Support de tranche de quartz de haute pureté

1. Principales caractéristiques et avantages

• Quartz fondu déshydroxylé de très haute pureté (SiO₂ ≥ 99,999 %) avec des impuretés métalliques contrôlées à des niveaux de ppb, minimisant ainsi la contamination des plaquettes

• Température de fonctionnement à long terme jusqu'à 1 100 °C ; résistance maximale à court terme jusqu'à 1200 °C

• Excellente résistance aux chocs thermiques et stabilité dimensionnelle sous des cycles de température fréquents

• Forte inertie chimique contre les gaz de procédé oxydants et les produits chimiques courants des procédés humides (HF, H₂O₂, acides/alcalis)

• Planéité élevée et surface rectifiée avec précision avec des bords arrondis pour un support uniforme des plaquettes et une réduction des dommages sur les bords

• Faible dégazage sous vide et faible adsorption de surface, adaptés aux processus de précision sous vide

• Structures entièrement personnalisables : supports solides, conceptions perforées/aérées, caractéristiques de positionnement étagées, trous de positionnement, supports multipoints et conceptions anti-déformation épaissies pour les tranches de 2 à 12 pouces

2. Applications typiques

Ces supports sont utilisés partout où les tranches nécessitent un support propre et dimensionnellement stable sous des températures élevées ou des produits chimiques agressifs :

• Chargement du four de diffusion et de recuit

• Prise en charge des processus de croissance de films PECVD et LPCVD

• Chambre à vide et outillage de traitement à haute température

• Supports de station de séchage post-gravure et de nettoyage humide

• Traitement thermique des dispositifs de puissance SiC et GaN

• Manipulation de substrats optoélectroniques et outils thermiques de laboratoire

3. Paramètres techniques clés

• Matériau de base : quartz fondu déshydroxylé de qualité semi-conducteur, SiO₂ ≥ 99,999 %

• Tailles de plaquettes compatibles : 2, 4, 6, 8 et 12 pouces (Si, SiC, GaN, saphir)

• Plage de température continue recommandée : −20 °C à 1 100 °C ; pic à court terme jusqu'à environ 1200 °C

• Voie de fabrication : formage d'une seule pièce, meulage de surface de précision, arrondi des bords, recuit de détente et nettoyage final ultra-propre

• Configurations disponibles : géométries solides, ventilées/perforées, à positionnement étagé, à motifs de trous et entièrement personnalisées

• Objectif performance : haute pureté, stabilité thermique, résistance à la corrosion, planéité de la surface, faible dégazage et rétention dimensionnelle à long terme

• Portée de la personnalisation : dimensions extérieures, épaisseur, géométrie du support, disposition des trous et caractéristiques spéciales basées sur les dessins du client

4. Pourquoi choisir les supports de plaquettes de quartz de haute pureté VeTek ?

En tant que fabricant professionnel de composants semi-conducteurs en quartz, VeTek Semiconductor propose :

• Supports de plaquettes de quartz de haute pureté conçus pour les environnements thermiques, sous vide et par voie humide

• Contrôle strict de la pureté, de la planéité et de la propreté des surfaces, adaptés à la production avancée de semi-conducteurs

• Personnalisation complète et conceptions compatibles OEM pour les outils de four, de chambre et de station de traitement

• Produits à base de quartz semi-conducteurs complémentaires, notamment des tubes de four, des bateaux à plaquettes, des creusets et d'autres composants de processus

Nos supports de plaquettes de quartz de haute pureté aident à maintenir un contact thermique uniforme, à réduire la contamination par les particules et les métaux et à prolonger la durée de vie des outils dans des conditions de processus corrosives et à haute température continues, ce qui permet un rendement plus élevé et un coût de possession inférieur dans la fabrication de semi-conducteurs.