Chuck de revêtement tac

Le mandrin de revêtement TAC de Vetek Semiconductor est la solution idéale pour obtenir des résultats exceptionnels dans le processus SIC EPI. Avec son revêtement en carbure de tantale, sa résistance à haute température et son inertie chimique, notre produit vous permet de produire des cristaux de haute qualité avec précision et fiabilité.

Le carbure de TAC Tantalum est un matériau couramment utilisé pour recouvrir la surface des parties internes de l'équipement épitaxial. Il a les caractéristiques suivantes:

● Excellente résistance à haute température: Le revêtement en carbure de tantale peut résister à des températures jusqu'à 2200 ° C, ce qui les rend idéales pour des applications dans des environnements à haute température tels que les chambres de réaction épitaxiale.

● Dureté élevée: La dureté du carbure de tantale atteint environ 2000 HK, ce qui est beaucoup plus difficile que l'alliage en acier inoxydable ou en aluminium couramment utilisé, ce qui peut prévenir efficacement l'usure en surface.

● Fort stabilité chimique: Le revêtement en carbure de tantale fonctionne bien dans des environnements chimiquement corrosifs et peut considérablement prolonger la durée de vie des composants de l'équipement épitaxial.

● Bonne conductivité électrique: La surface du revêtement a une bonne conductivité électrique, ce qui est propice à la libération électrostatique et à la conduction thermique.

Ces propriétés font du revêtement en carbure de TAC Tantalum un matériau idéal pour fabriquer des pièces critiques telles que les bagues internes, les murs de la chambre de réaction et les éléments de chauffage pour l'équipement épitaxial. En revêtir ces composants avec TAC, la performance globale et la durée de vie de l'équipement épitaxial peuvent être améliorées.

Pour l'épitaxie en carbure de silicium, le morceau de revêtement TAC peut également jouer un rôle important. Le revêtement de surface est lisse et dense, ce qui est propice à la formation de films en carbure de silicium de haute qualité. Dans le même temps, l'excellente conductivité thermique du TAC peut aider à améliorer l'uniformité de la distribution de température à l'intérieur de l'équipeÉpitaxial en carbure de siliciumCroissance de la couche.

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