Crucible en carbone vitreux

1. Caractéristiques des matériaux: carbone vitreux non graphié, la performance dépasse les matériaux traditionnels dans tous les aspects

Le crucible en carbone vitreux de VetekSemicon adopte une technologie de frittage à haute température avancée et le précurseur du polymère est traité à 3000 ° C dans un environnement de gaz inerte. Il a à la fois la densité du verre et la résistance à haute température de la céramique.Les avantages de base incluent:

✔ Pureté ultra-élevée: Le contenu des impuretés est inférieur à 2 ppm (comme les impuretés métalliques telles que l'aluminium et le fer), qui répond aux besoins des matériaux de qualité semi-conducteurs.

✔ Résistance à la température extrême: Il peut être utilisé de manière stable jusqu'à 3000 ° C dans le vide ou le gaz inerte, et la résistance augmente avec l'augmentation de la température (la résistance à 2400 ° C est deux fois celle de la température normale).

✔ Porosité zéro et anti-perméabilité: Il n'y a pas de pores ouverts et le coefficient de perméabilité du gaz est aussi faible que 10⁻⁹ cm² / s, ce qui peut éviter l'oxydation ou la contamination du métal fondu.

✔ Excellente conductivité électrique et thermique: Conductivité thermique 6,3 W / (m · k), résistivité 45 µΩ · m, adaptée au processus de chauffage à induction à haute fréquence.

✔ Résistance à la corrosion chimique: Résistant à l'acide fort, à la forte corrosion alcaline et en fusion du sel, pas de dégagement de particules, garantissant la propreté de la production de semi-conducteurs.

2. Scénarios d'application de base dans le traitement des semi-conducteurs

Les produits de crucible en carbone vitreux de VetekSemicon couvrent les liens clés de l'ensemble du processus dans la fabrication de semi-conducteurs, y compris: y compris:

1) Croissance en silicium monocristalle:

Le revêtement isolant utilisé pour le four à croissance cristalline SIC, améliorant la stabilité du champ thermique et réduisant la consommation d'énergie de 20%.

Les caractéristiques de haute pureté évitent la contamination par le silicium et réduisent les défauts du réseau.

2) Processus d'implantation et de gravure ionique:

En tant qu'électrode et diffuseur de gaz pour le système de gravure du plasma, il assure une décharge uniforme et une cohérence des processus.

Les caractéristiques des bombardements anti-ions prolongent la durée de vie de l'équipement.

3) Métallisation et fusion d'alliage:

Le récipient idéal pour les alliages d'or fondu, de palladium et de titane, la surface non modérée réduit la perte de matériau.

Convient à la purification et au moulage de métaux rares très actifs (comme le gallium et l'indium).

Avertissement: Les creusets en carbone en verre ne peuvent pas être utilisés pour faire fondre les alliages de chrome-cobalt-molybdène. De même, ils ne peuvent pas être utilisés pour faire fondre un carbure facilement, comme le silicium ou le tungstène.

4) Emballage et test avancées:

En tant que support de transfert de plaquette (plaquette factice) et réflecteur de chaleur, il assure la stabilité des processus à haute température.

3. Force de production d'entreprise: fabrication à grande échelle et innovation technologique

En tant que premier fournisseur chinois de matières premières en carbone en verre, VetekSemicon a les avantages de base suivants:

✔ Production indépendante du processus complet

De la polymérisation des matières premières au frittage à haute température, l'ensemble du processus est contrôlable pour assurer la cohérence des lots.

La capacité de production de masse couvre des revêtements ultra-minces de 5 μm à de grandes creusets (comme le diamètre 132 mm, les spécifications de 273 mm de hauteur).

✔ Capacités de traitement personnalisées

Prend en charge la personnalisation de la taille non standard (telle que des creusets de forme spéciale, des tubes, des films), avec une précision de tolérance de ± 0,2 mm.

✔ Réserves de R&D technologique

Coopérez avec les institutions de recherche scientifique de l'Académie chinoise des sciences pour développer du carbone nano vitreux (résistance jusqu'à 3GPA) et élargir l'application d'équipements de semi-conducteurs miniaturisés.

Disposez des champs émergents tels que les plaques bipolaires à piles à combustible et les buses de queue aérospatiale pour favoriser l'innovation transfrontalière des matériaux.