Ald le supérieur

En tant que professionnelAld le supérieurfabricant en Chine, notre produitAld le supérieurLe contrôle de la température précis, la distribution uniforme des gaz et une excellente conductivité thermique et d'autres caractéristiques du produit déterminent queAld le supérieurjoue un rôle crucial dans le processus de dépôt de couche atomique (ALD). Rôle important, accueillez votre consultation.

Dépôt uniforme en couches minces: ALD Suscepteur assure un dépôt uniforme des couches atomiques sur toute la surface de la plaque pendant le processus de dépôt de couche atomique (ALD). Sa conception rotative unique permet aux gaz et aux réactifs de contacter uniformément la surface de la plaquette, entraînant une épaisseur de film uniforme. Ceci est essentiel pour la fabrication de semi-conducteurs de haute précision.

Améliorer la qualité du dépôt: En optimisant le contrôle de la température et la distribution des gaz, le suscepteur ALD améliore considérablement la qualité et les performances du film, réduisant les défauts et la non-uniformité. Cela le rend idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et d'appareils électroniques de haute précision, d'assurer la fiabilité et les performances des produits.

Prend en charge le traitement multi-wafer: Certaines conceptions de suscepteurs ALD permettent de traiter simultanément les tranches de plusieurs plaquettes, augmentant l'efficacité de la production. Ceci est particulièrement important pour les environnements de fabrication à haut débit, capables de répondre aux besoins de la production à grande échelle.

Accueille différentes tailles et types de plaquettes: Les suscepteurs ALD sont généralement conçus pour une compatibilité élevée et peuvent prendre en charge différentes tailles et types de plaquettes. Cela le rend efficace dans une variété de processus de production, offrant une plus grande flexibilité et adaptabilité.

Réduire les coûts de production: En raison de sa distribution efficace du gaz et de ses capacités de chauffage uniformes, le suscepteur ALD augmente l'efficacité du processus de dépôt, réduisant ainsi les déchets de matériaux et les coûts de production. Cela aide non seulement à améliorer l'efficacité de la production, mais aussi à réduire considérablement les coûts de fabrication.

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SIC:

Magasins de production:

Aperçu de la chaîne de l'industrie de l'épitaxie des puces semi-conductrices：