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Carbure de tantale

Carbure de tantale

Vetek Semiconductor est un fabricant professionnel et leader de produits en carbure de tantale poreux en Chine. Le carbure de tantale poreux est généralement fabriqué par la méthode de dépôt de vapeur chimique (CVD), garantissant un contrôle précis de sa taille et de sa distribution de pores, et est un outil de matériau dédié à des environnements extrêmes à haute température. Bienvenue à votre nouvelle consultation.

Le carbure de tantalum poreux de semi-conducteur de vetek (TAC) est un matériau en céramique haute performance qui combine les propriétés du tantale et du carbone. Sa structure poreuse est très adaptée à des applications spécifiques en température élevée et en environnements extrêmes. TAC combine une excellente dureté, une stabilité thermique et une résistance chimique, ce qui en fait un choix de matériau idéal dans le traitement des semi-conducteurs.


Le carbure de tantale poreux (TAC) est composé de tantale (TA) et de carbone (C), dans lequel le tantale forme une forte liaison chimique avec des atomes de carbone, ce qui donne au matériau une durabilité et une résistance à l'usure. La structure poreuse du TAC poreuse est créée pendant le processus de fabrication du matériau, et la porosité peut être contrôlée en fonction des besoins d'application spécifiques. Ce produit est généralement fabriqué parDépôt de vapeur chimique (CVD)Méthode, assurant un contrôle précis de sa taille et de sa distribution de pores.


Molecular structure of Tantalum Carbide

Structure moléculaire du carbure de tantale


Le carbure de tantalum poreux Vetek Semiconductor (TAC) a les caractéristiques du produit suivantes


● Porosité: La structure poreuse lui donne différentes fonctions dans des scénarios d'application spécifiques, y compris la diffusion du gaz, la filtration ou la dissipation de chaleur contrôlée.

● Point de fusion élevé: Le carbure de tantale a un point de fusion extrêmement élevé d'environ 3 880 ° C, ce qui convient à des environnements à température extrêmement élevée.

● Excellente dureté: Le TAC poreux a une dureté extrêmement élevée d'environ 9-10 dans l'échelle de dureté MOHS, similaire au diamant. , et peut résister à l'usure mécanique dans des conditions extrêmes.

● Stabilité thermique: Le matériau en carbure de tantale (TAC) peut rester stable dans des environnements à haute température et a une forte stabilité thermique, garantissant ses performances cohérentes dans des environnements à haute température.

● Haute conductivité thermique: Malgré sa porosité, le carbure de tantale poreux conserve toujours une bonne conductivité thermique, assurant un transfert de chaleur efficace.

● Coefficient d'extension thermique faible: Le coefficient de dilatation thermique faible du carbure de tantale (TAC) aide le matériau à rester dimensionnellement stable sous des fluctuations de température significatives et réduit l'impact de la contrainte thermique.


Propriétés physiques du revêtement TAC


Propriétés physiques deRevêtement TAC
Densité de revêtement TAC
14.3 (g / cm³)
Émissivité spécifique
0.3
Coefficient de dilatation thermique
6.3 * 10-6/ K
Dureté de revêtement TAC (HK)
2000 HK
Résistance
1 × 10-5 oHM * CM
Stabilité thermique
<2500 ℃
Modifications de la taille du graphite
-10 ~ -20UM
Épaisseur de revêtement
Valeur typique ≥20UM (35UM ± 10UM)

Dans la fabrication de semi-conducteurs, le carbure de tantale (TAC) poreux joue le rôle clé spécifique suivants


Dans des processus à haute température tels quegravure du plasmaet CVD, le carbure de tantale poreux Vetek semi-conducteur est souvent utilisé comme revêtement protecteur pour l'équipement de traitement. Cela est dû à la forte résistance à la corrosion deRevêtement TACet sa stabilité à haute température. Ces propriétés garantissent qu'il protège efficacement les surfaces exposées à des gaz réactifs ou à des températures extrêmes, assurant ainsi la réaction normale des processus à haute température.


Dans les processus de diffusion, le carbure de tantale poreux peut servir de barrière de diffusion efficace pour empêcher le mélange des matériaux dans les processus à haute température. Cette caractéristique est souvent utilisée pour contrôler la diffusion des dopants dans des processus tels que l'implantation ionique et le contrôle de la pureté des plaquettes de semi-conducteur.


La structure poreuse du carbure de tantalum poreux semi-conducteur VETEK est très adapté aux environnements de traitement des semi-conducteurs qui nécessitent un contrôle ou une filtration précise du débit de gaz. Dans ce processus, le TAC poreux joue principalement le rôle de la filtration et de la distribution du gaz. Son inerté chimique garantit qu'aucun contaminant n'est introduit pendant le processus de filtration. Cela garantit efficacement la pureté du produit transformé.


Enrobage de carbure de tantale (TAC) sur une section transversale microscopique


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 41


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