Collector Bottom et travaillent en étroite collaboration avec l'équipement Aixtron pour répondre aux besoins de nos clients. Que ce soit dans l'optimisation des processus ou le développement de nouveaux produits, nous sommes prêts à vous fournir un support technique et à répondre à toutes les questions que vous pourriez avoir.

Fonction de base du produit

Garantie de stabilité du processus

Contrôle du gradient de température: ±1,5℃/cm@1200℃

Optimisation du champ d'écoulement: la conception spéciale du canal fait de l'uniformité de distribution de gaz de réaction jusqu'à 92,6%

Mécanisme de protection de l'équipement

Double protection:

Tampon de choc thermique: résister à 10 ℃ / s Changement de température rapide

Interception des particules: piégeage> 0,3 μm de sédiments Particules

Dans le domaine de la technologie de pointe

Contrôle de la qualité du processus entier

Système de traçabilité de production

Source de matières premières: Tokai / Toyo Graphite du Japon, SGL Graphite d'Allemagne

Surveillance du jumeau numérique: chaque composant est adapté à une base de données de paramètres de processus indépendante

Scénario d'application:

Fabrication de semi-conducteurs de troisième génération

Scénario: croissance épitaxiale de 6 pouces (contrôle d'épaisseur de 100-150))

Modèle compatible: Aixtron G5 WW / Crius II

En utilisant le haut collecteur enduit Aixtron SIC, le Centre de collecteur et le collecteur en revêtement SIC, la gestion thermique et la protection des produits chimiques dans les processus de fabrication de semi-conducteurs peuvent être obtenues, l'environnement de croissance du film peut être optimisé et la qualité et la cohérence du film peuvent être améliorées. La combinaison de ces composants dans l'équipement Aixtron assure des conditions de processus stables et une production efficace de semi-conducteurs.

Données SEM du film CVD SIC