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Felt doux de graphite de haute pureté
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Felt doux de graphite de haute pureté

Vetek Semiconductor est l'un des principaux fabricants et fournisseurs de graphite de haute pureté en feuilles de Chine. Le feutre doux en graphite de haute pureté est largement utilisé dans les champs semi-conducteurs, photovoltaïques et autres. Que le four à extinction à gaz à haute pression sous vide, la fournaise de frittage sous vide, le four à silicium monocristallé, le four à croissance en carbure de silicium et d'autres types de fournaises, peuvent fournir d'excellentes performances d'isolation thermique. Selon les besoins des utilisateurs, nous pouvons traiter diverses formes de feutre de graphite de haute pureté, la surface du produit peut également être un traitement de revêtement. Dans l'attente de votre demande.

Isolation de champ thermique Contexte d'application des matériaux en carbone


Soft graphite feltLes matériaux en carbone d'isolation de champ thermique sont recouverts de périphérie des composants fonctionnels du champ thermique et à l'intérieur de divers corps de fournaise, et sont principalement utilisés pour construire l'espace de champ thermique et l'isolation thermique. Bien que la fibre de carbone ait une conductivité thermique élevée, le matériau en fibre de carbone est un polymère en fibre de carbone lâche et poreux. Les fibres dépendent de la friction pour maintenir la forme du corps en feutre. Les fibres se chevauchent ensemble, ce qui est un contact ponctuel, ce qui réduit considérablement la chaleur transférée par le chemin de la conduction de la chaleur solide. Surtout dans les champs thermiques à haute température (comme supérieur à 800 ℃), l'intensité de rayonnement augmente et le rayonnement thermique devient la principale forme de transfert de chaleur. Les ondes de rayonnement se reflètent en continu entre les fibres et dissipées à l'intérieur du corps du feutre, atteignant ainsi l'effet de l'isolation thermique.


Le matériau d'isolation thermique le plus couramment utilisé est le graphite de haute pureté ressenti sous différentes formes. Le feutre doux en graphite de haute pureté est fait de fibres minces. La feuille molle en graphite de haute pureté douce est tissée dans des feuilles relativement minces, puis coupées dans la forme souhaitée et bien pliée dans un rayon raisonnable.


Classification en feutre doux en graphite de haute pureté


Selon les différentes matières premières utilisées, le feutre doux en graphite de haute pureté peut être divisé en trois catégories: Pan, à base de viscose et à base d'asphalte:

Catégorie
Caractéristiques
Champ d'application / taille du marché
Panoramique
Excellentes propriétés mécaniques, processus de production relativement simple
Principalement utilisé pour les matériaux structurels, avec un large éventail d'applications
viscose
Bonne résistance à l'ablation, difficulté technique élevée, équipement de production relativement complexe, rendement à faible carbonisation
Principalement utilisé pour les matériaux résistants à l'ablation et les matériaux d'isolation thermique
basé sur le terrain
Riches sources de matières premières, rendement en carbonisation élevée
Petite taille de marché

Application of VeTek semiconductor soft felt in SiC single crystal growth furnacePar rapport aux matériaux à base de PAN et à base d'asphalte, les matériaux en carbone à base de viscose ont de meilleures performances dans l'isolation thermique. Par conséquent, le graphite à haute pureté à base de viscose en feu doux est également le choix grand public pour les matériaux en carbone d'isolation de champ thermique à semi-conducteur et photovoltaïque.


Application du graphite de haute pureté Fonction douce dans la méthode Pvt


La méthode PVT est généralement utilisée pour cultiver un seul cristal en carbure de silicium dans l'industrie. La poudre SIC est remplie du fond du creuset en graphite, et le cristal de graines SIC est lié à l'intérieur du couvercle de creuset en graphite avec une certaine distance de la surface de la matière première, puis le creuset en graphite est placé dans le corps de chauffage du graphite dans son ensemble. En ajustant la température du feutre doux en graphite de haute pureté externe, la matière première SIC est placée dans la zone de température haute et le cristal de graines SIC est dans la zone à basse température en conséquence.


Illustration of an induction furnace using VeTek semiconductor soft feltDans ce processus, la zone de champ thermique composée du creuset et du matériau d'isolation thermique environnante est la zone la plus importante pour la croissance monocristalline SIC. La chambre de croissance de la croissance peut atteindre une température très élevée (jusqu'à 3000 ℃), à cette température élevée, semi-conductrice Vetek Semi-conductrice à haute pureté, le feutre doux peut résister à une température aussi élevée, et à une température aussi élevée ne réagit pas avec la sublimation SIC, avec une excellente performance d'isolation thermique, des performances d'isolation thermique pour garantir la croissance d'un cristal SIC de haute qualité.



Vetek Semiconductor à haute pureté graphite Soft Felt est un matériau d'isolation indispensable dans les fours à induction. Les fours à induction génèrent beaucoup de chaleur lorsqu'ils fonctionnent, et le graphite de haute pureté en feu doux a une faible conductivité thermique et une chaleur spécifique faible, ce qui peut assurer la stabilité et l'uniformité de la température dans le four et améliorer l'efficacité thermique de la fournaise. Dans le même temps, le feutre doux en graphite de haute pureté joue également un rôle dans l'étanchéité et l'isolation du corps du four à induction, empêchant la fuite de chaleur et de gaz dans la fournaise.


Fiche technique pour Vetek Semiconductor haute pureté à haute pureté graphite Soft Felt


Fiche technique pour Vetek Semiconductor haute pureté à haute pureté graphite Soft Felt
Indice
Unité
Série XF-C Felt doux
XF-008
XF-013
En rayonne
Panoramique
Densité
g / cm3
0.08-0.11
0.12-0.14
Résistance à la compression
MPA
\ \
Conductivité thermique (1000 ℃)
Avec m.k
0.15
0.24
Cendre (avant purifié)
ppm
≤200
≤500
Température de traitement

2400 ℃
2400 ℃
Température de service maximale

3000 ℃
3000 ℃
Dimension
MM
Largeur: ≤ 1600, épaisseur: 5-10
Application
Photovoltaïque, semi-conducteur, fournaise de frittage, four à métallurgical
Ce qui précède pour les produits standard. Si des produits de pureté ultra-élevée sont nécessaires, doivent être purifiés à ≤20 ppm.


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