Sic revêtement ald suscepteur

It semi-conducteurSic revêtement ald suscepteurjoue un rôle vital dans le dépôt de couche atomique (Ald) processus. Son contrôle précis de la température, sa distribution uniforme des gaz, sa forte résistance chimique et son excellente conductivité thermique garantissent l'uniformité et la haute qualité du processus de dépôt de film. Si vous voulez en savoir plus, vous pouvez nous consulter immédiatement et nous vous répondrons à temps!

Contrôle de température précis:

Le revêtement SIC ALD Suscepteur a généralement un système de contrôle de la température de haute précision. Il est capable de maintenir un environnement de température uniforme tout au long du processus de dépôt, ce qui est crucial pour assurer l'uniformité et la qualité du film.

Distribution de gaz uniforme:

La conception optimisée du revêtement SIC ALD Suscepteur assure la distribution uniforme du gaz pendant le processus de dépôt ALD. Sa structure comprend généralement plusieurs pièces rotatives ou mobiles pour favoriser une couverture uniforme des gaz réactifs sur toute la surface de la plaquette.

Résistance chimique élevée:

Étant donné que le processus ALD implique une variété de gaz chimiques, le revêtement SIC ALD suscepteur est généralement composé de matériaux résistants à la corrosion (tels que le platine, la céramique ou le quartz de haute pureté) pour résister à l'érosion des gaz chimiques et à l'influence des environnements à haute température.

Excellente conductivité thermique:

Afin de mener efficacement la chaleur et de maintenir une température de dépôt stable, le revêtement SIC Les suscepteurs utilisent généralement des matériaux de conductivité thermique élevés. Cela permet d'éviter la surchauffe locale et le dépôt inégal.

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SIC:

Magasins de production:

Aperçu de la chaîne de l'industrie de l'épitaxie des puces semi-conductrices：