Actualités de l'industrie

L'article explique le gradient de température dans une fournaise monocristallière. Il couvre les champs de chaleur statiques et dynamiques pendant la croissance cristalline, l'interface solide-liquide et le rôle du gradient de température dans la solidification.

Le processus Taiko rétracte des tranches de silicium en utilisant ses principes, ses avantages techniques et ses origines de processus.

Fournaise épitaxiale de 8 pouces et recherche de processus homoépitaxiaux

L'article analyse les propriétés matérielles des plaquettes de substrat semi-conducteur telles que le silicium, GaAs, SiC et GaN.

Cet article décrit principalement la technologie épitaxiale à basse température basée sur le GAN, notamment la structure cristalline des matériaux à base de GaN, 3. Exigences de technologie épitaxiale et solutions de mise en œuvre, les avantages de la technologie épitaxiale à basse température basée sur les principes PVD et les perspectives de développement de la technologie épitaxiale à basse température.

Cet article présente d'abord la structure moléculaire et les propriétés physiques du TAC, et se concentre sur les différences et les applications du carbure de tantale et du carbure de Tantalum CVD, ainsi que des produits de revêtement TAC populaires de Vetek Semiconductor.